專利名稱：拋光材的制造方法
技術領域：
本發明是有關于一種拋光材的制造方法，其中該拋光材可適用于光學材料、電子材料的研磨拋光，特別是適用于半導體晶圓研磨的拋光材。
目前傳統的拋光材的制造方法有一、將彈性基底層浸覆蓋于聚氨酯樹脂液，經水凝固后表面研磨和除塵成一拋光材；二、以一聚酯膜涂布聚氨酯樹脂形成一連續多孔聚氨酯樹脂皮膜，將此一連續多孔聚氨酯樹脂皮膜經研磨和表面除塵后，使連續性孔洞裸露出來，而成為一拋光材。
參閱

圖1-圖3所示，為傳統具有連續多孔皮膜的拋光材半成品10是由彈性基底層12涂覆聚氨酯樹脂液并經水凝結形成一連續多孔層11，經研磨制程A將連續多孔層11表面研磨，可得一傳統拋光材20和剩余粉屑21，其中傳統拋光材20成為由裸露開孔層11a和彈性基底層12所構成，其中殘余粉屑21殘留于裸露開孔層11a，須再一表面除塵處理。此制程的主要缺點在于因為產生剩余粉屑沉積于孔洞內，需后段除塵清除粉屑，且不易清潔而費時，研磨的表面平坦度較差，且不易控制。
本發明的第一目的是提供一種拋光材的制造方法，制得較平整均勻清潔的拋光材表面，利用剖片取代研磨和除塵清除工程，增加晶圓拋光后的均勻性，達到避免拋光材殘余粉屑的污染的目的。
本發明的第二目的是提供一種拋光材的制造方法，利用減少表面除塵流程，簡化制程，并將表層皮膜再加了成為一拋光材或晶元載體，達到簡化制程并降低成本和減少廢料的目的。
本發明的第三目的是提供一種拋光材的制造方法，利用剖片將一連續多孔聚氨酯樹脂皮膜切開，同時得到一體成形具有彈性基底層和裸露開孔層的拋光材和一種經貼合而成并具不同彈性特質的拋光材或晶圓載體，達到使產量和種類增加的目的。
本發明的目的是這樣實現的一種拋光材的制造方法，其特征是它是由彈性基底層涂覆聚氨酯樹脂液，并經水凝固形成一連續多孔層；將連續多孔層以剖片制程均勻切割，得到第一拋光材和開孔皮膜，其中該第一拋光材是一體成形具裸露開孔層和彈性層的拋光材，另該開孔皮膜粘附貼合另一彈性基底層而形成第二拋光材，其中該第二拋光材為具裸露開孔層并有適當彈性特質的復合拋光材。
該第一拋光材或第二拋光材的彈性基底層是選自壓克力樹脂、橡膠彈性體、發泡泡棉、聚酯膜、不織布填充聚氨脂樹脂或壓克力樹脂。該第二拋光材的彈性基底層是選自聚烯烴類、聚酯類薄膜、熱塑性聚氨基甲酸酯或織布基材，該第二拋光材為表面平坦均勻的晶圓載體。
本發明還提供另一種拋光材的制造方法，其特征是它是由聚氨酯樹脂制得一連續多孔層，該連續多孔層以剖片制程平均切割，得到二個開孔皮膜，該兩開孔皮膜分別粘附貼合一彈性基底層而形成一種具裸露開孔層并有適當彈性特質的復合拋光材或晶圓載體。
該彈性基底層是選自橡膠彈性體、發泡泡棉、聚酯膜、不織布填充聚氨脂樹脂、壓克力樹脂、聚烯烴樹脂、聚酯、熱塑性聚氨基甲酸酯或織布基材。
本發明的拋光材的制造方法為先將彈性基底層涂覆聚氨酯樹脂液后經水凝固形成一具連續多孔皮膜的彈性層，以剖片取代研磨制程和后段表面除塵制程，將該皮膜平均切開，如此，可得一種具有較平整均勻的表面并一體成形具有彈性基底層和裸露開孔層的拋光材，而后將上層薄皮膜貼合不同彈性基底層形成一種經貼合而成并具有不同彈性特質的拋光材或晶元載體，其中該彈性基底層可為壓克力樹脂、橡膠彈性體、發泡泡棉、聚酯膜、不織布填充聚氨脂樹脂或壓克力樹脂所構成。
下面結合較佳實施例和附圖進一步說明。
圖2為傳統制法得到的拋光材縱剖側視放大圖。
圖3為傳統制法得到的拋光材俯視放大示意圖。
圖4為本發明的制造方法示意圖。
圖5為本發明制法所得的拋光材半成品縱剖側視放大示意圖。
圖6為本發明所得的拋光材縱剖側視放大示意圖。
圖7為本發明所得的拋光材俯視放大示意圖。
圖8為本發明所得的另一拋光材縱剖側視放大示意圖。
開孔皮膜31經粘附貼合C在另一彈性基底層32形成第二拋光材40(請閱圖8)，其中該彈性基底層32針對不同需求選擇具適當彈性的材料，其材料為壓克力樹脂、橡膠彈性體、發泡泡棉、聚酯膜或不織布填充聚氨脂樹脂所構成。
或者彈性基底層32由聚烯烴類或聚酯類薄膜或熱塑性聚氨基甲酸酯或不織布等基材所構成，使得第二拋光材40成為晶圓載體的用途。
本發明的主要特點可以從比較圖1與圖6看出，其分別為傳統制法和本發明所得的拋光材，明顯比較出本發明的第一拋光材較傳統拋光材的裸露開孔層更有一較均勻平整的表面。
本發明還具有以下功效一、提供一種可得較平整均勻清潔拋光材表面的拋光材制造方法。
二、提供一種可同時得到一體成形具有彈性基底層和裸露開孔層的第一拋光材和一種經貼合而成并具適當彈性特質的復合第二拋光材或晶圓載體的拋光材的制造方法。
三、提供一種簡化制程的拋光材的制造方法。
本發明可在不偏離主要的精神及特征下以其它不同的形式實施。因此，本發明的拋光材的制造方法亦可先由一聚氨酯樹脂制得一連續多孔層，將連續多孔層以剖片制程平均切割，得到二個開孔皮膜，其中該兩開孔皮膜分別粘附貼合一彈性基底層而形成一種具裸露開孔層并有適當彈性特質的復合拋光材或晶圓載體，其中彈性基底層是由壓克力樹脂、橡膠彈性體、發泡泡棉、聚酯膜、不織布填充聚氨脂樹脂、聚烯烴類、聚酯類薄膜、熱塑性聚氨基甲酸酯或織布等基材所構成，是以，依本發明的方法可簡單制得各種所需的拋光材和晶圓載體。
上述的較佳實施例只是以舉例的方式說明，且不應將其視為本發明的限制。凡依本發明所作的等效變化或修改，都是落于本發明的保護范圍之內。
權利要求
1.一種拋光材的制造方法，其特征是它是由彈性基底層涂覆聚氨酯樹脂液，并經水凝固形成一連續多孔層；將連續多孔層以剖片制程均勻切割，得到第一拋光材和開孔皮膜，其中該第一拋光材是一體成形具裸露開孔層和彈性層的拋光材，另該開孔皮膜粘附貼合另一彈性基底層而形成第二拋光材，其中該第二拋光材為具裸露開孔層并有適當彈性特質的復合拋光材。
2.根據權利要求1所述的拋光材的制造方法，其特征是該第一拋光材或第二拋光材的彈性基底層是選自壓克力樹脂、橡膠彈性體、發泡泡棉、聚酯膜、不織布填充聚氨脂樹脂或壓克力樹脂。
3.根據權利要求1所述的拋光材的制造方法，其特征是該第二拋光材的彈性基底層是選自聚烯烴類、聚酯類薄膜、熱塑性聚氨基甲酸酯或織布基材，該第二拋光材為表面平坦均勻的晶圓載體。
4.一種拋光材的制造方法，其特征是它是由聚氨酯樹脂制得一連續多孔層，該連續多孔層以剖片制程平均切割，得到二個開孔皮膜，該兩開孔皮膜分別粘附貼合一彈性基底層而形成一種具裸露開孔層并有適當彈性特質的復合拋光材或晶圓載體。
5.根據權利要求4所述的拋光材的制造方法，其特征是該彈性基底層是選自橡膠彈性體、發泡泡棉、聚酯膜、不織布填充聚氨脂樹脂、壓克力樹脂、聚烯烴樹脂、聚酯、熱塑性聚氨基甲酸酯或織布基材。
全文摘要
一種拋光材的制造方法，同時得到一種一體成形具有彈性基底層和裸露開孔層的第一拋光材和一種經貼合而成并具適當彈性特質的第二拋光材或晶圓載體，其中兩種拋光材均具有均勻平整的表面。具有避免拋光材殘余粉屑的污染、簡化制程、降低成本、減少廢料及使產量和種類增加的功效。
文檔編號B24D18/00GK1475330SQ0212982
公開日2004年2月18日 申請日期2002年8月15日 優先權日2002年8月15日
發明者王敬堂, 林孟經, 姚伊蓬, 王格峰 申請人:三芳化學工業股份有限公司