一種光刻膠圖案的制作方法、彩色濾光片及顯示裝置的制造方法
【技術領域】
[0001]本發明涉及顯示技術領域，尤其涉及一種光刻膠圖案的制作方法、彩色濾光片及顯示裝置。
【背景技術】
[0002]彩色濾光片(color filter)為液晶顯示器的彩色化關鍵組件，通過彩色濾光片的處理，可將IXD(Liquid Crystal Display，液晶顯示器)背光模塊發射的強光呈現出彩色的畫面。彩色濾光片的制作是在玻璃基板上制作網格排布的黑矩陣，進而將紅、綠、藍三原色的色阻依序排列在黑矩陣所限定的像素單元內。
[0003]在制作黑矩陣時，如圖1所示，通常在玻璃基板01上涂覆黑色光刻膠形成光刻膠層02，然后，如圖2所示，使用掩膜版03對光刻膠層02進行曝光、顯影等工藝，最終，如圖3所示，得到保留在玻璃基板01上的黑矩陣04。
[0004]目前，一般制作的黑矩陣的線寬在5um左右，線寬再小時，黑矩陣光刻膠直接與顯影液發生大面積接觸式的反應，容易發生膜層脫落，或邊沿不齊等不良，而隨著高PPI (Pixels Per Inch，表示每英寸所擁有的像素數目)產品的飛速發展，線寬5um的黑矩陣已經無法滿足LCD產品對透過率和開口率的要求，因此，如何制作窄線寬的黑矩陣圖形已成為亟需解決的問題。

【發明內容】

[0005]本發明的實施例提供一種光刻膠圖案的制作方法、彩色濾光片及顯示裝置，可形成窄線寬的黑矩陣，進一步可提高顯示裝置的透過率和開口率。
[0006]為達到上述目的，本發明的實施例采用如下技術方案:
[0007]本發明的實施例提供一種光刻膠圖案的制作方法，包括:
[0008]在襯底基板上涂覆負性光刻膠形成第一光刻膠層，并在所述第一光刻膠層上涂覆正性光刻膠，形成第二光刻膠層；
[0009]對所述第二光刻膠層的第一區域進行第一次曝光，經第一次顯影后，去除所述第二光刻膠層中第一區域的正性光刻膠，以及所述第一光刻膠層中第二區域的負性光刻膠，得到所述第二光刻膠層中保留的第一光刻膠圖案和所述第一光刻膠層中保留的第二光刻膠圖案，其中，所述第一光刻膠圖案的線寬大于所述第二光刻膠圖案的線寬，所述第一區域在所述襯底基板上的投影位于所述第二區域在所述襯底基板上的投影內；
[0010]對所述第一光刻膠圖案和所述第二光刻膠圖案進行第二次曝光，經第二次顯影后，去除所述第一光刻膠圖案，保留所述第二光刻膠圖案。
[0011]進一步地，在襯底基板上依次涂覆負性光刻膠和正性光刻膠，形成第一光刻膠層和所述第一光刻膠層上的第二光刻膠層；
[0012]對所述第二光刻膠層的第一區域進行第一次曝光，經第一次顯影后，去除所述第二光刻膠層中第一區域的正性光刻膠，以及所述第一光刻膠層中第二區域的負性光刻膠，得到所述第二光刻膠層中保留的第一光刻膠圖案和所述第一光刻膠層中保留的第二光刻膠圖案，所述第一光刻膠圖案的線寬大于所述第二光刻膠圖案的線寬；
[0013]對所述第一光刻膠圖案和所述第二光刻膠圖案進行第二次曝光，經第二次顯影后，去除所述第一光刻膠圖案，保留所述第二光刻膠圖案。
[0014]進一步地，使用掩膜版對所述第二光刻膠層進行第一次曝光，包括:
[0015]采用所述遮光區域的線寬為預設線寬的掩膜版，對所述第二光刻膠層進行第一次曝光，
[0016]所述預設線寬=所述黑矩陣的線寬+所述黑矩陣的線寬與所述遮光區域線寬的差值。
[0017]進一步地，對所述第二光刻膠層的第一區域進行第一次顯影，包括:
[0018]采用預設的顯影時間，對所述第二光刻膠層的第一區域進行第一次顯影。
[0019]進一步地，使用顯影液進行所述第一次顯影，包括:
[0020]采用預設的顯影液的溫度或濃度，進行所述第一次顯影。
[0021]進一步地，所述負性光刻膠為負性黑色光刻膠，所述負性光刻膠的感光區間與所述正性光刻膠的感光區間部分重疊，或不重疊。
[0022]進一步地，在襯底基板上依次涂覆負性光刻膠和正性光刻膠，形成第一光刻膠層和所述第一光刻膠層上的第二光刻膠層，包括:
[0023]在所述襯底基板上涂覆所述負性光刻膠，形成所述第一光刻膠層，并對形成有所述第一光刻膠層的襯底基板進行真空干燥和軟烤；
[0024]在所述第一光刻膠層上涂覆所述正性光刻膠，形成所述第二光刻膠層，并對形成有所述第二光刻膠層和所述第一光刻膠層的襯底基板進行真空干燥和軟烤。
[0025]進一步地，對所述第一光刻膠圖案和所述第二光刻膠圖案進行第二次曝光，經第二次顯影后，去除所述第一光刻膠圖案，保留所述第二光刻膠圖案，包括:
[0026]從所述襯底基板的上側對所述第一光刻膠圖案進行所述第二次曝光，從所述襯底基板的下側對所述第二光刻膠圖案進行所述第二次曝光；
[0027]使用顯影液進行所述第二次顯影，以去除所述第一光刻膠圖案，并保留所述第二光刻膠圖案。
[0028]進一步地，在對所述第一光刻膠圖案和所述第二光刻膠圖案進行第二次曝光，經第二次顯影后，去除所述第一光刻膠圖案，保留所述第二光刻膠圖案之后，還包括:
[0029]對形成有所述黑矩陣的襯底基板進行固化。
[0030]另一方面，本發明的實施例提供一種彩色濾光片，包括由上述任一項制作方法制作而成的黑矩陣。
[0031]另一方面，本發明的實施例提供一種顯示裝置，包括上述彩色濾光片。
[0032]本發明的實施例提供一種光刻膠圖案的制作方法、彩色濾光片及顯示裝置，首先，在襯底基板上分別涂覆負性光刻膠和正性光刻膠，分別形成第一光刻膠層和第二光刻膠層；進而，對該第二光刻膠層的第一區域進行第一次曝光和第一次顯影，去除第二光刻膠層中第一區域的正性光刻膠，以及第一光刻膠層中第二區域的負性光刻膠，得到第一光刻膠層中保留的第一光刻膠圖案和第二光刻膠層中保留的第二光刻膠圖案，其中，第一區域在襯底基板上的投影位于該第二區域在襯底基板上的投影內，即第一光刻膠圖案的線寬小于第二光刻膠圖案的線寬；最終，對第一光刻膠圖案和第二光刻膠圖案進行第二次曝光，經第二次顯影后，去除該第二光刻膠圖案，而該第一光刻膠圖案即為黑矩陣。可以看出，在第一次顯影時，曝光的第二光刻膠層中的第一區域與顯影液發生反應而溶解，全部溶解完后，覆于其下的未曝光的第一光刻膠層中的負性光刻膠也相繼發生溶解，并且，未曝光的第二光刻膠層下覆蓋的負性光刻膠，由于側向顯影液的接觸同樣發生溶解，使得未曝光的第二光刻膠層下覆蓋的負性光刻膠的邊沿部分溶解，這樣一來，通過利用第二光刻膠層中正性光刻膠做表層掩護，避免了第一光刻膠層中負性光刻膠直接與顯影液發生大面積接觸式的反應，這樣，當負性光刻膠為制作黑矩陣的黑色負性光刻膠時，可改善在制作窄線寬的黑矩陣時由于直接與顯影液接觸而引起的膜層脫落，從而形成窄線寬的黑矩陣，提高顯示裝置的透過率和開口率。
【附圖說明】
[0033]為了更清楚地說明本發明實施例或現有技術中的技術方案，下面將對實施例或現有技術描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發明的一些實施例，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創造性勞動的前提下，還可以根據這些附圖獲得其他的附圖。
[0034]圖1為現有技術中制作黑矩陣的示意圖一；
[0035]圖2為現有技術中制作黑矩陣的示意圖二 ；
[0036]圖3為現有技術中制作黑矩陣的示意圖三；
[0037]圖4為本發明實施例提供的一種光刻膠圖案的制作方法的流程示意圖一；
[0038]圖5為本發明實施例提供的一種黑矩陣的結構示意圖一；
[0039]圖6為本發明實施例提供的一種黑矩陣的結構示意圖二 ；
[0040]圖7為本發明實施例提供的一種光刻膠圖案的制作方法的流程示意圖二；
[0041]圖8為本發明實施例提供的一種黑矩陣的結構示意圖三；
[0042]圖9為本發明實施例提供的一種黑矩陣的結構示意圖四；
[0043]圖10為本發明實施例提供的一種黑矩陣的結構示意圖五；
[0044]圖11為本發明實施例提供的一種黑矩陣的結構示意圖六；
[0045]圖12為本發明實施例提供的一種黑矩陣的結構示意圖七；
[0046]圖13為本發明實施例提供的一種黑矩陣的結構示意圖八。
【具體實施方式】
[0047]以下描述中，為了說明而不是為了限定，提出了諸如特定系統結構、接