一種涂膠顯影的制造方法
【專利摘要】本實用新型提供一種涂膠顯影機，至少包括：涂膠單元；位于所述涂膠單元中部的光刻膠噴嘴；位于相鄰所述涂膠單元之間的溶劑槽；位于所述涂膠單元縱向一側的加熱/冷卻盤；以及位于所述涂膠單元和加熱/冷卻盤兩側的運行軌道以及裝設于所述運行軌道上的機械手臂。將涂膠單元呈2×2的陣列分布，便于光刻膠噴嘴對其進行不間斷的旋轉噴涂，節省了涂布時間，節約了生產成本；將光刻膠噴嘴設置成四個，既可以實現同時為放置于四個涂膠單元內托盤上的晶圓進行光刻膠涂布，有效地提高了生產量，又可以實現在一個工作系統中對涂膠單元進行不同種類光刻膠的涂布；設計兩條機械手臂，即使一條機械手臂出現故障，整個涂膠顯影機機臺仍可以繼續運轉工作。
【專利說明】一種涂膠顯影機
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及一種半導體工藝設備【技術領域】，特別是涉及一種涂膠顯影機。
【背景技術】
[0002]涂膠顯影機(Track)是制造半導體的常用設備，一般用于光刻膠涂布及顯影等工藝。涂布光刻膠是涂膠顯影機在光刻工藝中必要的一步，光刻膠涂布的過程一般包括:將晶圓安置于涂膠顯影機上，由涂膠顯影機的光刻膠噴嘴向晶圓表面噴涂上光刻膠。
[0003]在設計涂膠顯影機的時候，追求的目標在于涂布光刻膠控制膜厚性能的同時，盡可能的提高產量，以及避免光刻膠的浪費。現有技術中涂膠顯影機的設計如圖1所示，四個涂膠單元11與對應的加熱/冷卻盤12平行地縱向分布于機械手臂13的運行軌道14兩側，為較少光刻膠損耗，設計一個光刻膠噴嘴15為涂膠單元11噴涂光刻膠。在工作的時候，光刻膠噴嘴15沿直線軌道16移動，依次為第一涂膠單元111、第二涂膠單元112、第三涂膠單元113和第四涂膠單元114內托盤17上的晶圓噴涂光刻膠，而后直接返回第一涂膠單元111位置，重復上述動作。
[0004]由于在光刻膠噴嘴15為晶圓涂布好光刻膠后，機械手臂13會及時將涂布好光刻膠的晶圓傳送至加熱/冷卻盤12，并在對應的涂膠單元11的托盤17上放好新的需要涂布光刻膠的晶圓，因此，在光刻膠噴嘴15移動回第一涂膠單元111的時候，第一涂膠單元111已經閑置了一段時間，這就浪費了涂布時間，使得機器處于空轉狀態，造成生產成本的浪費。同時，由于使用一條機械手臂進行晶圓傳送，一旦機械手臂出現故障，就會導致整個涂膠顯影機機臺停產，嚴重影響了生產量。
[0005]鑒于此，有必要設計一種新的結構以解決上述技術問題。

【發明內容】

[0006]鑒于以上所述現有技術的缺點，本實用新型的目的在于提供一種涂膠顯影機，用于解決現有技術中使用一個光刻膠噴嘴直線往返為每個涂布單元進行光刻膠涂布時，由于光刻膠噴嘴回程為空載，而導致的機器處于空轉狀態，浪費涂布時間，降低生產量，浪費生產成本的問題，以及由于使用一條機械手臂進行傳送，一旦機械手臂出現故障，就會導致整個涂膠顯影機機臺停產，進而嚴重影響生產量的問題。
[0007]為實現上述目的及其他相關目的，本實用新型提供一種涂膠顯影機，所述涂膠顯影機至少包括:
[0008]涂膠單元，所述涂膠單元包括呈2X2的陣列分布、用于放置晶圓的托盤；
[0009]位于所述涂膠單元中部的光刻膠噴嘴；
[0010]位于相鄰所述涂膠單元之間、用于清洗光刻膠噴嘴的溶劑槽；
[0011]位于所述涂膠單元縱向一側的加熱/冷卻盤；
[0012]以及位于所述涂膠單元和加熱/冷卻盤兩側的運行軌道以及裝設于所述運行軌道上、用于傳送晶圓的機械手臂。[0013]作為本實用新型的涂膠顯影機的一種優選方案，所述光刻膠噴嘴的數量為至少一個。
[0014]作為本實用新型的涂膠顯影機的一種優選方案，所述光刻膠噴嘴固定在一個主軸上，在所述主軸的控制下進行O?360度旋轉，依次對放置于托盤上的晶圓進行光刻膠涂布。
[0015]作為本實用新型的涂膠顯影機的一種優選方案，所述光刻膠噴嘴在主軸的控制下升降移動。
[0016]作為本實用新型的涂膠顯影機的一種優選方案，所述光刻膠噴嘴的尾部設置有用于保持光刻膠噴嘴旋轉時力矩平衡的重物。
[0017]作為本實用新型的涂膠顯影機的一種優選方案，所述光刻膠噴嘴的數量為四個。
[0018]作為本實用新型的涂膠顯影機的一種優選方案，所述四個光刻膠噴嘴固定在主軸上，在所述主軸的控制下進行O?360度旋轉，同時為四個放置于托盤上的晶圓進行光刻膠涂布。
[0019]作為本實用新型的涂膠顯影機的一種優選方案，所述四個光刻膠噴嘴(25)旋轉的角度為45度至90度。
[0020]作為本實用新型的涂膠顯影機的一種優選方案，所述四個光刻膠噴嘴在主軸的控制下左右移動用于對晶圓上不同區域噴涂不同種類的光刻膠。
[0021]作為本實用新型的涂膠顯影機的一種優選方案，所述四個光刻膠噴嘴在主軸的控制下可以進行上下升降移動。
[0022]作為本實用新型的涂膠顯影機的一種優選方案，所述四個光刻膠噴嘴尾部都設置有左右自由移動的、用以保持光刻膠噴嘴旋轉時力矩平衡的重物。
[0023]如上所述，本實用新型的涂膠顯影機，具有以下有益效果:本實用新型中將涂膠單元呈2X2的陣列分布，便于光刻膠噴嘴對其進行不間斷的旋轉噴涂，進而避免了現有技術中光刻膠噴嘴空載返程的情況，節省了涂布時間，節約了生產成本；將光刻膠噴嘴設置成四個，既可以實現同時為放置于四個涂膠單元內托盤27上的晶圓進行光刻膠涂布，大大提高生產效率，有效地提高了生產量，又可以實現在一個工作系統中根據需要對涂膠單元進行不同種類光刻膠的涂布；設計兩條機械手臂，即使一條機械手臂出現故障，整個涂膠顯影機機臺仍可以繼續運轉工作，不會像現有技術中那樣整個機臺導致停產，同時兩條機械手臂傳送晶圓，明顯提高了晶圓涂布傳送的速度，大大提高了生產量。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0024]圖1顯示為現有技術中涂膠顯影機的結構示意圖。
[0025]圖2a顯示為本實用新型的涂膠顯影機的結構示意圖。
[0026]圖2b顯示為本實用新型的光刻膠噴嘴的結構示意圖。
[0027]圖3a顯示為本實用新型另一實施例的涂膠顯影機的結構示意圖。
[0028]圖3b顯示為本實用新型另一實施例的光刻膠噴嘴的結構示意圖。
[0029]元件標號說明
[0030]
【權利要求】
1.一種涂膠顯影機，其特征在于，所述涂膠顯影機至少包含: 涂膠單元，所述涂膠單元包括呈2X2的陣列分布、用于放置晶圓的托盤； 位于所述涂膠單元中部的光刻膠噴嘴； 位于相鄰所述涂膠單元之間、用于清洗光刻膠噴嘴的溶劑槽； 位于所述涂膠單元縱向一側的加熱/冷卻盤； 以及位于所述涂膠單元和加熱/冷卻盤兩側的運行軌道以及裝設于所述運行軌道上、用于傳送晶圓的機械手臂。
2.根據權利要求1所述的涂膠顯影機，其特征在于:所述光刻膠噴嘴的數量為至少一個。
3.根據權利要求2所述的涂膠顯影機，其特征在于:所述光刻膠噴嘴固定在主軸上，在所述主軸的控制下進行O?360度旋轉，依次對放置于托盤上的晶圓進行光刻膠涂布。
4.根據權利要求2所述的涂膠顯影機，其特征在于:所述光刻膠噴嘴在主軸的控制下升降移動。
5.根據權利要求2所述的涂膠顯影機，其特征在于:所述光刻膠噴嘴的尾部設置有用于保持光刻膠噴嘴旋轉時力矩平衡的重物。
6.根據權利要求2所述的涂膠顯影機，其特征在于:所述光刻膠噴嘴的數量為四個。
7.根據權利要求6所述的涂膠顯影機，其特征在于:所述四個光刻膠噴嘴固定在主軸上，在所述主軸的控制下進行O?360度旋轉，同時為四個放置于托盤上的晶圓進行光刻膠涂布。
8.根據權利要求7所述的涂膠顯影機，其特征在于:所述四個光刻膠噴嘴旋轉的角度為45度至90度。
9.根據權利要求6所述的涂膠顯影機，其特征在于:所述四個光刻膠噴嘴在主軸的控制下左右移動用于對晶圓上不同區域噴涂不同種類的光刻膠。
10.根據權利要求6所述的涂膠顯影機，其特征在于:所述四個光刻膠噴嘴在主軸的控制下升降移動。
11.根據權利要求6所述的涂膠顯影機，其特征在于:所述四個光刻膠噴嘴尾部都設置有左右自由移動的、用以保持光刻膠噴嘴旋轉時力矩平衡的重物。
【文檔編號】G03F7/16GK203643740SQ201320869717
【公開日】2014年6月11日 申請日期:2013年12月26日 優先權日:2013年12月26日
【發明者】岳力挽, 邢濱 申請人:中芯國際集成電路制造(北京)有限公司