耐污漬留存的燒煮表面以及包含這種燒煮表面的烹飪制品或家用電器具的制作方法
【專利摘要】本發明涉及用于燒煮用家用電器具或烹飪制品的食物燒煮表面，其由在基材上的金屬元素的氮化物的沉積物構成，所述沉積物的金屬元素包含一種或多種過渡金屬X以及鋁，所述沉積物的制造包括氮化步驟以獲得(X,Al)N類型的涂層。根據本發明，(X,Al)N類型的涂層是富含鋁的該一種或多種過渡金屬X的一種或多種氮化物的涂層，其中鈮和/或鋯在該一種或多種過渡金屬X當中占多數，并且在所述沉積物的金屬元素中的鋁原子比例為至少等于20％。本發明還涉及旨在燒煮食物的烹飪制品或家用電器具，其包含上述類型的燒煮表面。
【專利說明】耐污漬留存的燒煮表面以及包含這種燒煮表面的烹飪制品或家用電器具
【技術領域】
[0001]本發明涉及旨在燒煮食物的家用電器具和烹飪制品的領域，并且更特別地涉及這些家用電器具或烹飪制品與待處理食物接觸的燒煮(CUisson)表面。
[0002]本發明旨在改善硬燒煮表面,其可借助于研磨球團(tampon abrasif)進行清潔而不會導致形成劃痕。
【背景技術】
[0003]不銹鋼通常被用來制造燒煮表面。但是，不銹鋼所具有的硬度不足以耐受利用研磨球團進行的清潔。而且，這些材料具有在燒煮時留存污潰的現象，以及在燒煮時粘掛食物的現象。
[0004]專利申請FR2848797、FR2883150和FR2897250公開了比不銹鋼更硬的燒煮表面。這些表面在它們作為食物燒煮表面使用之后尤其具有相對容易清潔的性能，這種清潔便利性可通過便于去掉燒煮表面上的碳化成分的可能性來表示。不過在與某些食物接觸的這類燒煮表面上觀察到污潰留存現象。這種污潰留存現象發生在具有各種組成和結構的沉積物上，而在所述沉積物之前進行的表面制備并不改善污潰的出現和/或寬度。對這種現象的分析尤其顯示出，這些污潰基本上在以動物油脂燒煮時由于油脂與表面的反應和/或表面的氧化而形成。
[0005]專利申請FR2 956310公開了用于燒煮用烹飪制品或家用電器具的食物燒煮表面，其由在基材上的Zr和/或Nb和/或Ti的沉積物構成，其制造包括至少一種元素的碳化和/或氮化的步驟，這種燒煮表面還包含Si的沉積物以獲得涂層(Zr/Nb/Ti)-S1-(N/C)。已經觀察到，在上述過渡金屬的沉積物中Si的存在使得能夠少許改善如此獲得的燒煮表面的耐污潰留存性。但是，這種組成并不能有效地對抗產生燒煮表面的污潰留存的氧化現象，尤其是當在升高的溫度下進行燒煮時。而且，這些涂層在燒煮某些食物(例如尤其是土豆或魚)時仍有粘附的現象。因此，這些燒煮表面的清潔仍不能令人滿意。

【發明內容】

[0006]本發明的目的在于提供具有良好耐劃痕性的燒煮表面，其還具有良好的耐污潰留存(tachage)性。
[0007]本發明的另一目的在于提供具有良好的清潔便利性的燒煮表面，其也是隨時間持久的。
[0008]本發明的另一目的在于提供燒煮時在其上食物粘附不顯著的燒煮表面。
[0009]本發明的又一目的在于提供其顏色和外觀保持穩定的燒煮表面。
[0010]這些目的利用一種用于燒煮用家用電器具或烹飪制品的食物燒煮表面，其由在基材上的金屬元素的氮化物的沉積物構成，所述沉積物的金屬元素包含一種或多種過渡金屬X以及鋁，所述沉積物的制造包括氮化步驟以獲得(X，A1)N類型的涂層，因為(X，A1)N類型的涂層是一種富含鋁的該一種或多種過渡金屬X的一種或多種氮化物的涂層，其中鈮和/或鋯在該一種或多種過渡金屬X當中占多數，并且在所述沉積物的金屬元素中的鋁原子比例為至少等于20%。
[0011]表述“(X，Al) N類型的涂層”被理解為是指包含該一種或多種過渡金屬X以及鋁的氮化涂層，氮化步驟在所述金屬元素的沉積過程中或者之后發生。因而，形成燒煮表面的沉積物的表面層是富含鋁的該一種或多種過渡金屬X的氮化物。表述“富含鋁的該一種或多種過渡金屬X的氮化物”被理解為是指以下這樣的涂層，該涂層所具有的結晶結構是該一種過渡金屬的氮化物或者該多種過渡金屬的氮化物的結晶結構類型的，而不是六方形鋁氮化物的結晶結構類型的。表述“(X，A1)N類型的涂層是一種富含鋁的該一種或多種過渡金屬X的一種或多種氮化物的涂層，其中鈮和/或鋯在該一種或多種過渡金屬X當中占多數”在多種過渡金屬的情況下被理解為是指以下這樣的涂層，所述涂層包含單一氮化物，例如Zr和Nb的混合氮化物，其富含鋁，或者包含多種氮化物，例如占多數的Zr或Nb的氮化物以及占少數的Ti或Cr的氮化物，這些氮化物均富含鋁。
[0012]鋁氮化物的沉積物良好地耐污潰留存并且便于清潔，不過這些沉積物所具有的硬度不足以令人滿意地耐劃痕。而且，這些沉積物不耐受在自動餐具洗滌機中進行的洗滌。
[0013]為了獲得(X，A1)N類型的涂層以上述比例進行的鋁的添加使得能夠顯著地改善涂層的耐氧化以及因此耐污潰留存的性能，同時保持高的硬度。同樣還確定這還有助于在燒煮過程中實現更少的食物粘附。
[0014]該一種或多種過渡金屬X相對于鋁并不是必須占多數的。
[0015]根據一種優選實施方案，該一種或多種過渡金屬X選自Nb和/或Zr。這是因為鈮和鋯使得能夠獲得氮化物 NbN、ZrN或(Zr，Nb) N，其具有清潔便利性能。
[0016]因而，本發明提出通過在制造過程中添加鋁來改善作為燒煮表面的基于氮化物形式的該一種或多種過渡金屬如Nb和/或Zr的已知層的化學惰性。
[0017]該一種或多種過渡金屬如Nb和/或Zr的氮化物的沉積物具有令人滿意的硬度和良好的對于在自動餐具洗滌機中經過的耐受性，不過它們的耐污潰留存性是不足的。而且，這些沉積物在燒煮過程中易受到某些食物的強粘附并且難以清潔。
[0018]不同的研究和分析顯示出，按照上述比例的鋁和該一種或多種過渡金屬如Nb和/或Zr的混合氮化物的沉積物使得能夠顯著降低對于污潰留存的敏感性。這些沉積物還與在自動餐具洗滌機中的經過相容。
[0019]此外，不同的試驗顯示出，按照上述比例的鋁的添加使得能夠保持足夠的硬度，從而有利于耐劃痕性。
[0020]有利地，所述沉積物的金屬元素中的鋁原子比例為20-75%。具有這些特性的(X，Al) N類型的涂層具有令人滿意的耐劃痕和耐污潰留存的性能。
[0021]還有利地，所述沉積物的金屬元素中的鋁原子比例為40-75%。在沉積物的金屬元素當中大比例的鋁還使得能夠降低食物粘附，并且改變清潔便利性。
[0022]令人吃驚地，大比例鋁的添加不僅不會劣化這些層在它們作為燒煮表面使用之后的清潔便利性，甚至還會強化這種性能，因而顯著改善了這些層的不同品質，超過初始尋求的目標。
[0023]還有利地，所述沉積物的金屬元素中的鋁原子比例為40-60%。在沉積物的金屬元素當中這些比例的鋁使得能夠顯著限制燒煮表面上的食物粘附并且眾所周知地改善清潔便利性。還觀察到，當超過大于60%的鋁原子比例時，對于在自動餐具洗滌機中經過的耐受性由于過高的鋁含量而開始下降。
[0024]根據一種優選的制造方案，所述沉積物通過氣相物理沉積(通常稱作PVD)獲得。氣相物理沉積是一種具有以下優點的已知材料沉積方法:使用不多的材料并且能夠調節基材上的材料的低厚度以獲得燒煮表面，因而降低這些材料的原材料成本。這項沉積技術還使得能夠獲得以下這樣的沉積物，所述沉積物與沉積物沉積于其上的基材具有強粘附作用。因而最小化了在使用過程中沉積物脫離的風險。這個方面是重要的，因為燒煮表面應當對在燒煮器具中操作食物時由于使用叉、刀和其它燒煮附件所產生的機械應力具有耐受性，所述燒煮器具例如是包含所述燒煮表面的家用電器具或烹飪制品。
[0025]當使用氣相物理沉積技術時，借助于物理過程的濺射通過在包括至少一個在其上將進行沉積的基材的壁與一個或多個靶之間施加電勢差來實現。有利地，所述沉積物由一個或多個靶獲得，所述靶通過在導電載體上裝配一個或多個具有所尋求的組成的材料的片材或板材而獲得，所述片材或板材通過軋制、粉末燒結或粉末熱噴涂獲得，或者通過澆鑄來得到。通常可以使用氣相物理沉積的任何技術，例如在反應性條件下通過陰極弧的蒸發。
[0026]有利地，沉積物在反應性條件下獲得，也即在反應性氣體如氮氣的存在下，以在沉積步驟的過程中完成氮化步驟，使得能夠減少處理時間，同時提高涂層的硬度。
[0027]作為可選方案 ，還可考慮通過氣相化學沉積技術(通常稱作CVD類型的沉積)進行沉積。不過，可考慮單獨的由等離子體輔助的CVD類型的沉積以產生所尋求的涂層，所述沉積物則在低溫和低壓下獲得。該基材被曝露于氣相前體，所述氣相前體在基材的表面上反應并且分解以產生所希望的沉積物。該等離子體使得能夠提高前體的反應率并且使得其能夠在更低的溫度(典型地為200-500°C )下沉積。
[0028]為了優化處理持續時間以及這種涂層的成本，所獲得的氮化物(X，A1)N的沉積厚度為3-10 μ m,優選4-6 μ m。3-4 μ m的最小厚度實際上是必須的，以獲得以下這樣的涂層，所述涂層對于利用載有氧化鋁粒子的綠色Scotch類型的研磨球團來說是完全耐劃痕的。
[0029]根據一種優選實施方法，一種或多種成分的金屬沉積物的層在氮化階段之前獲得，以強化該涂層與基材之間的粘附。而且，金屬層的沉積快于利用反應性氣體的此同樣層的沉積，這使得導致總體上更大的沉積速度。如果希望的話，尤其可以使用在基材上沉積的氧氮化物結合層。
[0030]基材可由以下材料的一個或多個金屬片材組成:鋁、銅、生鐵(fonte)、鋼，尤其是不銹鋼。基材尤其由共軋制的夾層材料形成，例如不銹鋼/鋁/不銹鋼。
[0031]本發明還涉及旨在燒煮食物的烹飪制品，其包含如上所述的燒煮表面。
[0032]這種烹飪制品可尤其是長柄平底鍋、有柄平底鍋、雙耳蓋鍋、中國式平底鍋等。
[0033]本發明還涉及旨在燒煮食物的家用電器具，其包含燒煮表面和所述燒煮表面的電或氣體加熱的裝置，所述燒煮表面符合以上所述的特性之一。這種家用電器具可尤其是加熱烹飪制備器具、刮刀器具、熔化器具、油炸鍋、面包機、米飯蒸煮鍋等。
【專利附圖】

【附圖說明】[0034]通過研究兩個完全非限制性的實施例可以更好地理解本發明，其中在附圖中示出實施方式和性能，在附圖中:
[0035]-圖1是根據本發明的燒煮表面的實施方式的截面圖，其中結合層2被插入到基材I和氮化物層3之間。
[0036]-圖2代表了隨著鋁原子百分數(0-65%的Al)而變化的針對涂層(Nb，A1)N所進行的納米硬度的測量結果(以GPa表示)。
【具體實施方式】
[0037]本發明的第一實施例涉及在基材上的涂層(Nb，A1)N的沉積。
[0038]基材可有利地由以下材料的一個或多個金屬片材組成:鋁、銅、生鐵、鋼，尤其是不銹鋼。所用的基材優選是在基材的離子除銹和去油污之后的奧氏體不銹鋼(例如304型不銹鋼)。更一般地，烹飪制品由夾層材料組成，所述夾層材料包含三個共軋制的片材，其中鋁片材插入兩個不銹鋼片材之間，以獲得不銹鋼/鋁/不銹鋼“三重”材料。
[0039]試驗了多個組成，使用2% ；13% ；22% ；53% ;59%和75%的鋁原子百分數，以及在類似條件下進行的NbN和AlN的沉積，以比較所獲得的性能。
[0040]所述沉積物通過氣相物理沉積制造，所述氣相物理沉積通常被稱作PVD( “Physical Vapor Deposit1n”)技術,更特別地是反應性磁控陰極派射。該磁控陰極濺射使得能夠獲得附著到基材上的致密沉積物以及相對快的沉積速度。不過也可考慮其它PVD沉積技術(陰極弧)。
[0041]通常，所述沉積物由一個或多個靶獲得，所述靶通過在導電載體上裝配一個或多個具有所尋求的組成的材料的片材或板材而獲得，所述片材或板材通過軋制、粉末燒結或粉末熱噴涂獲得，或者通過澆鑄來得到。
[0042]制造方法因而是反應性氣相沉積，其中在容器強力排空基本上只存在獲得等離子體所需的氬氣之后，通過引入氮氣到氬等離子體中來進行金屬靶的濺射，以便該一個金屬靶或多個金屬靶的濺射使得能夠獲得富含鋁的鈮的氮化物(Nb，Al) N。沉積物(Nb，Al) N可由復合靶Nb-Al的濺射獲得，或者由Nb和Al的2個不同靶獲得。在反應性條件下進行的沉積使得能夠在沉積步驟的過程中完成氮化步驟。
[0043]可改變不同的制造參數以改變沉積速度(涂層的厚度)以及沉積物的質量，以獲得足夠厚的層以能夠被表征但不過量，以保持與基材良好的附著性。
[0044]選擇使用磁控管以用于提高沉積速度，同時能夠通過降低容器中的壓力獲得致密且純的涂層。
[0045]此外，氮氣流量的影響，尤其是對沉積速度和涂層晶體結構的影響使得能夠發現對于獲得大約1.5ym/h-4ym/h的沉積速度來說最佳的流量范圍。此外還注意到，鋁的添加在使用NbAl合金靶的情況下傾向于降低沉積速度。
[0046] 層的特性之一是借助于輪廓測定儀(p1filon^tre)的它們的厚度測量，其使得能夠在放大之后在紙上重新登記在涂層表面上移動的探針的運動，探針與基材接觸時明顯的突然脫鉤。在校準或使用圖板之后，這種脫鉤的測量使得能夠測量該涂層的厚度。通過使用非觸式輪廓測定儀可獲得類似的結果。這種測量通過掃描電子顯微術分析橫截面來補充。最后，涂層的厚度測量通過如下方法進行:通過能夠精確測量微米級涂層厚度的任何其它方法如“Calotest” @的方法，或者通過光學或電子顯微術(MEB)觀察涂層的截面(尤其是橫截面)或者斷口。
[0047]其它的測量涉及通過如下方式實現的涂層化學分析:通過Castaing微探針，或者通過與掃描電子顯微鏡聯合的X光子能量色散譜測定，其中觀察在電子轟擊之后涂層原子的電子的去激勵，因而指示出發射激發的電子的元素的性質，或者通過Bragg-Brentanno配置的X射線衍射，使得能夠識別該層的不同結晶相。
[0048]為了更便利地改變在沉積物(Nb，Al) N中存在的鋁的百分數，優選使用Nb和Al的不同靶。通過對于如上所指的NbN沉積物保持優化的參數可進行不同的沉積。不同涂層的這種Al含量可通過EDS分析測量。
[0049]假設化合物NbN是化學計量的，Al/Nb之比使得能夠在確定存在的元素之后提高Al的原子濃度。
[0050]基材有利地由鐵素體不銹鋼、鋁和奧氏體不銹鋼的三個相繼層構成，所有這些層具有0.4mm的厚度。在所選涂層沉積之前，NbAl的層或者氧化物的層在I μ m的最大厚度上進行，以確保基材的奧氏體不銹鋼與涂層之間的良好附著。
[0051]該涂層然后以足夠的厚度(大約3μπι)沉積，之后進行燒煮以及通過研磨設備(plynometre)進行的清潔便利性試驗。有利地，所獲得的氮化物(X，Al)N的沉積厚度是3-10 μ m,優選 4-6 μ m。
[0052]如果希望的話，一種或多種成分的氧化物或金屬沉積物的層可以在氮化階段之前獲得，以在基材I和氮化物層3之間形成結合(accroche)層2，正如圖1中所示出的。 [0053]利用以下的燒煮表面進行耐劃痕的對比試驗:不銹鋼(光亮退火精加工，具有大約0.1 μ m的粗糙度Ra)，涂層NbN、ZrNbN (60% Nb和40% Zr，或者化學計量的)，(Nb, Al)N，其中相對于總的金屬元素具有不同的鋁原子百分數，在此是2% ；13% ；22% ；43% ；53%和70%的Al。
[0054]耐劃痕性利用綠色Scotch Brite?類型的研磨球團(加載有氧化鋁粒子)來評價。
[0055]為了獲得根據上述試驗的完全耐劃痕性的涂層，需要獲得具有大硬度以及4μπι的涂層最小厚度的涂層。
[0056]涂層NbN和ZrNbN所具有的硬度足以獲得用綠色Scotch Brite*不可劃傷的表面。相反地，具有更低硬度的AlN無法獲得耐劃痕性。
[0057]圖2示出了隨著鋁比率(0-65%的Al)的涂層硬度的演變。這些測量結果顯示出，相比較而言地，在O — 53% Al的鋁比率范圍內，鋁的添加使得能夠提高沉積物的硬度。這些試驗顯示出，涂層(Nb，Al) N的硬度足以確保良好的耐劃痕性，甚至優于NbN的耐劃痕性。而且證明有效的是，厚度4μπι的具有70% Al的涂層(Nb，Al) N使得能夠獲得對于綠色Scotch Bdtew類型的研磨球團來說完全耐劃痕性的涂層。在這些情況下，DRX測量結果顯示出，所有這些沉積物均具有NbN的面心立方結構，鋁在NbN晶格中作為替代物而存在。具有該鋁濃度的涂層的硬度增加可用固溶體的硬化效應來解釋。當超過鋁的臨界比率時，富含鋁的無定形相的可能形成可解釋在到達AlN的六方結晶結構之前觀察到的涂層硬度降低。[0058]在燒煮過程中涂層NbN的污潰留存主要是由于導致形成氧化物干涉層的氧化現象產生的。因而，涂層NbN表面的非常小的氧化物厚度變化(大約10-20nm)由于干涉著色現象的原因可引起由觀察者看到的涂層的顏色改變。在弄污的區域中，實際上測量到比在未弄污的區域中更大的氧化物厚度。
[0059]在燒煮溫度下具有非常低氧化動力的涂層的使用使得能夠降低甚至消除污潰留存。一直到600°C的鋁氮化物的優異耐氧化性使得能夠確保涂層的這種抗污功能。因而制造了具有AlN涂層的長柄平底鍋并且由于其優異的耐氧化性而在燒煮試驗之后觀察到沒有任何污潰。不過，AlN涂層的低硬度使得其不能原樣使用(AlN涂層不耐受綠色Scotch Briteft的劃痕)。不過，在具有良好硬度性能的NbN涂層中鋁的添加使得能夠獲得結合了 NbN所帶來的強涂層硬度以及AlN所帶來的良好耐氧化性的涂層。目標是具有足夠耐受氧化的涂層以便不會在長柄平底鍋的使用溫度下留存污潰(在旺火空載加熱的情況下一直到350 0C )。
[0060]為了評價污潰留存所進行的試驗依據下面的操作程序:
[0061]-在350°C下涂層預熱5分鐘，
[0062]-沉積污潰混合物滴，例如90%油酸、9.9%維生素、0.1%胡蘿卜素，
[0063]-在空氣中在350°C下加熱5分鐘，
[0064]-手工清潔碳化殘余物，以露出燒煮表面，
[0065]-視覺估計污潰留存。
[0066]所試驗的樣品(Nb, Al)N包含以下的招原子百分數:0(NbN) ；2% ； 13% ；22% ；43% ;53% ;59% ;75% 的 Al ;100% (AlN)。弄污的樣品是 NbN，以及(Nb，A1)N，其中具有2%和13%的Al。作為對比，具有22%;43%;53%;59%;75%的Al的樣品(Nb，Al)N以及AlN未被污染。根據這些結果，大約20%的最小鋁原子百分數(在涂層的金屬元素當中)被認為是必須的，以確保在燒煮過程中涂層未留存污潰。
[0067]清潔便利性試驗根據以下的操作程序進行:待表征的表面覆蓋有在碳化之后具有強粘附性能的食物化合物的混合物。碳化的混合物則經歷研磨球團的作用。
[0068]該食物化合物的混合物例如為以下所示:34mg/mL的葡萄糖、14.5mg/mL的支鏈淀粉、39mg/mL的卵白蛋白、13.5mg/mL的酪蛋白、32.8mg/mL的亞油酸。在210°C下在爐中燒煮20分鐘并且冷卻2分鐘之后，將樣品浸入除垢劑和水混合物中5分鐘，然后利用研磨設備(plynomStre,研磨燒煮殘余物的設備)清潔。仍然被燒煮殘余物覆蓋的表面百分數使得能夠評價燒煮表面的清潔便利性。
[0069]下表顯示了對于不同類型的燒煮表面來說的清潔便利性:不銹鋼，ZrNbN(對于33.3%的Nb來說具有66.6%的Zr)，以及(Nb，Al) N，具有以下的Al原子百分數:0% (NbN)；2% ；12% ；22% ；41% ；53% ；59% ；76% ；100% (AlN);所述試驗針對 2cm2 的最大表面進行。
[0070]
【權利要求】
1.用于燒煮用家用電器具或烹飪制品的食物燒煮表面，其由在基材上的金屬元素的氮化物的沉積物構成，所述沉積物的金屬元素包含一種或多種過渡金屬X以及鋁，所述沉積物的制造包括氮化步驟以獲得(X，A1)N類型的涂層，其特征在于(X，Al)N類型的涂層是一種富含鋁的該一種或多種過渡金屬X的一種或多種氮化物的涂層，其中鈮和/或鋯在該一種或多種過渡金屬X當中占多數，并且在所述沉積物的金屬元素中的鋁原子比例為至少等于 20%。
2.根據權利要求1的燒煮表面，其特征在于該一種或多種過渡金屬X選自鈮和/或鋯。
3.根據權利要求1或2之一的燒煮表面，其特征在于所述沉積物的金屬元素中的鋁原子比例為20% -75% ο
4.根據權利要求1-3之一的燒煮表面，其特征在于所述沉積物的金屬元素中的鋁原子比例為40% -75% ο
5.根據權利要求1-4之一的燒煮表面，其特征在于所述沉積物的金屬元素中的鋁原子比例為40% -60% ο
6.根據權利要求1-5之一的燒煮表面，其特征在于所述沉積物通過氣相物理沉積獲得。
7.根據權利要求6的燒煮表面，其特征在于所述沉積物由一個或多個靶獲得，所述靶通過在導電載體上裝配一 個或多個具有所尋求的組成的材料的片材或板材而獲得，所述片材或板材通過軋制、粉末燒結或粉末熱噴涂獲得，或者通過澆鑄來得到。
8.根據權利要求6或7之一的燒煮表面，其特征在于所述沉積物在反應性條件下獲得，以在沉積步驟的過程中完成氮化步驟。
9.根據權利要求1-8之一的燒煮表面，其特征在于所獲得的氮化物(X，A1)N的沉積厚度為 3-10 μ m,優選 4-6 μ m。
10.根據權利要求1-9之一的燒煮表面,其特征在于一種或多種成分的金屬沉積物的層在氮化階段之前獲得。
11.根據權利要求1-10之一的燒煮表面，其特征在于基材由以下材料的一個或多個金屬片材組成:鋁、銅、生鐵、鋼，尤其是不銹鋼。
12.旨在燒煮食物的烹飪制品，其特征在于該烹飪制品包含根據權利要求1-11之一的燒煮表面。
13.旨在燒煮食物的家用電器具，其包含燒煮表面和所述燒煮表面的電或氣體加熱的裝置，其特征在于所述燒煮表面符合權利要求1-12之一。
【文檔編號】C23C14/06GK104040016SQ201280057080
【公開日】2014年9月10日 申請日期:2012年11月19日 優先權日:2011年11月21日
【發明者】P·皮雅, J-F·皮爾森, A·梅熱-勒維, F·特希爾, S·阿勒芒, S·蒂費 申請人:Seb公司, 洛林大學, 國家科研中心