光掩膜版用石英玻璃基板的退火工藝的制作方法
【技術領域】
[0001]本發明涉及石英玻璃領域，特別是涉及一種光掩膜版用石英玻璃基板的退火工
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【背景技術】
[0002]石英玻璃以其高純、高的光透過和低的熱膨脹等一系列優良的理化性能而成為一種重要的基礎材料，廣泛用于微電子、光纖通訊、激光、傳感技術等高新技術領域。
[0003]石英玻璃在生成及冷卻過程中由于溫差會產生熱應力，應力的存在說明玻璃結構還未達到穩定狀態，應力及其不均勻分布會大大降低石英玻璃的光學均勻性、機械強度和結構穩定性。光掩膜版用石英玻璃基板在加工制造過程中需要進行退火處理，但現有的退火工藝不能很好的消除應力作用，從而影響成品玻璃基板的使用性能。

【發明內容】

[0004]本發明主要解決的技術問題是提供一種光掩膜版用石英玻璃基板的退火工藝，能夠解決石英玻璃基板存在的上述問題。
[0005]為解決上述技術問題，本發明采用的一個技術方案是:提供一種光掩膜版用石英玻璃基板的退火工藝，包括如下步驟:
(1)加熱:將石英玻璃基板置于程序加熱爐內，以兩端式升溫速率快速升溫至1150?1200。。；
(2)時效處理:將步驟(1)中升溫后的石英玻璃基板恒溫保持一定時間；
(3)降溫:將步驟(2)中時效處理后的石英玻璃程序降溫至一定溫度，再關閉程序加熱爐的電源，隨爐冷卻至室溫。
[0006]在本發明一個較佳實施例中，所述步驟(1)中，所述兩段式升溫速率為:先以300?350°C /h的速率從室溫升溫至800°C，再以450?500°C /h的速率從800°C升溫至1150 ?1200。。。
[0007]在本發明一個較佳實施例中，所述步驟(2 )中，所述恒溫保持時間為15?20天。
[0008]在本發明一個較佳實施例中，所述步驟(3)中，所述程序降溫方式為:先以1?2°C /min的速率降溫至1000°C，再以2?4°C /min的速率降溫至850°C。
[0009]本發明的有益效果是:本發明一種光掩膜版用石英玻璃基板的退火工藝，可以有效消除石英玻璃片在制備過程中由于溫差產生的熱應力，從而改善其光學均勻性、機械強度和結構穩定性，提高石英玻璃片的質量和應用性能。
【具體實施方式】
[0010]下面結合對本發明的較佳實施例進行詳細闡述，以使本發明的優點和特征能更易于被本領域技術人員理解，從而對本發明的保護范圍做出更為清楚明確的界定。
[0011]本發明實施例包括: 實施例1
直徑40cm、厚度15cm的合成石英玻璃片的退火工藝，包括如下步驟:
(1)加熱:將石英玻璃基板置于程序加熱爐內，先以300?350°C/h的速率從室溫升溫至800°C，再以450?500°C /h的速率從800°C升溫至1150?1200°C ;
(2)時效處理:將步驟(1)中升溫后的石英玻璃基板恒溫保持15?20天；
(3)降溫:將步驟(2)中時效處理后的石英玻璃先以1?2V/min的速率程序降溫至1000°C，再以2?4°C /min的速率程序降溫至850°C，然后關閉程序加熱爐的電源，是石英玻璃隨爐冷卻至室溫，完成退火處理。
[0012]實施例2
直徑40cm、厚度15cm的合成石英玻璃片的退火工藝，包括如下步驟:
(1)加熱:將石英玻璃基板置于程序加熱爐內，先以300?350°C/h的速率從室溫升溫至800°C，再以450?500°C /h的速率從800°C升溫至1150?1200°C ;
(2)時效處理:將步驟(1)中升溫后的石英玻璃基板恒溫保持15?20天；
(3)降溫:將步驟(2)中時效處理后的石英玻璃先以1?2V/min的速率程序降溫至1000°C，再以2?4°C /min的速率程序降溫至850°C，然后關閉程序加熱爐的電源，是石英玻璃隨爐冷卻至室溫，完成退火處理。
[0013]以上所述僅為本發明的實施例，并非因此限制本發明的專利范圍，凡是利用本發明說明書內容所作的等效結構或等效流程變換，或直接或間接運用在其他相關的技術領域，均同理包括在本發明的專利保護范圍內。
【主權項】
1.一種光掩膜版用石英玻璃基板的退火工藝，其特征在于，包括如下步驟: (1)加熱:將石英玻璃基板置于程序加熱爐內，以兩端式升溫速率快速升溫至1150?1200。。； (2)時效處理:將步驟(1)中升溫后的石英玻璃基板恒溫保持一定時間； (3)降溫:將步驟(2)中時效處理后的石英玻璃程序降溫至一定溫度，再關閉程序加熱爐的電源，隨爐冷卻至室溫。2.根據權利要求1所述的光掩膜版用石英玻璃基板的退火工藝，其特征在于，所述步驟(1)中，所述兩段式升溫速率為:先以300?350°C /h的速率從室溫升溫至800°C，再以450?500 °C /h的速率從800 °C升溫至1150?1200 °C。3.根據權利要求1所述的光掩膜版用石英玻璃基板的退火工藝，其特征在于，所述步驟(2)中，所述恒溫保持時間為15?20天。4.根據權利要求1所述的光掩膜版用石英玻璃基板的退火工藝，其特征在于，所述步驟(3)中，所述程序降溫方式為:先以1?2°C /min的速率降溫至1000°C，再以2?4°C /min的速率降溫至850 °C。
【專利摘要】本發明公開了一種光掩膜版用石英玻璃基板的退火工藝，包括如下步驟：（1）加熱；（2）時效處理；（3）降溫。本發明一種光掩膜版用石英玻璃基板的退火工藝，可以有效消除石英玻璃片在制備過程中由于溫差產生的熱應力，從而改善其光學均勻性、機械強度和結構穩定性，提高石英玻璃片的質量和應用性能。
【IPC分類】C03B25/00
【公開號】CN105417939
【申請號】CN201510878336
【發明人】沈建興
【申請人】太倉市建興石英玻璃廠
【公開日】2016年3月23日
【申請日】2015年12月4日