一種拋光機的水冷下拋光盤結構的制作方法
【專利摘要】本發明是一種拋光機的水冷下拋光盤結構，包括下盤工作盤，在所述下盤工作盤的一端側設有下盤基盤，所述下盤基盤與下盤工作盤之間的結合面處形成冷卻腔，在下盤基盤上分別設有與冷卻腔連通的進水口和出水口。本發明的水冷結構避免了冷卻水走捷徑，只有在冷卻水充滿腔體后才能從出水口流出，確保了冷卻水能對拋盤進行充分冷卻，及時帶走因加工而產生的熱量，對拋盤起到了強制冷卻的作用，較傳統的被動式冷卻更可靠，并可以結合精密的測溫系統及冷卻水流量調節系統，實現拋盤溫度的精密控制。
【專利說明】
一種拋光機的水冷下拋光盤結構
技術領域
[0001]本發明涉及硅片拋光機技術領域，具體涉及一種拋光機的水冷下拋光盤結構。
【背景技術】
[0002]用于拋光機的下拋光盤，由于在拋光過程中會產生大量的熱，溫度的變化必然會導致拋光盤發生形變，進而影響加工質量，因此必須嚴格控制拋光盤的溫度。近年來IC芯片硅片的尺寸趨向大直徑化，對硅片的質量要求也越來越嚴，對于用來進行硅片及其它高精度薄脆材料雙面拋光加工的拋光設備，必須嚴格控制拋盤的形變。
[0003]此前生產的雙面拋光機的拋盤采用整體式結構，沒有進行專門溫度控制的裝置，拋光加工過程中所產生的熱量主要靠拋光液帶走，屬于被動式冷卻，拋盤溫度的變化不可控。傳統的設備也大多應用在非IC行業，對下盤的溫度控制要求不高，而IC行業對硅片的要求比較高，對上下拋光盤進行精密溫度控制是必需的，因此必須采用新的下盤結構，以便對拋盤進行冷卻，達到溫度精確控制的目的。

【發明內容】

[0004]本發明的目的在于克服現有技術存在的問題，提供一種拋光機的水冷下拋光盤結構，在拋盤內部強制通冷卻介質，對下拋光盤進行強制冷卻，實現拋盤溫度的精密控制，達到控制拋盤變形的目的。
[0005]為實現上述技術目的，達到上述技術效果，本發明通過以下技術方案實現:
一種拋光機的水冷下拋光盤結構，包括下盤工作盤，在所述下盤工作盤的一端側設有下盤基盤，所述下盤基盤與下盤工作盤之間的結合面處形成冷卻腔，在下盤基盤上分別設有與冷卻腔連通的進水口和出水口。
[0006]進一步的，所述冷卻腔由扇形冷卻腔上設置的多個內凹的扇形區域腔組成，所述扇形區域腔內布設有水冷通道。
[0007]進一步的，所述水冷通道由每個扇形區域腔內設置的凸出的分隔筋、以及與分隔筋相向錯位設置的凸出筋之間的間隙組成。
[0008]進一步的，在所述下盤基盤與下盤工作盤結合面的另一側設有下分水盤，所述下分水盤上分別設有進水孔和回水孔，所述進水孔通過下盤基盤上設置的進水槽連通進水口，所述回水孔通過下盤基盤上設置的回水槽連通出水口。
[0009]進一步的，所述上盤水冷盤與上盤工作盤之間由設在分隔筋上的連接螺釘連接在一起。
[0010]進一步的，所述下盤工作盤與下盤基盤之間結合面的外圈設有外圈密封圈，下盤工作盤與下盤基盤之間結合面的內圈設有內圈密封圈。
[0011]本發明的有益效果是:
本發明的水冷結構避免了冷卻水走捷徑，只有在冷卻水充滿腔體后才能從出水口流出，確保了冷卻水能對拋盤進行充分冷卻，及時帶走因加工而產生的熱量，對拋盤起到了強制冷卻的作用，較傳統的被動式冷卻更可靠，并可以結合精密的測溫系統及冷卻水流量調節系統，實現拋盤溫度的精密控制。
【附圖說明】
[0012]圖1為本發明的結構示意圖；
圖2為圖1的A-A剖視圖；
圖3為圖1的B-B剖視圖。
[0013]圖中標號說明:1、連接螺釘;2、下分水盤;21、進水孔;22、回水孔;3、冷卻腔;31、扇形區域腔；32、水冷通道;33、分隔筋；34、凸出筋;4、外圈密封圈；5、出水口；6、回水管；7、下盤工作盤;8;進水口；9、下盤基盤;91、進水槽;92、回水槽;10、內圈密封圈。
【具體實施方式】
[0014]下面將參考附圖并結合實施例，來詳細說明本發明。
[0015]參照圖1至圖3所示，一種拋光機的水冷下拋光盤結構，包括下盤工作盤7，在所述下盤工作盤7的一端側設有下盤基盤9，所述下盤基盤9與下盤工作盤7之間的結合面處形成冷卻腔3，在下盤基盤9上分別設有與冷卻腔3連通的進水口 8和出水口 5。
[0016]所述冷卻腔3由扇形冷卻腔3上設置的多個內凹的扇形區域腔31組成，所述扇形區域腔31內布設有水冷通道32。
[0017]所述水冷通道32由每個扇形區域腔31內設置的凸出的分隔筋33、以及與分隔筋33相向錯位設置的凸出筋34之間的間隙組成。
[0018]在所述下盤基盤9與下盤工作盤7結合面的另一側設有下分水盤2，所述下分水盤2上分別設有進水孔21和回水孔22，所述進水孔21通過下盤基盤9上設置的進水槽91連通進水口 8，所述回水孔22通過下盤基盤9上設置的回水槽92連通出水口 5。
[0019]所述上盤水冷盤5與上盤工作盤7之間由設在分隔筋33上的連接螺釘I連接在一起。
[0020]所述下盤工作盤7與下盤基盤9之間結合面的外圈設有外圈密封圈4，下盤工作盤7與下盤基盤9之間結合面的內圈設有內圈密封圈10。
[0021]本發明原理
本發明在下分水盤2的進水孔21處，將冷卻水引入下盤基盤9內的進水槽91，通過進水槽91內的進水口 8進入冷卻腔3，對下盤工作盤7進行冷卻;在出水口 5處的回水管6的高度高于復合盤體的結合面，冷卻水必須完全充滿腔體3后才能從出水口5經由回水管6流出，進入回水槽92，再流入回水孔22，能確保拋盤能得到充分的冷卻。
[0022]此外，需要說明的是，除非特別說明或者指出，否則說明書中的術語“第一”、“第二”、“第三”等描述僅僅用于區分說明書中的各個組件、元素、步驟等，而不是用于表示各個組件、元素、步驟之間的邏輯關系或者順序關系等。
[0023]以上所述僅為本發明的優選實施例而已，并不用于限制本發明，對于本領域的技術人員來說，本發明可以有各種更改和變化。凡在本發明的精神和原則之內，所作的任何修改、等同替換、改進等，均應包含在本發明的保護范圍之內。
【主權項】
1.一種拋光機的水冷下拋光盤結構，包括下盤工作盤(7)，其特征在于，在所述下盤工作盤(7)的一端側設有下盤基盤(9)，所述下盤基盤(9)與下盤工作盤(7)之間的結合面處形成冷卻腔(3)，在下盤基盤(9)上分別設有與冷卻腔(3)連通的進水口(8)和出水口(5)。2.根據權利要求1所述的拋光機的水冷下拋光盤結構，其特征在于，所述冷卻腔(3)由扇形冷卻腔(3)上設置的多個內凹的扇形區域腔(31)組成，所述扇形區域腔(31)內布設有水冷通道(32)。3.根據權利要求2所述的拋光機的水冷下拋光盤結構，其特征在于，所述水冷通道(32)由每個扇形區域腔(31)內設置的凸出的分隔筋(33)、以及與分隔筋(33)相向錯位設置的凸出筋(34)之間的間隙組成。4.根據權利要求3所述的拋光機的水冷下拋光盤結構，其特征在于，在所述下盤基盤(9)與下盤工作盤(7)結合面的另一側設有下分水盤(2)，所述下分水盤(2)上分別設有進水孔(21)和回水孔(22)，所述進水孔(21)通過下盤基盤(9)上設置的進水槽(91)連通進水口(8)，所述回水孔(22)通過下盤基盤(9)上設置的回水槽(92)連通出水口(5)。5.根據權利要求3所述的拋光機的水冷下拋光盤結構，其特征在于，所述上盤水冷盤(5 )與上盤工作盤(7 )之間由設在分隔筋(33 )上的連接螺釘(I)連接在一起。6.根據權利要求4所述的拋光機的水冷下拋光盤結構，其特征在于，在所述回水槽(92)與出水口(5)之間設有回水管(6)，所述回水管(6)的高度高于下盤基盤(9)與下盤工作盤(7)之間的結合面。7.根據權利要求1所述的拋光機的水冷下拋光盤結構，其特征在于，所述下盤工作盤(7)與下盤基盤(9)之間結合面的外圈設有外圈密封圈(4)，下盤工作盤(7)與下盤基盤(9)之間結合面的內圈設有內圈密封圈(10)。
【文檔編號】B24B41/047GK106078521SQ201610566982
【公開日】2016年11月9日
【申請日】2016年7月19日
【發明人】喬衛民, 李方俊, 翟新, 馬艷
【申請人】蘇州赫瑞特電子專用設備科技有限公司