專利名稱：雙側曝光系統的制作方法
技術領域：
本發明涉及雙側曝光系統。更具體地說，本發明涉及下述雙側曝光系統，該系統能夠通過帶有預定圖案的、特別是帶有一個燈曝光光源的掩模、對例如印刷電路用的基板，引線骨架用的薄板進行曝光。
一般來說，在例如制造高密度印刷電路板的工藝中使用超高壓水銀燈作為曝光光源，以便獲得高分辨率。這種類型的水銀燈為價格昂貴的燈，其價格高達500000日元。上述工藝要求水銀燈連續進行照明，該水銀燈的使用期限僅僅為500個小時左右。于是，如果可能，這種類型的曝光系統必須帶有一個單個光源，該光源必須以盡可能最高的經濟效率來使用；也就是說，需要通過采用在其壽命期限內持續盡可能多的曝光循環的光源，將每個印刷電路板用的基板的曝光費用(光源的運行費用)降低到盡可能最低的程度。
為了提高光源的經濟效率，重要的是提高機械機構的操作速度，并且將等待時間，比如曝光等待時間減少到幾乎為零，上述機械機構包括用于傳送基板的傳送機構，用于將基板與曝光掩模對準的對準調整機構。
參照表示申請號為JP特愿平9-343971(JP特開平10-333337)號文獻所描述的雙側曝光系統100的

圖13，用于以可拆卸的方式保持基板(P)的作業保持座101包括分別帶有真空墊103的相對表面，該作業保持座101反復在原始位置，即作業接納機構105和作業輸送機構107之間的虛線所示的位置，以及曝光位置，即分別保持曝光掩模113的兩個掩模保持機構109L和109R之間的實線所示的位置之間移動。
汞弧燈111，即光源發出的光通過左側光路傳送，落到通過左側掩模保持機構109L保持的曝光掩模113的后表面上，或上述光通過右側光路傳送，落到通過右側掩模保持機構109R保持的曝光掩模113的后表面上。圖中未示出的光路選擇機構將汞弧燈有選擇地與左側光路，或右側光路連通。上述作業接納機構105調節供給的未曝光的基板P的位置以便實現預備定位，將基板P轉移到位于原始位置上的作業保持座101中的，圖13所示的左側表面上的真空墊103上。當保持未曝光的基板P的作業保持座101到達處于曝光位置的左側表面上時，左側掩模保持機構109L前進而使曝光掩模113與基板P相接觸，從而曝光掩模113與基板P對準。在曝光掩模113精確地與基板P對準之后，上述曝光掩模113與基板P固定接觸。之后，進行曝光循環以便通過掩模113，對基板P的第1表面，即其中的一個表面進行曝光。
在曝光循環完成之后，將左側掩模保持機構109L從基板P上取下，左側掩模保持機構109L退回，左側轉移臂115L保持基板P，將其轉移給右側轉移臂115R。同時，作業保持座101返回到原始位置，之后再次移動到曝光位置。接著，右側轉移臂115R將基板P轉移給右側真空墊103，右側掩模保持機構109R前進而與基板P相接觸，從而曝光掩模113與基板P對準。在曝光掩模113精確地與基板P對準之后，上述曝光掩模113與基板P固定地接觸。之后，進行曝光循環以便通過曝光掩模113，對基板P的第2表面，即另一表面進行曝光。于是，完成對基板P的兩個表面的曝光。
在曝光循環完成后，從基板P上取下右側掩模保持機構109R，右側掩模保持機構109R退回，作業保持座101返回到原始位置。之后，左側真空墊103從作業接納機構105接納未曝光的基板P，作業供給機構107從右側真空墊103接納經雙側曝光的基板，并輸送該基板。
圖14A為表示已有技術的雙側曝光系統100中的程序操作的時序圖。在圖14A中，時間在水平軸線以秒計算。一般來說，曝光時間約為3秒或更小。在該時序圖中，曝光時間為3秒，循環時間，即進行從開始接納未曝光的基板P，到開始接納下一未曝光的基板的程序操作所需的時間為22秒。從圖14A可知，當雙側曝光系統100的曝光時間為3秒時，在基板P的第1表面的曝光完成與開始基板P的第2表面的曝光之間，幾乎沒有等待時間。
敷設于基板P上的一些抗蝕劑要求較長的曝光時間。當需要較長的曝光時間時，即使在完成用于曝光的機械機構的預備操作的情況下，在完成對基板P的第1表面曝光的曝光操作之前，仍不能開始進行用于對基板的第2表面曝光的曝光操作，從而產生時間損失。
圖14B為表示已有技術雙側曝光系統100的程序操作的時序圖，其中對于基板P的兩個表面，曝光時間為8秒。在此場合，完成基板P的第2表面的曝光預備操作與開始用于對第2表面進行曝光的曝光操作的曝光操作之間的等待時間為5.5秒，完成將基板P從作業保持座101的左側轉移給其右側與開始將作業保持座101轉移給原始位置之間，即用于對基板P的第2表面進行曝光的操作與后續操作之間的等待時間為5.5秒。因此，循環時間長達32秒，該時間為圖14A所示的操作所需的循環時間的1.5倍，于是燈111的運行費用陡然地增加到接近圖14A所示的操作所需的運行費用的1.5倍。
本發明是針對上述問題而提出的，本發明的目的在于提供一種雙側曝光系統，即使在曝光時間增加的情況下，該系統仍能夠控制時間損失的大量增加。
針對上述的目的，本發明提供一種雙側曝光系統，其用于通過一對分別帶有所需曝光圖案的曝光掩模，對板的一對相對的側表面進行曝光，上述雙側曝光系統包括第1掩模保持機構，其保持用于對板的第1表面進行曝光的第1曝光掩模；第1作業保持座，其能夠在第1掩模保持機構的前部的第1曝光位置，以及其上設置有未曝光的板的第1原始位置之間移動；第2掩模保持機構，其保持用于對板的第2表面進行曝光的第2曝光掩模；第2作業保持座，其能夠在第2掩模保持機構的前部的第2曝光位置，以及從其上取下經兩側曝光的板的第2原始位置之間移動；一個單個光源；光路選擇光學系統，其用于有選擇地將光源與指向第1曝光位置的第1光路，或指向第2曝光位置的第2光路連接；作業轉移機構，其能夠從第1作業保持座，接納具有在第1曝光位置進行了曝光的第1表面的板，并且將該板轉移給第2作業保持座，從而可對該板的第2表面進行曝光。
按照本發明，上述雙側曝光系統帶有兩個作業保持座，即專門用于對上述板的第1表面進行曝光的第1作業保持座和專門用于上述板的第2表面進行曝光的第2作業保持座。接納、傳送未曝光的板，對板的其中一個表面進行曝光的操作和預備步驟的階段可相對對具有經曝光的表面的板進行傳送，對板的另一表面進行曝光的操作和預備步驟的階段轉移。于是，第1處理機構(第1掩模保持機構和第1作業保持座)的操作階段，以及第2處理機構(第2掩模保持機構和第2作業保持座)的操作階段可相互轉移，從而第2處理機構可進行曝光操作，而第1處理機構進行非曝光操作的操作。于是，即使在采用一個光源的情況下，仍可確實防止因等待曝光操作造成的時間損失。
通過下述方式，可防止因用于作業保持座的移動的時間間隔造成的時間損失，以及等待曝光造成的時間損失，該方式為對上述部件的操作進行計時，從而在第1處理機構的曝光操作完成之后，在第2作業保持座到達第2曝光位置之前，作業轉移機構能夠將具有一個經曝光的表面的板安裝到第2作業保持座上。
在本發明的雙側曝光系統中，最好上述第1作業保持座能夠至少在對板的其中一個表面進行曝光的曝光操作過程中，沿豎向位置保持該板，第2作業保持座能夠至少在對板的另一表面進行曝光的曝光操作過程中，沿豎向位置保持該板。
當第1和第2作業保持座能夠沿豎向位置保持上述板時，可對曝光掩模和保持在豎向位置的板進行曝光操作，這樣便有效地防止灰塵粘附于板的表面上而造成的不良曝光。
在本發明的雙側曝光系統中，最好第1和第2掩模保持機構相對設置，在下述空間，上述作業轉移機構將上述板從第1作業傳送裝置轉移給第2作業傳送裝置，該空間指相對設置的第1掩模保持機構和第2掩模保持機構之間的空間，其中至少第1作業保持座和第2作業保持座中的一個設置在其原始位置。
于是，轉移板的任何專門空間幾乎是不需要的，因此可以較小的結構形成雙側曝光系統。
根據參照附圖進行的下面的描述，更加容易得出本發明的上述和其它目的，特征和優點。
圖1為本發明的優選實施例的雙側曝光系統的剖面前視圖，在該圖中外殼局部剖開；圖2為圖1所示的雙側曝光系統的主要部分的平面圖；圖3為圖1所示的雙側曝光系統的主要部分的透視圖；圖4為用于說明圖1所示的雙側曝光系統中的左側作業升降器的未曝光基板接納操作的示意性前視圖；圖5為用于說明圖1所示的雙側曝光系統中的第1處理機構的曝光操作的示意性前視圖；圖6為用于說明圖1所示的雙側曝光系統中的左側轉移臂的基板接納操作的示意性前視圖；圖7為用于說明圖1所示的雙側曝光系統中的，在左右轉移臂之間傳遞基板的作業傳遞操作的示意性前視圖；圖8為用于說明圖1所示的雙側曝光系統中的第1處理機構的曝光操作和右側作業升降器的基板安裝操作的示意性前視圖；圖9為用于說明圖1所示的雙側曝光系統中的左側轉移臂的基板接納操作和第2處理機構的曝光操作的示意性前視圖圖10為用于說明圖1所示的雙側曝光系統中的，第2處理機構的同步曝光操作和左右側轉移臂之間的轉移操作的示意性前視圖；圖11為用于說明圖1所示的雙側曝光系統中的，第1處理機構的曝光操作和經雙側曝光的基板去除操作的示意性前視圖；圖12為表示通過圖1所示的雙側曝光系統進行的程序操作的時序圖；圖13為已有技術的雙側曝光系統的主要部分的示意性前視圖；圖14A和14B為表示圖13所示的已有技術的雙側曝光系統的程序操作的時序圖。
下面參照圖1～3，對用于通過曝光法對用于形成印刷電路板的基板進行處理的本發明的優選實施例的雙側曝光系統1的結構進行描述。
在圖1中，假定紙的這一側為前側，紙的另一側為后側，圖的左側為左側，圖的右側為右側。參照圖1～3，類似于墻的基板5沿豎向設置于外殼3的內部的中間區域，以便在基板5的后面形成光學系統腔7。水平隔板9在上述空間的高度中間位置，設置于基板5的前部空間。隔板9下面的空間用作接納/輸送腔11，隔板9上面的空間用作曝光腔13。在隔板9的中間部形成有孔9a。上述接納/輸送腔11和曝光腔13通過該孔9a連通。作業進口15和作業出口17分別形成于外殼3的左右側壁上。左側作業升降器(第1作業保持裝置)21L和右側作業升降器(第2作業保持裝置)21R設置于外殼3中，以便沿豎向穿過上述孔9a移動。左側掩模保持機構23L和右側掩模保持機構23R分別設置于曝光腔13中的、左側作業升降器21L和右側作業升降器21R的路徑的外側。左側作業升降器21L和左側掩模保持機構23L構成第1處理機構25L。右側作業升降器21R和右側掩模保持機構23R構成第2處理機構25R。第1處理機構25L主要用于對用于形成印刷電路板的基板P的第1表面進行曝光，第2處理機構25R主要用于對上述基板P的第2表面進行曝光。
加載裝置27設置于接納/輸送腔11中的左側區域的，作業升降器21L的左側。接納傳送器29具有面對作業進口15的左端。通過圖中未示出的，在外殼3的左側延伸的進給傳送器將基板P經作業進口15供給到接納傳送器29。該基板P具有相對表面，該相對表面分別涂敷可被紫外線硬化的抗蝕膜。該基板P通過圖中未示出的驅動輥從接納傳送器29傳送到加載裝置27上，該輥設置于接納傳送器29中。上述加載裝置27具有通過吸力將基板P保持在加載臺上的保持功能，另外具有調整基板P的前緣的位置而與預對準傳感器31(圖1)相配合的對準功能。在通過預先對準而使基板P正確地設置于加載裝置27上之后，加載裝置27旋轉角度90°而位于圖1中的雙點劃線所示的位置，并且沿水平方向移動。該加載裝置27支承于從基板5向前伸出的軸33上。該軸33支承于圖中未示出的移動機構上，該移動機構設置于基板5的后側，并且能夠沿側向移動。
卸載裝置35設置于作業升降器31R的路徑的右側，供給傳送器37設置于卸載裝置35的右側。該卸載裝置35具有頂面，當需要時，可通過圖中未示出的真空裝置在該頂面產生真空。該卸載裝置35可設置于圖1中的實線所示的水平位置，可從水平位置旋轉90°而到達其頂面朝向左側的豎向位置。該卸載裝置35支承于相對基板5向前伸出的軸33'上。該軸33'支承于圖中未示出的移動機構上，該移動機構設置于基板5的后側，能夠沿側向移動。
釋放傳送器37包括朝向作業出口17的右端。當保持基板P的右側作業升降器21R下降到原始位置時，位于豎向位置的上述卸載裝置35從右側作業升降器21R接納基板P，之后該卸載裝置35旋轉到水平位置。通過驅動輥，將該基板P從卸載裝置35轉移到釋放傳送器37上，該驅動輥在圖中未示出，并且設置于卸載裝置35中。該釋放傳送器37使基板P穿過作業出口17，轉移給圖中未示出的傳送器，以便將該基板P傳送到下一步驟，比如顯影步驟。
如圖2所示，沿側向，在基板5的后面的中間部連接有一對保持平行的右側豎向導軌36，以及一對保持平行的左側豎向導軌36。滑動座39分別沿左右側豎向導軌36滑動。水平臂41分別穿過形成于基板5中的槽5a而相對滑動座39向前伸出。上述作業升降器21L和21R分別與水平臂41的前端固定。
上述作業升降器21L和21R能夠通過吸力將基板P保持在豎向位置，并且沿豎向移動。雖然在圖中上述作業升降器21L和21R是按典型方式以簡單的矩形平板示出的，但是實際上，每個作業升降器21L和21R具有呈豎向壁形狀的移動座；真空墊，該真空墊上設置有多個抽吸孔，真空墊與一個側面固定，即與移動座中的，左側作業升降器21L的左側面或右側作業升降器的右側面固定；真空系統，該真空系統與上述真空墊連接。基板P可以拆卸的方式通過吸力保持在真空墊上。
上述滑動座39分別通過因圖中未示出的伺服馬達的旋轉而驅動的滾珠螺旋而被移動，以便使作業升降器21L和21R沿豎向穿過隔板9中的孔9a。上述作業升降器21L和21分別在加載裝置27和卸載裝置35之間的，圖1中的實線所示的原始位置，以及掩模保持機構23L和23R之間的，圖1中的雙點劃線所示的曝光位置之間移動。
如圖2所示，水平導軌45與豎向導軌36的左右側上的基板5的后表面的一部分固定，以便沿側向延伸。滑動座47沿水平導軌45滑動。臂49分別穿過形成于基板5上的孔5b而相對滑動座47向前水平伸出。每個滑動座47上設置有圖中未示出的滾珠螺旋、即螺母，螺桿53 通過滾珠軸承與螺母連接。上述螺桿53通過伺服馬達51的旋轉而驅動。使上述螺桿53旋轉從而使滑動座47沿側向移動。掩模保持機構23L(23R)在與作業升降器21L(21R)的路徑間隔開的后部位置，以及下述前部位置之間移動，在該前部位置，通過掩模保持機構23L(23R)保持的掩模與保持在作業升降器21L(21R)上的基板P相接觸。雖然掩模保持機構23L和23R在附圖中是按照典型方式以簡單的矩形平板示出的，但是實際上，每個掩模保持機構23L和23R具有矩形座；對準機構，該機構與一個側面固定，即與上述座中的，左側掩模保持機構23L的右側面，或右側掩模保持機構23R的左側面固定；曝光掩模55，其由圖3中的點所示；檢測對準誤差的照相機。對上述對準機構中的豎向平面的位置進行調整，以便精細地調整曝光掩模55的位置。
上述曝光掩模55帶有預定的透明圖案，光掩模標記(未示出)形成于預定位置。上述光掩模標記相對形成于基板P中的參照孔的對準度是通過上述照相機測定的，以便使曝光掩模55與基板P對準。
在外殼3中的光學系統腔7的底部中間區域設置有一個燈61。該燈61為汞弧燈。該燈61向正上方發出光。半透明的可旋轉反射鏡63設置于上述燈61的上方。可旋轉的反射鏡63可設置于圖中的虛線所示的第1位置，以便將由燈61發出的光朝向左側反射；圖1中的雙點劃線表示的第2位置，以便將由燈61發出的光朝向右側或中間位置、即水平位置反射。
照明反射鏡65L設置于左側掩模保持機構23L的左側，照明反射鏡65R設置于掩模保持機構23R的右側。反射鏡67設置于光學系統腔7中的左右端。復眼(自由眼)透鏡69分別設置在一個反射鏡67和可旋轉的反射鏡63之間，以及另一反射鏡67和可旋轉的反射鏡63之間。在可旋轉的反射鏡63設置于第1位置的狀態，燈61發出的光通過左側反射鏡67和左側照明反射鏡65L朝向曝光掩模55反射，該曝光掩模55通過左側掩模保持機構23L保持。在可旋轉的反射鏡63設置于第2位置的狀態，燈61發出的光通過右側反射鏡67和右側照明反射鏡65R朝向曝光掩模55反射，該掩模55通過右側掩模保持機構23R保持。
當保持基板P的左側作業升降器21L位于曝光位置，并且可旋轉的反射鏡63旋轉而設置于第1位置時，左側曝光掩模55與基板P的第1表面相接觸，該基板P的第1表面通過左側曝光掩模曝露在燈61發出的光下，從而在基板P的第1表面上形成左側曝光掩模的曝光圖案的潛像。當保持基板P的右側作業升降器21R位于曝光位置，并且可旋轉的反射鏡63旋轉而設置于第2位置時，右側掩模55與基板P的第2表面相接觸，基板P的第2表面通過右側曝光掩模55曝露在燈61發出的光下，從而在基板P的第2表面上形成右側曝光掩模55的曝光圖案的潛像。
參照圖3，轉移機構75L和75R分別具有轉移臂77L和77R，以及滑動座79。頂部基板71位于基板5上，導軌73在頂部基板71上沿側向延伸。滑動座79呈長條的平板狀，其朝向前方沿水平方向延伸，并且具有以可滑動的方式支承于導軌73上的后端部。左側滑動座79通過氣動驅動器81沿側向移動較短的距離(圖1)，右側滑動座79通過因伺服馬達83旋轉而驅動的滾珠螺旋85而沿側向移動較長的距離。轉移臂驅動機構87分別與滑動座79的前端部連接。轉移臂驅動機構87分別設置有平行連桿89。轉移臂77L和77R分別與平行連桿89中的操作端連接。轉移臂77L(77R)為空心結構，該結構具有帶抽吸凸部的相對側邊部件。轉移臂77L和77R中的空腔與圖中未示出的抽吸機構連通。當將上述空腔排空時，在抽吸凸部的頂表面上產生負壓。
平行連桿89可在該平行連桿89沿水平方向向前延伸的水平位置，以及該平行連桿89沿豎向向下延伸的豎向位置之間旋轉以90°。當平行連桿89旋轉時，保持在水平位置的轉移臂77L和77R沿豎向在高出圖3所示的掩模保持機構23L和23R的位置的等待位置，以及稍高出圖1所示的掩模保持機構23L和23R中的中間部的位置的較低位置之間移動。
下面參照圖4～12對雙側曝光系統1的操作進行描述。圖4～11為用于說明雙側曝光系統1的時間程序操作的圖，圖12為表示雙側曝光系統1的程序操作的時序圖。在初始操作階段，僅僅第1處理機構25L操作，圖12中的星號(※)表示的操作不進行，直至第1處理機構25L完成第1曝光循環。在圖12中，豎向虛線之間的間距與1秒相對應。
在初始狀態，作業升降器21L和21R分別位于其原始位置，掩模保持機構23L和23R分別保持在后部位置，加載裝置27和卸載裝置35保持在水平位置，其中其頂面朝上，轉移臂77L和77R分別位于其等待位置。可旋轉的反射鏡63設置于中間位置。當雙側曝光系統1啟動時，燈61打開。燈61保持打開，直至雙側曝光系統停止。之后，將基板P傳送給接納傳送器29，將基板P從接納傳送器29轉移給加載裝置27，對該基板P在加載裝置27上的位置進行調節以便實現預先對準。接著，如圖4所示，將加載裝置27設置于豎向位置，使其朝向作業升降器21L移動，從而通過吸力使作業升降器21L保持基板P(圖12中的“接納”)。
保持基板P的左側作業升降器21L上升到圖4中的雙點劃線所示的曝光位置(圖12中的“上升”)。之后，加載裝置27回到原始位置，進行接納基板P的處理，保持等待狀態，直至左側作業升降器21L下降到等待位置。
當左側作業升降器21L下降到曝光位置時，基板P的第1表面位于與左側掩模保持機構23L相對的位置。然后，左側掩模保持機構23L移動到前方位置(圖12中的“前進”)，從而曝光掩模55與基板輕輕接觸，并且與基板P對準(圖12中的“對準”)。接著，曝光掩模55與基板P緊密接觸(圖12中的“接觸”)。之后，可旋轉的反射鏡63旋轉而位于第1位置(圖12中的“第1位置”)。因此，燈61發出的紫外線輻射穿過圖5所示的基板P的第1表面上的，通過掩模保持機構23L保持的曝光掩模55(圖12中的“曝光”)。在紫外線對基板P的第1表面輻射所需時間，比如8秒之后，可旋轉的反射鏡63返回而位于中間位置，將該曝光掩模55從基板P去除(圖12中的“脫離”)，然后左側掩模保持機構23L退回到后部位置(圖12中的“退回”)。
接著，左側轉移臂77L通過底部位置而向右移動，通過吸力保持基板P，移動到圖6所示的底部位置(圖12中的“轉移”)。這樣將具有經曝光的第1表面的基板P從左側作業升降器21L轉移到左側轉移臂77L上。然后，左側作業升降器21L下降到圖6中的雙點劃線所示的原始位置(圖12中的“下降”)。左側作業升降器21L在原始位置，從加載位置27接納下一基板P。
同時，在左側作業升降器21L到達原始位置之后，右側轉移臂77R移動到等待位置的左側，并且下降到底部位置，從而從右側，朝向通過左側轉移臂77L保持的基板P。接著，基板P從左側轉移臂77L轉移到右側轉移臂77R(圖12中的“轉移”)。然后，保持基板P的右側轉移臂77R水平移動到，位于左側作業升降器21L和右側作業升降器21R之間的，圖7中的雙點劃線所示的位置。右側轉移臂77R在上述位置處于等待狀態(圖12中的“接納和等待”)。
接著，第1處理機構25L反復進行上升操作，前進操作，對準操作和曝光操作。同時，在第1處理機構25L開始對準操作之后，右側轉移臂77R馬上移動到右側作業升降器21R和掩模保持機構23R之間的位置(圖12中的“向右移動”)。開始進行對準操作的時間與在第2和下面的曝光循環中右側作業升降器21R完成從曝光位置到原始位置的移動的時間相對應。然后，右側作業升降器21R上升到曝光位置(圖12中的“上升”)。
接著，右側轉移臂77R向左移動，將具有已曝光第1表面的基板P轉移給右側作業升降器21R，并且該右側作業升降器21R通過吸力保持該基板P，如圖8所示(圖12中的“固定”)。該基板P通過吸力保持在右側作業升降器21R上，其中該基板P的第2表面朝向右側；也就是說，在將基板P從左側作業升降器21L轉移給右側作業升降器21R的過程中，將基板P插入。然后，右側轉移臂77R返回到等待位置。
當第1處理機構25L處于曝光位置，第2處理機構25R中的右側掩模保持機構23R移動到前方位置(圖12中的“前進”)，從而使曝光掩模55與基板P的第2表面輕輕接觸，掩模55與基板P對準(圖12中的“對準”)。剛好在對準操作完成之前，第1處理機構25L完成曝光操作，可旋轉的反射鏡63旋轉而位于中間位置。
在第2處理機構25R中，在完成對準操作之后，通過右側掩模保持機構23R保持的曝光掩模55與基板P緊密接觸(圖12中的“緊密接觸”)。然后，可旋轉的反射鏡63旋轉而位于第2位置(圖12中的“第2位置”)，從而使燈61發出的紫外線，穿過通過右側掩模保持機構23R保持的曝光掩模，對基板P的第2表面進行輻射(圖12中的“曝光”)，如圖9所示。在第1處理機構25L中，具有通過曝光操作而曝光的第1表面的基板P從作業升降器21L轉移給轉移臂77L，作業升降器21L向下移動到原始位置以便接納下一基板P。
當第2處理機構25R處于曝光操作時，右側轉移臂77R從左側轉移臂77L接納具有已曝光處理的第1表面的基板P，如圖10所示。
接著，第1處理機構25L中的作業升降器21L提高以便實現“上升”，對掩模保持機構23L進行操作以便實現“前進”和“對準”，第2處理機構25R完成曝光操作，掩模保持機構23R撤回而實現“退回”，作業升降器21R移動到原始位置，卸載裝置35從作業升降器21R接納具有已曝光處理的相對表面的基板P，如圖11所示。通過釋放傳送器37將由此處理的基板P傳送到外殼3的外側。然后，反復進行與圖8,9,10有關的上述的操作。
從圖12中的時序圖顯然知道，沒有不進行任何操作的任何空閑時間。圖12所示的曝光操作的循環時間為26.5秒，該時間比下述循環時間少17％，該下述循環時間指其中的曝光時間為8秒的已有曝光系統100的，圖14B示的曝光操作的32秒的循環時間。換言之，雖然一個表面的曝光時間相對3秒增加了5秒，并且兩個表面的曝光時間增加10秒，但是兩個表面的增加時間可限制在4.5秒(吸收了圖14A中的0.5秒的時間損失)。
雖然按照應用于對基板的兩個表面上形成的抗蝕膜進行曝光的雙側曝光系統的方式對本發明進行了描述，但是本發明不限于其具體的應用場合，本發明可用于各種類型的雙側曝光系統，該系統用于對兩個板狀表面進行曝光，該表面是通過帶有預定的曝光圖案的曝光掩模進行曝光的。
雖然上述的本發明的雙側曝光系統帶有沿豎向移動的升降器，但是本發明可用于帶有與作業升降器相對應的，并且用于沿水平方向移動的作業保持機構的雙側曝光系統。
雖然通過具體的優選實施例對本發明進行了描述，但是顯然許多改進和變換是可能的。于是應知道，本發明可在不離開本發明的請求保護范圍和實質的情況下，以非上面的具體描述的方式實施。
權利要求
1．一種雙側曝光系統(1)，用于通過一對分別帶有所需曝光圖案的曝光掩模(55,55)，對板(P)的一對相對的側表面進行曝光，上述雙側曝光系統(1)包括第1掩模保持機構(23L)，其保持用于對板(P)的第1表面進行曝光的第1曝光掩模(55)；第1作業保持裝置(21L)，其能夠在第1掩模保持機構(23L)的前部的第1曝光位置，以及其上設置有未曝光的板的第1原始位置之間移動；第2掩模保持機構(23R)，其保持用于對板(P)的第2表面進行曝光的第2曝光掩模(55)；第2作業保持裝置(21R)，其能夠在第2掩模保持機構(23R)的前部的第2曝光位置，以及從其上取下兩側已曝光的板(P)的第2原始位置之間移動；一個光源(61)；光路選擇光學系統(63)，用于有選擇地將光源(61)與指向第1曝光位置的第1光路，或指向第2曝光位置的第2光路連接；作業轉移機構(75L,75R)，其能夠從第1作業保持裝置(21L)，接納具有在第1曝光位置進行了曝光的第1表面的板(P)，并且將該板(P)轉移給第2作業保持裝置(21R)，從而可對該板(P)的第2表面進行曝光。
2．根據權利要求1所述的雙側曝光系統，其特征在于第1作業保持裝置(21L)能夠至少在對板(P)的第1表面進行曝光的曝光操作過程中，沿豎向位置保持該板(P)。
3．根據權利要求1所述的雙側曝光系統，其特征在于第2作業保持裝置(21R)能夠至少在對板(P)的第2表面進行曝光的曝光操作過程中，沿豎向位置保持該板(P)。
4．根據權利要求1所述的雙側曝光系統，其特征在于第1掩模保持機構(23L)和第2掩模保持機構(23R)相對設置，上述轉移機構(75L,75R)包括第1作業傳送裝置(75L)和第2作業傳送裝置(75R)，在下述空間，上述作業轉移機構(75L,75R)將上述板(P)從第1作業傳送裝置(75L)轉移給第2作業傳送裝置(75R)，該空間指相對設置的第1掩模保持機構(23L)和第2掩模保持機構(23R)之間的空間，其中第1作業保持機構(21L)和第2作業保持機構(21R)設置于其原始位置。
5．根據權利要求1所述的雙側曝光系統，其特征在于上述板為用于制造印刷電路板的基板，其包括一對分別涂敷有抗蝕劑膜的相對的側表面。
全文摘要
一種雙側曝光系統(1),其包括第1作業保持裝置(21L),該裝置用于保持與曝光掩模(55)相對的基板(P),以便通過該曝光掩模(55)對基板(P)的第1表面進行曝光;第2作業保持裝置(21R),其用于保持與另一曝光掩模(55)相對的該基板(P),以便通過該曝光掩模(55)對基板(P)的第2表面進行曝光。可使未曝光的基板的接納,轉移和預處理操作階段,以及具有一個已曝光表面的基板的接納,轉移和預處理操作階段錯開,以便防止在曝光操作過程中進行等待而造成的時間損失。
文檔編號G03F7/20GK1315677SQ0010831
公開日2001年10月3日 申請日期2000年3月24日 優先權日2000年3月24日
發明者岡本惇 申請人:豐和工業株式會社