專利名稱：曝光設備的制作方法
技術領域：
本實用新型涉及等離子顯示屏制造領域，具體涉及用于光刻工藝的曝光i殳備。
背景技術：
目前，在等離子顯示屏的制造中，主要應用光刻工藝在等離子
顯示屏上形成線條圖形(例如ITO線條圖形)。在光刻工藝中，曝光機是制作圖形的關鍵設備，通過曝光機制作圖形的基本原理是利用具有光敏特性的感光材料，通過在其上方覆蓋母版圖形并通過曝光機發出的平行紫外光對感光材料進行曝光，從而獲得與母版圖形一致的感光圖形。
在制作ITO線條圖形時，首先利用石茲控濺射法在玻璃基板的整個表面上形成ITO薄膜，接著在覆蓋有ITO薄膜的玻璃基板上貼附一層感光性干膜，隨后利用具有特定線條圖形的母版作為掩模板在曝光4幾紫外光下進行曝光，隨后對曝光后的感光干膜進行顯影，沒有被母版遮蓋的感光干膜部分經過曝光、顯影操作而消除，顯影操作后玻璃基板上就顯現出與母版上的特定線條圖形相同的圖形，此時再通過蝕刻工藝將顯影后沒有被感光干膜覆蓋的ITO薄膜部分去除，這樣就形成了相應的ITO線條圖形。
如本領域4支術人員所知的那樣，在利用曝光才幾進4亍曝光時，需要對玻璃基板與母版之間的距離進行測定，測定的方法就是利用測定裝置所發出的激光能量的反射量計算出母版厚度、母版與玻璃基板的距離、以及玻璃基板的厚度。如圖1所示，除了形成由條形圖
形3的區域之外，母版2的周圍區域一^殳沒有圖形，因此這一區域是不透光的，如果需要利用激光測定玻璃基板5與母版2之間的距離就需要在母版2上開設用于距離測定的測量窗口 1。圖2示處了距離測量的基本過程的示意圖，距離測量裝置發出的激光11可以從母版2上的測量窗口 l通過，經過母片反外表面10、母版內表面9、^皮璃基才反外表面8、以及玻璃基^反內表面7的反射，最后再次通過測量窗口 l而反射回距離測量裝置，測量裝置此時根據激光能量的損失計算出母版與玻璃基板之間的距離。由于母版2上開設的測量窗口 1在測量時作為激光的通道，因此在設計母片反2時這一區域需要一皮設計成透明的。但是，在曝光過程中，當曝光才幾快門開啟而對感光干膜進行曝光時，所發出的紫外光可以穿過測量窗口 1而使對應位置的感光干膜曝光，因此，在玻璃基板5上，除了希望得到的ITO線條圖形6之外還形成了相應的窗口形狀的圖形4 (如圖3所示)。這樣在顯影之后，在隨后的蝕刻過程中，該窗口圖形4會隨著線條圖形6—起保留下來。而事實上，該部分圖形4是不需要的，在上下玻璃基板對合時此處多余的窗口形狀的ITO圖形4會對封接框的制作造成影響，降低封接排氣時的氣密性。
因此，需要4是供一種裝置以解決上述問題。

實用新型內容
本實用新型所要解決的技術問題是提供一種曝光設備，其包括用于曝光4幾的遮光裝置，該遮光裝置在曝光才幾對感光干膜進行曝光時將遮擋母版上開設的測量窗口 ，從而4吏紫外光不能照射到感光干膜上，從而與測量窗口相對的感光干膜區就不會發生曝光。為解決上述技術問題，本實用新型提供了一種曝光設備，其包
括曝光機，特別地，還包括遮光裝置，該遮光裝置包括連接元件，可轉動地安裝在曝光機的對位4竟頭上；遮光元件，固定連接于上述連4妾元件；其中，遮光元件可選才奪i也遮蓋母片反上的測量窗口。
根據本實用新型的曝光設備，其中，遮光元件在曝光機對感光干膜進行曝光時遮蓋母版上的測量窗口 。
根據本實用新型的曝光設備,安裝于日暴光才幾上并馬區動遮光元{牛；制上述驅動裝置。
根據本實用新型的曝光設備，能夠覆蓋測量窗口。
根據本實用新型的曝光設備，橢圓形、或圓角矩形。
才艮據本實用新型的曝光設備,口的形^1犬一至丈。
才艮據本實用新型的曝光設備,
根據本實用新型的曝光設備，元件的不同形狀進行調節。
根據本實用新型的曝光設備，
其中，曝光才幾包括驅動裝置，PLC才莫塊，i殳置在曝光才幾中并控
其中，遮光元件的形狀一皮設計成
其中，遮光元件的形狀為長方形、
其中，遮光元件的形狀與測量窗
其中，連接元件為直線型或L型。其中，遮光4立置的坐標#4居遮光
其中，驅動裝置還驅動對位4竟頭。
本實用新型具有以下4支術J文果:根據本實用新型的曝光i殳備包括用于曝光才幾的遮光裝置，該遮
光裝置能夠在對感光干膜進行曝光時遮擋住母版上開設的測量窗口，使得紫外光無法穿過該遮光裝置而照射到與測量窗口相對的感光干膜上，從而使該感光干膜區不會曝光，這樣在隨后的顯影蝕刻
過程中，與該部分感光干膜區對應的ITO薄膜就會被蝕刻掉，而不會形成會對封排氣密性造成影響的多余的ITO圖形。
應該理解，以上的 一般性描述和以下的詳細描述都是列舉和說明性質的，目的是為了對要求保護的本實用新型提供進一步的說明。


附圖構成本i兌明書的 一部分，用于幫助進一步理解本實用新型。這些附圖圖解了本實用新型的一些實施例，并與i兌明書一起用來i兌明本實用新型的原理。在附圖中相同的部^f牛用相同的標號表示。其中
圖1示出了作為掩模板的母版的正視圖2是測量母版與玻璃基板之間的距離過程的示意圖3示出了通過不具有才艮據本實用新型的遮光裝置的曝光才幾進行曝光后在玻璃基纟反上形成的與母版對應的圖形；
圖4是根據本實用新型的一個優選實施例的遮光裝置的主視示意圖5是才艮據本實用新型的另 一個優選實施例的遮光裝置的主禍L示意圖；圖6是利用根據本實用新型的遮光裝置進4亍遮光時的曝光過程示意圖；以及
圖7示出通過具有根據本實用新型的遮光裝置的曝光機進行曝光后在玻璃基板上形成的與母版對應的圖形。
具體實施方式
下面將參照附圖對本實用新型的具體實施方式
進行說明。
首先參照圖4和圖5，其中分別示出了根據本實用新型的用于曝光機的遮光裝置的兩個優選實施例，該遮光裝置包括連接支架(連接元件)14,它可轉動i也安裝在曝光才幾的^H立4竟頭13上；以及遮光板(遮光元件)12,它固定連4妻于連接支架14，用于遮擋曝光機發出的紫外光。為了保證遮光板12位置的穩定性，連接支架14應采用高石更度的材料(例如優質石灰素結構4岡或石更鋁)制成，并且為了在滿足連接支架14的強度要求的同時避免它遮擋母版2上的圖形，才艮據實際應用的效果，該連4妄支架14的寬度優選地不大于12mm。遮光板12需要采用不透光的材料制成，例如通過涂覆黑色的金屬材料或其他任何適合的材料而制成。應注意，由于遮光板12與母版2之間具有一定距離，為了確保完全i也遮擋住母版2上的測量窗口 1,則遮光一反12的外形應該i殳計成可以完全遮住測量窗口1,具體地，它的外圍尺寸應大于測量窗口 1的外圍尺寸，優選地，根據實際應用的結果，遮光板12的長或寬均應比測量窗口 1的長或寬大5-15mm。遮光^反12的形狀可以為長方形、橢圓形、或圓角矩形、或者是任何與測量窗口 l的形狀一致的形狀。
進一步，由圖4、 5中可見，圖4的實施例中所示的連4妄支架14為"L"型，圖5的實施例中所示的連4矣支架14為直線型，這兩種形狀的連接支架14不僅可以保證遮光板12穩、固地連接于曝光枳^的對位鏡頭13并且便于進4亍平移才乘作，同時還可以避免連接支架14在移動過程中不會遮擋母X反2上的線條圖形。
特別地，根據本實用新型的遮光4反12具有特定的遮光位置，它可以在連^妄支架14的帶動下沿垂直平面(與母W反2平ff的平面)平移，當到達上述遮光位置時，遮光板12就會遮蓋住母版2上的測量窗口 1，從而防止曝光才幾發出的紫外光照射到測量窗口 1上進而照射到對應位置的感光干膜15上(如圖6所示)，以避免在感光干膜15與測量窗口 1相對的區域中發生不想要的曝光。應注意，遮光元件12在完成母版2與玻璃基板5之間的距離測量之后，并在曝光機對感光干膜15進4于曝光之前進入上述遮光位置中。下面將描述控制遮光才反12的位置的方式和裝置，所涉及的裝置在圖中未示出。
用于驅動4艮據本實用新型的遮光裝置的是安裝在曝光4幾上的驅動裝置，它可以是專門用于本遮光裝置的驅動裝置，也可以是原本用于驅動曝光才幾的對位4竟頭13的驅動裝置，在描述的優選實施例中，為了簡化結構，采用原本用于驅動對位^:頭13的驅動裝置同時作為驅動本遮光裝置的驅動裝置。該驅動裝置由設置在曝光機
中的PLC模塊控制，根據實際的控制要求編寫相應程序，將編好的控制程序輸入到該PLC模塊中就可以對驅動裝置進行控制，進而控制才艮據本實用新型的遮光裝置的移動以及對位4免頭13。
具體地，由于遮光板12的形狀和大小要才艮據測量窗口 1的不同位置和形狀進行調節，因此遮光板12對應的遮光位置也需要進行相應的調整，遮光位置的調整通過改變它所對應的坐標值來實現。在本實用新型中，遮光才反12的遮光位置的坐標通過曝光4幾的沖喿作面才反輸入進而通過曝光才幾的PLC才莫塊進4于處理，PLC沖莫塊響應于輸入的坐標值來控制驅動裝置對遮光板12的遮光位置進行調
9具體地4喿作方式如下，針對某個母X反2上的測量窗口 l的實際 位置確定遮光位置的坐標，將該確定下來的坐標值通過曝光沖幾的控 制面板輸入至PLC模塊。當完成母版2與玻璃基板5之間的距離測 量之后，PLC模塊控制驅動裝置驅動遮光裝置，即，驅動連接支架 14沿垂直平面移動，連接支架14進而帶動遮光才反12移動，4艮據預 先輸入的遮光位置坐標，PLC才莫塊會控制驅動裝置將遮光板12移 動到對應的遮光位置處(即，測量窗口 1的上方)，/人而將測量窗 口 1完全遮蔽，以阻止在隨后的曝光過程中紫外光照射到測量窗口 l的區域中，具體的遮光狀態如圖6所示。這樣，在曝光、顯影完 成后，玻璃基板5上形成的線條圖形就如圖7中所示，即，在玻璃 基板5上只形成了與母版2上的線條圖形對應的ITO圖形6,而玻 璃基才反5上與測量窗口 1對應的區域由于遮光才反12的遮蔽作用而 沒有形成對應的ITO圖形。因此，在隨后的上下基板對接的過程中， 由于^皮璃基板5上不再存在想要的ITO圖形，因而就不會影響封4妻 排氣的氣密性。
以上 <又為本實用新型的優選實施例而已，并不用于限制本實用 新型，對于本領域的技術人員來說，本實用新型可以有各種更改和 變化。凡在本實用新型的精神和原則之內所作的任何修改、等同替 換、改進等，均應包含在本實用新型的保護范圍之內。
權利要求1. 一種曝光設備，包括曝光機，其特征在于，所述曝光設備還包括遮光裝置，所述遮光裝置包括連接元件(14)，可轉動地安裝在所述曝光機的對位鏡頭(13)上；遮光元件(12)，固定連接于所述連接元件(14)；其中，所述遮光元件(12)選擇性地遮蓋母版(2)上的測量窗口(1)。
2. 根據權利要求1所述的曝光設備，其特征在于，所述遮光元件(12 )在所述曝光機對感光干膜(15 )進行曝光時遮蓋所述母 片反(1 )上的所述測量窗口 ( 1 )。
3. 根據權利要求1所述的曝光設備，其特征在于，所述曝光機包 括驅動裝置，安裝于所述曝光一幾上并驅動所述遮光元件 (12);PLC模塊，設置在所述曝光機中并控制所述驅動裝置。
4. 根據權利要求1所述的曝光設備，其特征在于，所述遮光元件(12 )的形狀設計成能夠覆蓋所述測量窗口 ( 1 )。
5. 根據權利要求4所述的曝光設備，其特征在于，所述遮光元件(12)的形狀為長方形、橢圓形、或圓角矩形。
6. 才艮據卄又利要求4所述的曝光i殳備，其特征在于，所述遮光元件(12)的形狀與所述測量窗口 (1)的形狀一致。
7. 根據權利要求1所述的曝光設備，其特征在于，所述連接元件(14)為直線型或L型。
8. 根據權利要求5或6所述的曝光設備，其特征在于，所述遮光 位置的坐標根據所述遮光元件(12)的不同形狀進行調節。
9. 根據權利要求3所述的曝光設備，其特征在于，所述驅動裝置 還驅動所述對位4竟頭(13 )。
專利摘要本實用新型提供了一種曝光設備，其包括曝光機，特別地，還包括遮光裝置，該遮光裝置包括連接元件，可轉動地安裝在曝光機的對位鏡頭上；遮光元件，固定連接于上述連接元件；其中，遮光元件可選擇地遮蓋母版上的測量窗口。具體地，根據本實用新型的遮光元件在曝光機對感光干膜進行曝光時遮蓋母版上的測量窗口。紫外光無法穿過本遮光裝置而照射到與測量窗口相對的感光干膜上，從而使感光干膜區不會曝光，這樣在隨后的蝕刻顯影過程中，與該部分感光干膜區對應的ITO薄膜就會被蝕刻掉，而不會形成會對封排氣密性造成影響的多余的ITO圖形。
文檔編號G03F7/20GK201281804SQ20082010880
公開日2009年7月29日 申請日期2008年6月24日 優先權日2008年6月24日
發明者田玉民 申請人:四川虹歐顯示器件有限公司