一種投影裝置及投影方法
【技術領域】
[0001]本發明涉及電子技術領域，特別是涉及一種投影裝置及投影方法。
【背景技術】
[0002]目前，現有的光學系統微型投影設備為了增大投影面積，通常會采用如下兩種技術手段:
[0003]—種是使用具有放大功能的透鏡裝置，通過光線折射增大投影面積。然而該種技術往往會造成投影圖像的畸變增大，投影圖像和原始圖像差別較大。并且由于光線折射的原因還會造成投影圖像的清晰度降低。
[0004]另一種是使用多個凸面鏡裝置，由于需要保證投影源的入射光寬度以及投影裝置的寬度規格，因此現有技術中通常會采用多個凸面鏡擴大光線反射角度從而增大投影面積。該技術在實施過程中所需要依賴的光學系統復雜，難于加工，并且由于多凸面鏡造成了多次擴大光線反射角，從而使得投影圖像的畸變增大，并且投影圖像的清晰度和投影面積難以調節。
[0005]可見，現有技術中的光學系統微型投影設備存在著投影圖像畸變大，部件較多制作復雜的技術問題。

【發明內容】

[0006]本申請提供一種投影裝置及投影方法，用以解決現有技術中的光學系統微型投影設備存在著投影圖像畸變大，部件較多制作復雜的技術問題。
[0007]本申請一方面提供了一種投影裝置，包括:
[0008]投影源，用以投射成像光線，所述成像光線可投影形成一原始成像；
[0009]凸面鏡，用以反射所述成像光線形成第一反射光線，所述第一反射光線可投影形成第一放大成像，所述第一放大成像的成像面積大于所述原始成像的成像面積。
[0010]可選地，所述裝置還包括凹面鏡，
[0011]所述凹面鏡設置于所述凸面鏡的相對面，用以聚斂所述成像光線形成收斂光線；
[0012]所述凸面鏡，用以反射所述收斂光線形成所述第一反射光線。
[0013]可選地，所述裝置還包括:
[0014]平面鏡，設置于所述凸面鏡的相對面，用以反射所述第一反射光線形成第二反射光線，所述第二反射光線可投影形成第二放大成像，所述第二放大成像的成像面積大于所述原始成像的成像面積。
[0015]可選地，所述裝置還包括處理器，
[0016]所述處理器，用以控制所述凸面鏡在所述成像光線和所述第一反射光線所在平面的方向上轉動，以使所述第二放大成像的清晰度大于等于預定清晰閾值，和/或以使所述第二放大成像的成像面積大于等于預定成像面積。
[0017]可選地，所述處理器，還用以控制所述平面鏡在所述第一反射光線和所述第二反射光線所在平面的方向上轉動，以使所述第二放大成像的清晰度大于等于預定清晰閾值，和/或以使所述第二放大成像的成像面積大于等于預定成像面積。
[0018]另一方面，本申請實施例還提供了一種投影方法，包括:
[0019]通過投影裝置的投影源投射成像光線，所述成像光線可投影形成一原始成像；
[0020]通過所述投影裝置的凸面鏡反射所述成像光線形成第一反射光線，其中，所述第一反射光線可投影形成第一放大成像，且所述第一放大成像的成像面積大于所述原始成像的成像面積。
[0021 ] 可選地，所述方法還包括:
[0022]通過所述投影裝置中設置于所述凸面鏡的相對面的凹面鏡聚斂所述成像光線，形成收斂光線；
[0023]通過所述凸面鏡反射所述收斂光線形成所述第一反射光線。
[0024]可選地，所述方法還包括:
[0025]通過設置于所述凸面鏡的相對面的平面鏡反射所述第一反射光線形成第二反射光線；
[0026]其中，所述第二反射光線可投影形成第二放大成像，所述第二放大成像的成像面積大于所述原始成像的成像面積。
[0027]可選地，所述方法還包括:
[0028]通過所述投影裝置的處理器控制所述凸面鏡在所述成像光線和所述第一反射光線所在平面的方向上轉動，以使所述第二放大成像的清晰度大于等于預定清晰閾值，和/或以使所述第二放大成像的成像面積大于等于預定成像面積。
[0029]可選地，所述方法還包括:
[0030]通過所述處理器控制所述平面鏡在所述第一反射光線和所述第二反射光線所在平面的方向上轉動，以使所述第二放大成像的清晰度大于等于預定清晰閾值，和/或以使所述第二放大成像的成像面積大于等于預定成像面積。
[0031]本申請實施例中提供的一個或多個技術方案，至少具有如下技術效果或優點:
[0032]本申請實施例中的技術方案可以僅使用一個凸面鏡擴大投影源投射出的光線所形成的光影效果。避免了復雜的光學系統結構，并且在反射過程中只經歷了一次光線反射，從而使得光線畸變率降低。因此具有減少投影圖像或投影后的光影效果的畸變，降低投影裝置的光學系統復雜程度的技術效果。
[0033]本申請實施例至少還具有如下技術效果或優點:
[0034]進一步地，本申請實施例中的技術方案還可以通過在凸面鏡的相對面設置凹面鏡，從而先將光束較大的成像光線聚斂，再經規格較小的凸面鏡進行放大，從而得到放大投影面積的投影成像或光影效果。因此，本申請實施例中的技術方案還具有提高適用性的技術效果。
[0035]進一步地，本申請實施例中的技術方案還可以通過設置平面鏡而實現對投影面積的微調式放大，因此具有進一步提高放大投影面積的技術效果。
[0036]進一步地，本申請實施例中的技術方案還可以通過采用處理器控制凸面鏡轉動，從而改變成像光線在所述凸面鏡上的入射角度。以此實現大幅度調整投影畫面的投影面積和/或清晰度。并且，還可以通過采用處理器控制平面鏡轉動，從而改變成像光線在所述平面鏡上的入射角度。以此實現小幅度調整投影畫面的投影面積和/或清晰度。因此，本申請實施例中的技術方案還具有提高投影操作效率和進一步擴大適用性的技術效果。
【附圖說明】
[0037]圖1為本發明實施例提供的一種投影裝置的結構圖；
[0038]圖2為本發明實施例提供的一種投影方法的流程圖。
【具體實施方式】
[0039]本申請提供一種投影裝置及投影方法，用以解決現有技術中的光學系統微型投影設備存在著投影圖像畸變大，部件較多制作復雜的技術問題。
[0040]本申請實施例中的技術方案為解決上述技術問題，總體思路如下:
[0041]本申請實施例中的技術方案可以僅使用一個凸面鏡擴大投影源投射出的光線所形成的光影效果。避免了復雜的光學系統結構，并且在反射過程中只經歷了一次光線反射，從而使得光線畸變率降低。因此具有減少投影圖像或投影后的光影效果的畸變，降低投影裝置的光學系統復雜程度的技術效果。
[0042]下面通過附圖以及具體實施例對本申請技術方案做詳細的說明，應當理解本申請實施例以及實施例中的具體特征是對本申請技術方案的詳細的說明，而不是對本申請技術方案的限定，在不沖突的情況下，本申請實施例以及實施例中的技術特征可以相互組合。
[0043]本文中術語“和/或”，僅僅是一種描述關聯對象的關聯關系，表示可以存在三種關系，例如，A和/或B，可以表示:單獨存在A，同時存在A和B，單獨存在B這三種情況。另夕卜，本文中字符“/”，一般表示前后關聯對象是一種“或”的關系。
[0044]實施例一
[0045]請參考圖1，本申請實施例一提供一種投影裝置，包括:
[0046]投影源，用以投射成像光線，所述成像光線可投影形成一原始成像；
[0047]凸面鏡，用以反射所述成像光線形成第一反射光線，所述第一反射光線可投影形成第一放大成像，所述第一放大成像的成像面積大于所述原始成像的成像面積。
[0048]所述投影源可以為一投影儀中的投影器，也可以為一電子設備的顯示屏幕，還可以為采用激光、紅外光或微波技術形成的可用以顯示圖像的光源。可見，所述投影源可以為多種形式的光影投放設備，只要是可以用以提供光源形成一圖像或任何用戶需要的光影效果的元件，則都可以作為所述投影源。
[0049]所述凸面鏡是指利用其相對于來源光為凸出形狀的鏡面，當來源光入射到該凸面鏡上時，可以通過該凸面鏡反射擴大來源光的反