本發明屬(shu)于(yu)渦旋光，具體涉及一種基于(yu)泰伯(bo)效應的矢量(liang)渦旋光產(chan)生裝置

背景技術：

1、矢(shi)(shi)(shi)量渦(wo)(wo)旋(xuan)(xuan)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)是一種在光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)束(shu)(shu)橫截(jie)(jie)面偏(pian)振(zhen)(zhen)態非均勻分(fen)布的(de)(de)渦(wo)(wo)旋(xuan)(xuan)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)束(shu)(shu)，矢(shi)(shi)(shi)量渦(wo)(wo)旋(xuan)(xuan)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)束(shu)(shu)又可以(yi)(yi)分(fen)為(wei)徑向(xiang)偏(pian)振(zhen)(zhen)渦(wo)(wo)旋(xuan)(xuan)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)束(shu)(shu)和(he)(he)(he)角(jiao)向(xiang)偏(pian)振(zhen)(zhen)渦(wo)(wo)旋(xuan)(xuan)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)束(shu)(shu)，徑向(xiang)偏(pian)振(zhen)(zhen)渦(wo)(wo)旋(xuan)(xuan)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)束(shu)(shu)和(he)(he)(he)疊加方(fang)式(shi)如(ru)圖(tu)1所(suo)示，角(jiao)向(xiang)偏(pian)振(zhen)(zhen)渦(wo)(wo)旋(xuan)(xuan)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)束(shu)(shu)疊加方(fang)式(shi)如(ru)圖(tu)2所(suo)示。由于光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)束(shu)(shu)橫截(jie)(jie)面不(bu)同方(fang)位的(de)(de)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)束(shu)(shu)偏(pian)振(zhen)(zhen)分(fen)布不(bu)均勻，所(suo)以(yi)(yi)矢(shi)(shi)(shi)量渦(wo)(wo)旋(xuan)(xuan)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)可以(yi)(yi)攜帶更(geng)多的(de)(de)信息(xi)，有更(geng)多的(de)(de)應(ying)(ying)用(yong)場景(jing)，如(ru)醫學(xue)傳(chuan)(chuan)感、光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)通(tong)訊(xun)和(he)(he)(he)量子計算等。目前產生矢(shi)(shi)(shi)量渦(wo)(wo)旋(xuan)(xuan)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)束(shu)(shu)的(de)(de)方(fang)法(fa)中，所(suo)產生的(de)(de)矢(shi)(shi)(shi)量渦(wo)(wo)旋(xuan)(xuan)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)束(shu)(shu)純(chun)度(du)較低(di)。為(wei)了(le)實(shi)現更(geng)高(gao)精度(du)的(de)(de)醫學(xue)傳(chuan)(chuan)感、光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)通(tong)訊(xun)和(he)(he)(he)量子計算應(ying)(ying)用(yong)，需要獲得更(geng)高(gao)精度(du)的(de)(de)矢(shi)(shi)(shi)量渦(wo)(wo)旋(xuan)(xuan)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)。

技術實現思路

1、針對現有(you)技(ji)術的(de)(de)不足，本發明的(de)(de)目的(de)(de)在于提(ti)供一種基于泰伯效(xiao)應(ying)的(de)(de)矢量渦(wo)旋光產(chan)生裝置，解決了(le)現有(you)技(ji)術中(zhong)產(chan)生的(de)(de)矢量渦(wo)旋光束純度(du)低的(de)(de)問(wen)題。

2、本(ben)發明公(gong)開一種基(ji)于泰伯效應(ying)的矢(shi)量(liang)渦(wo)旋(xuan)光產生(sheng)裝置(zhi)，包括基(ji)模(mo)形(xing)式(shi)振蕩(dang)模(mo)塊、渦(wo)旋(xuan)光調制器陣列和輸(shu)出(chu)鏡，所述(shu)渦(wo)旋(xuan)光調制器陣列設置(zhi)在所述(shu)基(ji)模(mo)形(xing)式(shi)振蕩(dang)模(mo)塊與(yu)所述(shu)輸(shu)出(chu)鏡之間；

3、在(zai)第(di)一(yi)(yi)入(ru)射(she)方(fang)向(xiang)(xiang)時，所(suo)(suo)(suo)述(shu)基模形(xing)式振蕩(dang)模塊用(yong)于將混合階次初始光(guang)(guang)(guang)束(shu)(shu)(shu)轉變為目(mu)標偏(pian)(pian)振方(fang)向(xiang)(xiang)基模光(guang)(guang)(guang)束(shu)(shu)(shu)后輸入(ru)所(suo)(suo)(suo)述(shu)渦(wo)旋光(guang)(guang)(guang)調制器陣(zhen)列，所(suo)(suo)(suo)述(shu)渦(wo)旋光(guang)(guang)(guang)調制器陣(zhen)列用(yong)于將所(suo)(suo)(suo)接收的所(suo)(suo)(suo)述(shu)目(mu)標偏(pian)(pian)振方(fang)向(xiang)(xiang)基模光(guang)(guang)(guang)束(shu)(shu)(shu)轉變為第(di)一(yi)(yi)入(ru)射(she)方(fang)向(xiang)(xiang)m階矢(shi)(shi)量渦(wo)旋光(guang)(guang)(guang)束(shu)(shu)(shu)，其中(zhong)，所(suo)(suo)(suo)述(shu)第(di)一(yi)(yi)入(ru)射(she)方(fang)向(xiang)(xiang)m階矢(shi)(shi)量渦(wo)旋光(guang)(guang)(guang)束(shu)(shu)(shu)基于第(di)一(yi)(yi)偏(pian)(pian)振方(fang)向(xiang)(xiang)m階光(guang)(guang)(guang)束(shu)(shu)(shu)和第(di)二(er)(er)偏(pian)(pian)振方(fang)向(xiang)(xiang)m階光(guang)(guang)(guang)束(shu)(shu)(shu)疊加形(xing)成，第(di)二(er)(er)偏(pian)(pian)振方(fang)向(xiang)(xiang)與第(di)一(yi)(yi)偏(pian)(pian)振方(fang)向(xiang)(xiang)相(xiang)反，所(suo)(suo)(suo)述(shu)第(di)一(yi)(yi)入(ru)射(she)方(fang)向(xiang)(xiang)m階矢(shi)(shi)量渦(wo)旋光(guang)(guang)(guang)束(shu)(shu)(shu)具(ju)有kn系數；

4、所(suo)述輸出(chu)鏡用于(yu)對所(suo)述m階(jie)(jie)(jie)矢(shi)(shi)量渦(wo)(wo)旋光束(shu)進(jin)行反射(she)，以得到沿第(di)(di)(di)二(er)(er)入射(she)方(fang)向(xiang)(xiang)(xiang)向(xiang)(xiang)(xiang)渦(wo)(wo)旋光調制(zhi)器陣列反射(she)的第(di)(di)(di)二(er)(er)入射(she)方(fang)向(xiang)(xiang)(xiang)m階(jie)(jie)(jie)矢(shi)(shi)量渦(wo)(wo)旋光束(shu)，其中(zhong)，所(suo)述第(di)(di)(di)二(er)(er)入射(she)方(fang)向(xiang)(xiang)(xiang)m階(jie)(jie)(jie)矢(shi)(shi)量渦(wo)(wo)旋光束(shu)基于(yu)所(suo)述第(di)(di)(di)一偏(pian)振(zhen)方(fang)向(xiang)(xiang)(xiang)m階(jie)(jie)(jie)光束(shu)以及所(suo)述第(di)(di)(di)二(er)(er)偏(pian)振(zhen)方(fang)向(xiang)(xiang)(xiang)m階(jie)(jie)(jie)光束(shu)各自偏(pian)轉180°后相互疊加形成，所(suo)述第(di)(di)(di)二(er)(er)入射(she)方(fang)向(xiang)(xiang)(xiang)m階(jie)(jie)(jie)矢(shi)(shi)量渦(wo)(wo)旋光具(ju)有qn系數(shu)；

5、其中(zhong)，所(suo)(suo)(suo)述(shu)(shu)第二入(ru)(ru)(ru)射(she)方(fang)(fang)向(xiang)與所(suo)(suo)(suo)述(shu)(shu)第一(yi)(yi)入(ru)(ru)(ru)射(she)方(fang)(fang)向(xiang)相(xiang)反，所(suo)(suo)(suo)述(shu)(shu)kn為(wei)所(suo)(suo)(suo)述(shu)(shu)第一(yi)(yi)入(ru)(ru)(ru)射(she)方(fang)(fang)向(xiang)m階(jie)光(guang)束(shu)(shu)的功(gong)(gong)率(lv)占總功(gong)(gong)率(lv)的比例(li)系(xi)數，qn為(wei)所(suo)(suo)(suo)述(shu)(shu)第二入(ru)(ru)(ru)射(she)方(fang)(fang)向(xiang)m階(jie)光(guang)束(shu)(shu)的功(gong)(gong)率(lv)占總功(gong)(gong)率(lv)的比例(li)系(xi)數，n為(wei)所(suo)(suo)(suo)述(shu)(shu)混合階(jie)次(ci)初始光(guang)束(shu)(shu)進入(ru)(ru)(ru)裝置后的當前循(xun)環(huan)周(zhou)期，一(yi)(yi)次(ci)循(xun)環(huan)周(zhou)期自第一(yi)(yi)入(ru)(ru)(ru)射(she)方(fang)(fang)向(xiang)傳(chuan)播開(kai)始至離開(kai)第二入(ru)(ru)(ru)射(she)方(fang)(fang)向(xiang)截止，qn>kn>qn-1>kn-1，n＝1、2、3......n，n為(wei)正整(zheng)數。

6、在一(yi)些實施例中，m階矢量(liang)渦(wo)旋(xuan)(xuan)光束(shu)(shu)為m階徑向(xiang)矢量(liang)渦(wo)旋(xuan)(xuan)光束(shu)(shu)或m階角向(xiang)矢量(liang)光束(shu)(shu)。

7、在(zai)(zai)一些實施例中，其(qi)特征在(zai)(zai)于，所述旋(xuan)光(guang)(guang)調制(zhi)(zhi)器(qi)陣(zhen)(zhen)(zhen)列中，相鄰兩個陣(zhen)(zhen)(zhen)列點(dian)之間的(de)距(ju)離(li)(li)為(wei)d，泰伯距(ju)離(li)(li)為(wei)所述旋(xuan)光(guang)(guang)調制(zhi)(zhi)器(qi)陣(zhen)(zhen)(zhen)列在(zai)(zai)處(chu)形成目(mu)標圖像，其(qi)中，z為(wei)泰伯距(ju)離(li)(li)，λ為(wei)輸(shu)入所述旋(xuan)光(guang)(guang)調制(zhi)(zhi)器(qi)陣(zhen)(zhen)(zhen)列的(de)光(guang)(guang)束的(de)波長。

8、在一些(xie)實施(shi)例中(zhong)，所(suo)(suo)述(shu)基模形式振(zhen)蕩模塊包括輸入鏡(jing)(jing)、第一聚焦鏡(jing)(jing)以(yi)及第二聚焦鏡(jing)(jing)，所(suo)(suo)述(shu)第一聚焦鏡(jing)(jing)設置在所(suo)(suo)述(shu)輸入鏡(jing)(jing)和所(suo)(suo)述(shu)第二聚焦鏡(jing)(jing)之間(jian)，所(suo)(suo)述(shu)第二聚焦鏡(jing)(jing)設置在所(suo)(suo)述(shu)第一聚焦鏡(jing)(jing)和所(suo)(suo)述(shu)渦旋(xuan)光(guang)調(diao)制器(qi)陣列之間(jian)。

9、在(zai)一些實施例中，所(suo)(suo)述(shu)(shu)基模形式振蕩模塊還包括(kuo)增(zeng)(zeng)益(yi)介(jie)質、偏振分(fen)光(guang)(guang)棱鏡(jing)和針(zhen)(zhen)孔(kong)，所(suo)(suo)述(shu)(shu)增(zeng)(zeng)益(yi)介(jie)質設置在(zai)所(suo)(suo)述(shu)(shu)輸入鏡(jing)與(yu)所(suo)(suo)述(shu)(shu)第一聚焦(jiao)鏡(jing)之(zhi)間，所(suo)(suo)述(shu)(shu)偏振分(fen)光(guang)(guang)棱鏡(jing)設置在(zai)所(suo)(suo)述(shu)(shu)第一聚焦(jiao)鏡(jing)與(yu)所(suo)(suo)述(shu)(shu)針(zhen)(zhen)孔(kong)之(zhi)間，所(suo)(suo)述(shu)(shu)針(zhen)(zhen)孔(kong)設置在(zai)所(suo)(suo)述(shu)(shu)偏振分(fen)光(guang)(guang)棱鏡(jing)和所(suo)(suo)述(shu)(shu)第二聚焦(jiao)鏡(jing)之(zhi)間。

10、在(zai)一些實施例(li)中，所(suo)述(shu)(shu)渦(wo)旋(xuan)光調制器陣列被構造為q板陣列，所(suo)述(shu)(shu)渦(wo)旋(xuan)光調制器陣列被構造為q板陣列時，所(suo)述(shu)(shu)基(ji)模形(xing)式振蕩模塊還包括半波片，所(suo)述(shu)(shu)半波片設置在(zai)所(suo)述(shu)(shu)針孔與所(suo)述(shu)(shu)第二聚焦鏡之間。

11、在一(yi)些實施(shi)例(li)中，所(suo)(suo)述(shu)(shu)渦旋光(guang)調制器(qi)陣列(lie)被構造為(wei)(wei)j板(ban)陣列(lie)，所(suo)(suo)述(shu)(shu)渦旋光(guang)調制器(qi)陣列(lie)被構造為(wei)(wei)j板(ban)陣列(lie)時，所(suo)(suo)述(shu)(shu)基模形式振蕩(dang)模塊還包(bao)括第(di)一(yi)四分之一(yi)波片(pian)和第(di)二四分之一(yi)波片(pian)，所(suo)(suo)述(shu)(shu)第(di)一(yi)四分之一(yi)波片(pian)設置在所(suo)(suo)述(shu)(shu)針(zhen)孔和所(suo)(suo)述(shu)(shu)第(di)二聚焦鏡之間，所(suo)(suo)述(shu)(shu)第(di)二四分之一(yi)波片(pian)設置在所(suo)(suo)述(shu)(shu)j板(ban)和所(suo)(suo)述(shu)(shu)輸出鏡之間。

12、在一些實(shi)施例中，所(suo)述輸出鏡為平面鏡。

13、本(ben)(ben)(ben)發明的(de)基于泰伯效(xiao)(xiao)應的(de)矢(shi)量(liang)渦旋光(guang)(guang)產(chan)(chan)生(sheng)(sheng)裝(zhuang)置(zhi)包(bao)括但不限于如下有益(yi)效(xiao)(xiao)果：(1)本(ben)(ben)(ben)申(shen)請(qing)將相(xiang)位調制器周(zhou)期(qi)性(xing)排列，以進入裝(zhuang)置(zhi)的(de)混合(he)階次初始光(guang)(guang)束(shu)(shu)進行周(zhou)期(qi)性(xing)過(guo)濾(lv)，過(guo)濾(lv)掉一(yi)些冗(rong)余(yu)光(guang)(guang)束(shu)(shu)，使得需要的(de)m階次的(de)矢(shi)量(liang)渦旋光(guang)(guang)束(shu)(shu)的(de)功率(lv)(lv)占總功率(lv)(lv)的(de)比例逐漸增加，提(ti)高(gao)(gao)了(le)所輸(shu)出的(de)矢(shi)量(liang)渦旋光(guang)(guang)束(shu)(shu)的(de)純度(du)；(2)本(ben)(ben)(ben)申(shen)請(qing)中(zhong)，設(she)計輸(shu)入鏡(jing)、第一(yi)聚焦鏡(jing)、第二(er)聚焦鏡(jing)以及(ji)渦旋光(guang)(guang)調制器陣列四個(ge)光(guang)(guang)學(xue)器件形成4f光(guang)(guang)學(xue)系統，提(ti)高(gao)(gao)了(le)光(guang)(guang)學(xue)轉(zhuan)換效(xiao)(xiao)率(lv)(lv)，進一(yi)步提(ti)高(gao)(gao)了(le)所輸(shu)出的(de)矢(shi)量(liang)渦旋光(guang)(guang)束(shu)(shu)的(de)純度(du)。(3)本(ben)(ben)(ben)申(shen)請(qing)中(zhong)，通過(guo)在整個(ge)裝(zhuang)置(zhi)中(zhong)引(yin)入或(huo)者移(yi)除半波片(pian)，可以分別實現徑向(xiang)矢(shi)量(liang)渦旋光(guang)(guang)束(shu)(shu)的(de)產(chan)(chan)生(sheng)(sheng)和角向(xiang)矢(shi)量(liang)渦旋光(guang)(guang)束(shu)(shu)的(de)產(chan)(chan)生(sheng)(sheng)，無需構建額外裝(zhuang)置(zhi)，節約成本(ben)(ben)(ben)，提(ti)高(gao)(gao)了(le)本(ben)(ben)(ben)申(shen)請(qing)矢(shi)量(liang)渦旋光(guang)(guang)產(chan)(chan)生(sheng)(sheng)裝(zhuang)置(zhi)的(de)矢(shi)量(liang)渦旋光(guang)(guang)束(shu)(shu)產(chan)(chan)生(sheng)(sheng)多(duo)樣(yang)性(xing)。

技術特征：

1.一(yi)種(zhong)基(ji)于泰(tai)伯效(xiao)應(ying)的矢量(liang)渦旋(xuan)光產生(sheng)裝置，其特征在于，包括基(ji)模(mo)(mo)形(xing)(xing)式(shi)振蕩模(mo)(mo)塊、渦旋(xuan)光調制(zhi)器陣(zhen)列和輸(shu)出鏡，所述渦旋(xuan)光調制(zhi)器陣(zhen)列設置在所述基(ji)模(mo)(mo)形(xing)(xing)式(shi)振蕩模(mo)(mo)塊與(yu)所述輸(shu)出鏡之(zhi)間(jian)；

2.根據權利要(yao)求1所述(shu)的基于(yu)泰伯效(xiao)應的矢(shi)量(liang)渦旋光(guang)產生(sheng)裝置，其特征(zheng)在于(yu)，m階矢(shi)量(liang)渦旋光(guang)束(shu)為m階徑向(xiang)矢(shi)量(liang)渦旋光(guang)束(shu)或m階角向(xiang)矢(shi)量(liang)光(guang)束(shu)。

3.根據(ju)權利要求1所(suo)(suo)(suo)述的(de)基于(yu)泰伯(bo)效(xiao)應的(de)矢量渦旋(xuan)(xuan)光(guang)(guang)產生裝置，其特征在于(yu)，所(suo)(suo)(suo)述旋(xuan)(xuan)光(guang)(guang)調制器(qi)陣列(lie)(lie)中，相鄰兩個陣列(lie)(lie)點(dian)之間的(de)距(ju)離(li)(li)為d，泰伯(bo)距(ju)離(li)(li)為所(suo)(suo)(suo)述旋(xuan)(xuan)光(guang)(guang)調制器(qi)陣列(lie)(lie)在處形成目標圖像，其中，z為泰伯(bo)距(ju)離(li)(li)，λ為輸入(ru)所(suo)(suo)(suo)述旋(xuan)(xuan)光(guang)(guang)調制器(qi)陣列(lie)(lie)的(de)光(guang)(guang)束的(de)波長(chang)。

4.根據權(quan)利要(yao)求(qiu)1所(suo)(suo)(suo)述(shu)(shu)(shu)的基(ji)于泰伯(bo)效(xiao)應(ying)的矢量渦旋(xuan)光產生裝(zhuang)置，其(qi)特(te)征在(zai)(zai)于，所(suo)(suo)(suo)述(shu)(shu)(shu)基(ji)模形式(shi)振蕩模塊包括(kuo)輸(shu)入鏡(jing)(jing)(jing)、第(di)一(yi)聚焦(jiao)(jiao)鏡(jing)(jing)(jing)以(yi)及第(di)二聚焦(jiao)(jiao)鏡(jing)(jing)(jing)，所(suo)(suo)(suo)述(shu)(shu)(shu)第(di)一(yi)聚焦(jiao)(jiao)鏡(jing)(jing)(jing)設置在(zai)(zai)所(suo)(suo)(suo)述(shu)(shu)(shu)輸(shu)入鏡(jing)(jing)(jing)和所(suo)(suo)(suo)述(shu)(shu)(shu)第(di)二聚焦(jiao)(jiao)鏡(jing)(jing)(jing)之間，所(suo)(suo)(suo)述(shu)(shu)(shu)第(di)二聚焦(jiao)(jiao)鏡(jing)(jing)(jing)設置在(zai)(zai)所(suo)(suo)(suo)述(shu)(shu)(shu)第(di)一(yi)聚焦(jiao)(jiao)鏡(jing)(jing)(jing)和所(suo)(suo)(suo)述(shu)(shu)(shu)渦旋(xuan)光調制器陣列之間。

5.根據權利要求4所(suo)(suo)(suo)(suo)述(shu)(shu)的基(ji)于泰伯效應的矢量渦旋光(guang)產生裝置(zhi)，其(qi)特(te)征在(zai)于，所(suo)(suo)(suo)(suo)述(shu)(shu)基(ji)模形式振蕩模塊(kuai)還包(bao)括增益(yi)介質(zhi)、偏(pian)振分光(guang)棱(leng)鏡(jing)(jing)(jing)和針(zhen)孔(kong)，所(suo)(suo)(suo)(suo)述(shu)(shu)增益(yi)介質(zhi)設置(zhi)在(zai)所(suo)(suo)(suo)(suo)述(shu)(shu)輸入鏡(jing)(jing)(jing)與所(suo)(suo)(suo)(suo)述(shu)(shu)第(di)(di)一(yi)聚(ju)焦(jiao)鏡(jing)(jing)(jing)之間(jian)，所(suo)(suo)(suo)(suo)述(shu)(shu)偏(pian)振分光(guang)棱(leng)鏡(jing)(jing)(jing)設置(zhi)在(zai)所(suo)(suo)(suo)(suo)述(shu)(shu)第(di)(di)一(yi)聚(ju)焦(jiao)鏡(jing)(jing)(jing)與所(suo)(suo)(suo)(suo)述(shu)(shu)針(zhen)孔(kong)之間(jian)，所(suo)(suo)(suo)(suo)述(shu)(shu)針(zhen)孔(kong)設置(zhi)在(zai)所(suo)(suo)(suo)(suo)述(shu)(shu)偏(pian)振分光(guang)棱(leng)鏡(jing)(jing)(jing)和所(suo)(suo)(suo)(suo)述(shu)(shu)第(di)(di)二聚(ju)焦(jiao)鏡(jing)(jing)(jing)之間(jian)。

6.根據權利要(yao)求5所(suo)(suo)述(shu)(shu)(shu)(shu)的(de)基于泰伯效應的(de)矢(shi)量(liang)渦(wo)旋光(guang)(guang)產生裝置，其特征(zheng)在于，所(suo)(suo)述(shu)(shu)(shu)(shu)渦(wo)旋光(guang)(guang)調制(zhi)器陣列(lie)被構造(zao)為q板(ban)陣列(lie)，所(suo)(suo)述(shu)(shu)(shu)(shu)渦(wo)旋光(guang)(guang)調制(zhi)器陣列(lie)被構造(zao)為q板(ban)陣列(lie)時，所(suo)(suo)述(shu)(shu)(shu)(shu)基模形式振蕩模塊還包括半波(bo)片(pian)，所(suo)(suo)述(shu)(shu)(shu)(shu)半波(bo)片(pian)設置在所(suo)(suo)述(shu)(shu)(shu)(shu)針孔與所(suo)(suo)述(shu)(shu)(shu)(shu)第二聚焦鏡之間。

7.根據權(quan)利要求5所(suo)(suo)(suo)述的基(ji)于(yu)(yu)泰伯效應(ying)的矢量渦(wo)旋(xuan)光產(chan)生裝置，其特征在于(yu)(yu)，所(suo)(suo)(suo)述渦(wo)旋(xuan)光調(diao)制器陣列被構造(zao)為j板(ban)陣列，所(suo)(suo)(suo)述渦(wo)旋(xuan)光調(diao)制器陣列被構造(zao)為j板(ban)陣列時，所(suo)(suo)(suo)述基(ji)模形式振蕩模塊還包括第一(yi)(yi)四(si)(si)分之一(yi)(yi)波片(pian)(pian)和(he)第二(er)四(si)(si)分之一(yi)(yi)波片(pian)(pian)，所(suo)(suo)(suo)述第一(yi)(yi)四(si)(si)分之一(yi)(yi)波片(pian)(pian)設置在所(suo)(suo)(suo)述針孔和(he)所(suo)(suo)(suo)述第二(er)聚焦鏡之間(jian)，所(suo)(suo)(suo)述第二(er)四(si)(si)分之一(yi)(yi)波片(pian)(pian)設置在所(suo)(suo)(suo)述j板(ban)和(he)所(suo)(suo)(suo)述輸出鏡之間(jian)。

8.根據權利要求6或7所述(shu)的基于(yu)泰伯效應的矢量(liang)渦旋光(guang)產(chan)生裝置，其特征在于(yu)，所述(shu)輸(shu)出鏡(jing)(jing)為平(ping)面鏡(jing)(jing)。

技術總結
本發明公開了一種基于泰伯效應的矢量渦旋光產生裝置，包括依次設置的基模形式振蕩模塊、渦旋光調制器陣列和輸出鏡；在第一入射方向時，基模形式振蕩模塊用于將混合階次初始光束轉變為目標偏振方向基模光束后輸入渦旋光調制器陣列，渦旋光調制器陣列用于將所接收的目標偏振方向基模光束轉變為第一入射方向m階矢量渦旋光束，輸出鏡用于對m階矢量渦旋光束進行反射，以得到沿第二入射方向向渦旋光調制器陣列反射的第二入射方向m階矢量渦旋光束，本申請利用陣列排布的相位調制器對裝置中的光束進行周期性過濾，提高了矢量渦旋光束的純度。

技術研發人員：蔡恩林
受保護的技術使用者：江蘇星鏈激光科技有限責任公司
技術研發日：
技術公布日：2024/10/10