一種拋光機的水冷下拋光盤結構的制作方法
【專利摘要】本發明公開了一種拋光機的水冷下拋光盤結構，包括下盤工作盤，所述下盤工作盤的下方設有水冷盤，所述水冷盤與所述下盤工作盤之間設有冷卻腔，所述水冷盤上設有進水口和出水口，所述水冷盤上設有扇形冷卻腔，所述扇形冷卻腔內設有分流筋。本發明采用特殊的水冷盤結構避免了冷卻水走捷徑，只有在冷卻水充滿腔體后才能從出水口流出，確保了冷卻水能對拋盤進行充分冷卻，及時帶走因加工而產生的熱量，對拋盤起到了強制冷卻的作用，較傳統的被動式冷卻更可靠；結合精密的測溫系統及冷卻水流量調節系統，實現了拋盤溫度的精密控制。
【專利說明】
一種拋光機的水冷下拋光盤結構
技術領域
[0001 ]本發明涉及拋光機的結構，具體涉及一種拋光機的水冷下拋光盤結構。
【背景技術】
[0002]用于拋光機的下拋光盤，由于在拋光過程中會產生大量的熱，溫度的變化必然會導致拋光盤發生形變，進而影響加工質量，因此必須嚴格控制拋光盤的溫度。近年來IC芯片硅片的尺寸趨向大直徑化，對硅片的質量要求也越來越嚴，對于用來進行硅片及其它高精度薄脆材料單面拋光加工的拋光設備，必須嚴格控制拋盤的形變。
[0003]此前生產的單面拋光機的下拋盤也配有水冷盤，冷卻效果不好，拋盤溫度的變化不可控。傳統的設備也大多應用在非IC行業，對下盤的溫度控制要求不高，而IC行業對硅片的要求比較高，對上下拋光盤進行精密溫度控制是必需的，因此必須采用新的下盤結構，以便對拋盤進行冷卻，達到溫度精確控制的目的。

【發明內容】

[0004]本發明的目的在于克服現有技術存在的問題，提供一種涉及藍寶石、硅片、鍺片、計算機磁盤基片以及光學材料等金屬，非金屬硬脆材料的單面拋光機水冷下拋光盤結構，在拋盤內部強制通冷卻介質，對下拋光盤進行強制冷卻，實現拋盤溫度的精密控制，達到控制拋盤變形的目的。
[0005]為實現上述技術目的，達到上述技術效果，本發明通過以下技術方案實現:
一種拋光機的水冷下拋光盤結構，包括下盤工作盤，所述下盤工作盤的下方設有水冷盤，所述水冷盤與所述下盤工作盤之間設有冷卻腔，所述水冷盤上設有進水口和出水口，所述水冷盤上設有扇形冷卻腔，所述扇形冷卻腔內設有分流筋。
[0006]進一步的，所述水冷盤與所述下盤工作盤之間的外圈設有外圈密封圈，內圈設有內圈密封圈。
[0007]優選的，所述水冷盤的內部中間位置設有分水盤，所述分水盤的兩端分別設有進水槽和回水槽，所述回水槽上設有回水管，所述分水盤與所述下盤工作盤之間通過設在所述分流筋上的鏈接螺釘連接。
[0008]進一步的，所述進水口和所述出水口分別與所述冷卻腔連通。
[0009]進一步的，所述扇形冷卻腔有12個，且是下凹的，所述分流筋是樹葉型的。
[0010]進一步的，所述進水口與進水槽相通，所述出水口與回水槽相通。
[0011]本發明的有益效果:
本發明本發明采用特殊的水冷盤結構避免了冷卻水走捷徑，只有在冷卻水充滿腔體后才能從出水口流出，確保了冷卻水能對拋盤進行充分冷卻，及時帶走因加工而產生的熱量，對拋盤起到了強制冷卻的作用，較傳統的被動式冷卻更可靠;結合精密的測溫系統及冷卻水流量調節系統，實現了拋盤溫度的精密控制。
【附圖說明】
[0012]圖1是本發明拋光機的水冷下拋光盤結構的結構示意圖；
圖2是本發明拋光機的水冷下拋光盤結構的機構的剖視圖A-A。
[0013]圖中:1、水冷盤，2、外圈密封圈，3、下盤工作盤，4、冷卻腔，5、內圈密封圈，6、進水口，7、扇形冷卻腔，8、出水口，9、分流筋，1、分水盤，11、連接螺釘，12、回水管。
【具體實施方式】
[0014]下面將參考附圖并結合實施例，來詳細說明本發明。
[0015]參照圖1和圖2所示，一種拋光機的水冷下拋光盤結構，包括下盤工作盤3，所述下盤工作盤3的下方設有水冷盤I，所述水冷盤I與所述下盤工作盤3之間設有冷卻腔4，所述水冷盤I上設有進水口 6和出水口 8，所述水冷盤I上設有扇形冷卻腔7，所述扇形冷卻腔7內設有分流筋9。
[0016]進一步的，所述水冷盤I與所述下盤工作盤3之間的外圈設有外圈密封圈2，內圈設有內圈密封圈5。
[0017]優選的，所述水冷盤I的內部中間位置設有分水盤10，所述分水盤10的兩端分別設有進水槽1001和回水槽1002，所述回水槽1002上設有回水管12，所述分水盤10與所述下盤工作盤3之間通過設在所述分流筋9上的鏈接螺釘11連接。
[0018]進一步的，所述進水口6和所述出水口8分別與所述冷卻腔4連通。
[0019]進一步的，所述扇形冷卻腔7有12個，且是下凹的，所述分流筋9是樹葉型的。
[0020]進一步的，所述進水口 6與進水槽1001相通，所述出水口 8與回水槽1002相通。
[0021]本發明的原理:
本發明下拋光盤均采用復合雙層結構，為中空結構，上層為下盤工作盤3，下層為水冷盤I，中間可通冷卻水。水冷盤I設有十二個獨立的扇形冷卻腔7，內布水冷通道，采用獨特的循環通道，將冷卻水引入進水口 6，進入冷卻腔4，對下盤工作盤3進行冷卻，且在進水口6處裝有水管將冷卻水由盤體內側導向盤體外側，保證了冷卻水經過的回路較長而不走捷徑，且出水口 8出的回水管12的高度高于復合盤體的結合面，冷卻水必須完全充滿冷卻腔4后才能從出水口8經由回水管12流出，確保拋盤能得到充分的冷卻，盤體內外側結合面裝以及螺釘連接處裝有密封圈，用于防止泄露。
[0022]以上所述僅為本發明的優選實施例而已，并不用于限制本發明，對于本領域的技術人員來說，本發明可以有各種更改和變化。凡在本發明的精神和原則之內，所作的任何修改、等同替換、改進等，均應包含在本發明的保護范圍之內。
【主權項】
1.一種拋光機的水冷下拋光盤結構，其特征在于，包括下盤工作盤(3)，所述下盤工作盤(3 )的下方設有水冷盤(I)，所述水冷盤(I)與所述下盤工作盤(3 )之間設有冷卻腔(4)，所述水冷盤(I)上設有進水口( 6)和出水口( 8)，所述水冷盤(I)上設有扇形冷卻腔(7 )，所述扇形冷卻腔(7)內設有分流筋(9)。2.根據權利要求1所述的拋光機的水冷下拋光盤結構，其特征在于，所述水冷盤(I)與所述下盤工作盤(3)之間的外圈設有外圈密封圈(2)，內圈設有內圈密封圈(5)。3.根據權利要求1所述的拋光機的水冷下拋光盤結構，其特征在于，所述水冷盤(I)的內部中間位置設有分水盤(10)，所述分水盤(10)的兩端分別設有進水槽(1001)和回水槽(1002)，所述回水槽(1002)上設有回水管(12)，所述分水盤(10)與所述下盤工作盤(3)之間通過設在所述分流筋(9)上的鏈接螺釘(11)連接。4.根據權利要求1所述的拋光機的水冷下拋光盤結構，其特征在于，所述進水口(6)和所述出水口(8)分別與所述冷卻腔(4)連通。5.根據權利要求1所述的拋光機的水冷下拋光盤結構，其特征在于，所述扇形冷卻腔(7)有12個，且是下凹的，所述分流筋(9)是樹葉型的。6.根據權利要求1所述的拋光機的水冷下拋光盤結構，其特征在于，所述進水口(6)與進水槽(1001)相通，所述出水口(8)與回水槽(1002)相通。
【文檔編號】B24B55/02GK106064350SQ201610601957
【公開日】2016年11月2日
【申請日】2016年7月28日
【發明人】喬衛民, 翟新, 李方俊, 馬艷
【申請人】蘇州赫瑞特電子專用設備科技有限公司