銻摻雜氧化錫、紅外線吸收顏料、紅外線吸收油墨、印刷物及銻摻雜氧化錫的制造方法
【技術領域】
[0001] 本發明涉及，吸收紅外線的銻摻雜氧化錫、紅外線吸收顏料、紅外線吸收油墨、印 刷物及銻摻雜氧化錫的制造方法。
【背景技術】
[0002] 銻摻雜氧化錫（ATO)是含有少量的氧化銻的氧化錫，在以往，其常規的制造方法 是以水解性錫化合物與銻化合物為原料的共沉淀煅燒法。該方法中，通過同時將錫及銻的 化合物在同一溶液中水解（例如，通過中和），使錫與銻的各自的水合氧化物共沉淀。回 收該共沉淀物，洗滌除去附著的鹽之后，通過在400°C以上的條件下煅燒脫水從而成為氧化 物，得到ATO。通常為了抑制能量消耗，煅燒在封閉系統中進行。
[0003] 以往，銻摻雜氧化錫被用作透明導電材料。這種場合下，為了得到具有充分導電性 的透明導電材料，氧化銻的含量需要為約10重量％。
[0004] 例如，專利文獻1中所記載的導電性細粉末中，相對于氧化錫，以3~30重量％， 優選5~20重量％來添加氧化銻，通過專利文獻2中記載的制造方法得到的細粉末中，含 有5重量％或者10重量％的氧化銻。只是這些文獻中對于紅外線吸收效果沒有記載，也不 在其考慮之內。
[0005] 此外，因為銻摻雜氧化錫也具有紅外線吸收效果，所以也可以作為安全材料使用 (參照如專利文獻3)。專利文獻3的技術中，通過在油墨中添加銻摻雜氧化錫，可以制造透 明度高的紅外線吸收油墨。
[0006] 因此，根據專利文獻3的技術，可以與各種顏色的顏料相結合制造呈現出富于色 彩變化的紅外線吸收油墨。此外，因為銻摻雜氧化錫是無機顏料，所以可以提供一種耐光性 優異的紅外線吸收油墨。 現有技術文獻 專利文獻
[0007] 專利文獻1 :日本專利特開第2844012號公報 專利文獻2 :日本專利特開昭56-156606號公報 專利文獻3 :日本專利特開2010-6999號公報

【發明內容】
發明要解決的課題
[0008] 銻摻雜氧化錫是通過使作為主成分的氧化錫中含有氧化銻而制造出的。認為銻摻 雜氧化錫發揮紅外線吸收效果的原理是，通過使氧化銻固溶（進入）在作為主成分的氧化 錫的晶格中，從而形成吸收紅外線的晶體結構。
[0009] 因此，為了充分發揮紅外線吸收效果，相對于主成分氧化錫，需含有與其相當的氧 化銻。
[0010] 在這里，氧化銻舉例有化學物質排放轉移登記制度（PRTR)或者玩具安全標準書 等的對象物質。因此，氧化銻的使用量以盡可能少的為理想。
[0011] 但是，因認為氧化銻通過進入氧化錫的晶格中，發揮吸收紅外線的功能，所以只單 純降低其使用量時，會出現與其降低量相當的紅外線吸收效果下降的問題。
[0012] 因此，本發明的課題在于，提供一種在降低氧化銻的使用量的同時，也可以充分發 揮紅外線吸收效果的技術。 【解決課題的手段】
[0013] 為了解決上述課題，本發明采用以下解決方法：
[1] 一種銻摻雜氧化錫，所述銻摻雜氧化錫含有氧化錫與氧化銻，且滿足下述（a)和/ 或（b): (a) 通過X射線衍射測定得到的2 0 = 27°附近的半寬度（A2 0 )在0. 35以下； 和/或 (b) 以所述銻摻雜氧化錫的重量為基準，所述氧化銻的含量為0. 5~10. 0重量％，并 且，通過X射線衍射測定得到的2 0 = 27°附近的峰的峰值除以半寬度（A2 0 )所得值為 結晶度，該值在18092以上。
[2] 根據[1]所述的銻摻雜氧化錫，所述（a)中，所述半寬度（A2 0)在0.21以下。
[3] 根據[1]所述的銻摻雜氧化錫，所述（b)中，以所述銻摻雜氧化錫的重量為基準，所 述氧化銻的含量為2. 8~9. 3重量％。
[4] 根據[1]所述的銻摻雜氧化錫，所述結晶度在58427以上。
[5] 根據[1]所述的銻摻雜氧化錫，所述結晶度在78020以上。
[6] 根據[1]所述的銻摻雜氧化錫，將所述銻摻雜氧化錫溶解在含有丙烯酸聚合物以 及聚硅氧烷的清漆中，涂敷在基材上并干燥，形成涂膜，所述涂膜具有70ym的厚度以及 11. 6重量％的所述銻摻雜氧化錫的固體成分重量比，依據JISK5602測定所述涂膜的日光 反射率時，380~780nm的波長區域中的平均反射率減去780~llOOnm的波長區域中的平 均反射率得到的值，為3. 00%以上。
[7] -種紅外線吸收顏料，由[1]~[6]的任一項所述的銻摻雜氧化錫形成。
[8] -種紅外線吸收油墨，含有[7]所述的紅外線吸收顏料。
[9] 一種印刷物，其具有通過[8]所述的紅外線吸收油墨印刷出的印刷部。
[10] 根據[9]所述的印刷物，所述印刷部中含有的銻摻雜氧化錫的固體成分重量比為 11. 6重量％時，780~llOOnm的紅外線波長區域中的反射率的峰值在28. 776%以下。
[11] 一種銻摻雜氧化錫的制造方法，其含有在通氣條件下煅燒銻摻雜氧化錫原料的通 氣煅燒工序。
[12] 根據[11]所述的方法，在所述通氣煅燒工序之后，含有在200[°C/小時]以上的 冷卻速度下冷卻所述銻摻雜氧化錫的冷卻工序。
[13] 根據[11]或[12]所述的方法，其含有在所述通氣煅燒工序前，將錫化合物與銻化 合物混合，得到混合物的混合工序；以及在封閉系統中煅燒混合物，得到所述銻摻雜氧化錫 原料的封閉煅燒工序。
[14] 根據[13]所述的方法，在所述封閉煅燒工序與所述通氣煅燒工序之間，含有在封 閉系統中冷卻所述銻摻雜氧化錫原料的封閉冷卻工序。 發明效果
[0014] 根據本發明，因為其通過提高銻摻雜氧化錫的結晶性，可以提高紅外線吸收效果， 所以即使降低氧化銻的使用量，也可以充分發揮紅外線吸收效果。
【附圖說明】
[0015] 【圖1】圖1是顯示本發明制造銻摻雜氧化錫的方法的一個方式的工序圖。 【圖2】圖2(A)是顯示實施例1的銻摻雜氧化錫（氧化銻含量0. 7重量％、通氣煅燒?冷 卻）的X射線衍射結果的圖，圖2 (B)是顯示實施例2的銻摻雜氧化錫（氧化銻含量2. 8重 量％、通氣煅燒?冷卻）的X射線衍射結果的圖。 【圖3】圖3 (A)是顯示實施例3的銻摻雜氧化錫（氧化銻含量5. 3重量％、通氣煅燒?冷 卻）的X射線衍射結果的圖，圖3 (B)是顯示實施例4的銻摻雜氧化錫（氧化銻含量9. 3重 量％、通氣煅燒?冷卻）的X射線衍射結果的圖。 【圖4】圖4(A)是顯示實施例5的銻摻雜氧化錫（市售品的通氣煅燒?冷卻，200[°C/ 小時]以上的冷卻速度，氧化銻含量2. 7重量％)的X射線衍射結果的圖，圖4(B)是顯示 實施例6的銻摻雜氧化錫（市售品的通氣煅燒?冷卻，不足200[°C/小時]的冷卻速度，氧 化銻含量2. 7重量％、通氣煅燒?冷卻）的X射線衍射結果的圖。 【圖5】圖5是顯示實施例7的銻摻雜氧化錫（偏錫酸與三氧化銻的混合物的通氣煅 燒?冷卻，氧化銻含量4. 2重量％ )的X射線衍射結果的圖。 【圖6】圖6(A)是顯示比較例1的銻摻雜氧化錫（氧化銻含量9.9重量％，市售品）的X射線衍射結果的圖，圖6(B)是顯示比較例2的銻摻雜氧化錫（氧化銻含量2. 8重量％、通 氣煅燒?不冷卻）的X射線衍射結果的圖。 【圖7】圖7是簡要顯示結晶度的計算方法的概念圖。 【圖8】圖8是200nm~2500nm的波長下，氧化銻含量對反射率影響的圖表。 【圖9】圖9是200nm~2500nm的波長以及2. 7~2. 8重量％的氧化銻含量下，通氣煅 燒工序對反射率影響的圖表。 【圖10】圖10是200nm~2500nm的波長下，通氣煅燒工序對市售的銻摻雜氧化錫原料 的反射率以及銻含量的影響的圖表。 【圖11】圖11是200nm~2500nm的波長下，通氣煅燒工序對偏錫酸與三氧化銻的混合 物的反射率的影響的圖表。
【具體實施方式】
[0016] 以下對本發明的銻摻雜氧化錫、紅外線吸收顏料、紅外線吸收油墨、印刷物及銻摻 雜氧化錫的制造方法的實施方式進行說明。
[0017] 本發明的銻摻雜氧化錫含有氧化錫與氧化銻。以銻摻雜氧化錫的重量為基準，氧 化銻的含量優選約0. 5重量％以上，約1. 0重量％以上，約1. 5重量％以上，約2. 0重量％ 以上，約2. 5重量％以上，或者約2. 8重量％以上，此外，該含量優選約10. 0重量％以下，約 9. 5重量％以下，約9. 3重量％以下，約8.0重量％以下，約7.0重量％以下，約6.0重量％ 以下，約5. 5重量％以下，約5. 0重量％以下，約4. 0重量％以下，約3. 5重量％以下，或者 約3. 0重量％以下。此外，以銻摻雜氧化錫的重量為基準，氧化銻的含量更優選約2. 5~約 9. 3重量％，約2. 8~約9. 3重量％，約2. 8~約5. 5重量％，或者約2. 8~約3. 5重量％。
[0018] 以往的銻摻雜氧化錫為了得到具有充分導電性的透明導電材料，必須含有超過10 重量％的氧化銻。另一方面，如上所述，本發明的銻摻雜氧化錫與以往的銻摻雜氧化錫相 比，可以降低氧化銻的使用量。
[0019] 但是，因認為氧化銻通過進入氧化錫的晶格中，發揮吸收紅外線的作用，所以只單 純降低其使用量時，其紅外線吸收效果也會相應地下降。
[0020] 因此，本發明的銻摻雜氧化錫為了抑制紅外線吸收效果的降低，X射線衍射測定得 到的2 0 = 27°附近的半寬度（A2 0)在0.35以下，并且/或者通過X射線衍射測定得到 的2 0 = 27°附近的峰的峰值除以半寬度（A2 0 )所得值為結晶度，其在18092以上。
[0021] 氧化銻固溶（進入）在作為主成分的氧化錫晶格中，其所產生的效果即為紅外線 吸收效果。即，制造銻摻雜氧化錫時，其主成分氧化錫中含有氧化銻。
[0022] 因此，適當地將氧化銻固溶在氧化錫晶格中時，通過使本發明的銻摻雜氧化錫維 持適當的晶體結構，即使銻摻雜氧化錫中只含有微量的氧化銻（例如，至少0.5重量％)，也 可以發揮紅外線吸收效果。此時，例如，X射線衍射測定中，2 0 = 27°附近觀測到尖銳的 峰。
[0023] 另一方面，像例如以往的銻摻雜氧化錫中，如果氧化錫晶格中未固溶的氧化銻以 雜質的形式存在，則認為該雜質對紅外線吸收效果無益。
[0024] 此時，對紅外線吸收效果無益的部分的氧化銻作為未利用的原料（雜質）就那樣