專利名稱：一種具有金屬反射效果的紅色裝飾介質膜的制作方法
技術領域：
一種具有金屬反射效果的紅色裝飾介質膜技術領域[0001]本實用新型涉及用于手機貼膜的技術領域，特指一種用于手機上、具有金屬反 射效果的紅色裝飾介質膜。
背景技術：
[0002]具有金屬鏡面效果的反射膜廣泛應用于各種電子消費品如手機等的裝飾領域， 利用介質膜的光干涉原理，用非金屬的介質材料，采取多層介質膜疊加的方法，鍍制出 不導電的具有金屬鏡面效果的復合膜層。產品主要應用于帶射頻信號收發的電子產品如 手機等外觀裝飾結構件如鏡片等，使產品具有金屬質感。[0003]多層介質膜疊加的工藝，在電子槍設備鍍制減反射膜(AR膜)的生產中已廣泛 應用。如常見的一種AR膜產品，其膜層結構為Si02/Ti02/Si02/Ti02。采用濺射工藝 鍍制介質膜，在ITO玻璃制造、太陽能基板制造等領域，已廣泛使用。這類產品，在功 能膜層中廣泛采用Si02、Cr02等介質膜層與其他膜層進行疊加。以改善膜層結構、光 學特性等。[0004]上述設備、工藝方式、膜層結構、還沒有成熟固化的制程應用于裝飾功能膜層 的生產。特別是沒有結合后續的印刷工藝，形成產業化生產。發明內容[0005]本新型的目的就是針對現有技術的不足之處而提供一種具有金屬反射效果的紅 色裝飾介質膜。[0006]為達到上述目的，本新型的技術方案是一種具有金屬反射效果的紅色裝飾介 質膜，包括有由PET塑料或PC塑料或PMMA塑料材料制成的裝飾基膜，在所述裝置 基膜表面上濺射鍍有厚度為42nm-45nm的Ti205層；在Ti205層上覆蓋濺射鍍有厚度 17nm-25nm的幻02層；在幻02層上覆蓋濺射鍍有厚度為15nm_25nm的金屬Sn層。[0007]采用上述結構后，本新型采用多層連續鍍膜設備與反應濺射工藝，利用多層介 質膜的每一層的光反射形成相互干涉的原理，實現非金屬的介質膜層具有金屬的鏡面發 射效果，采用本新型中的四種指定厚度的材料按上述結構連續濺射成膜后，本新型的裝 飾介質膜具有紅色反光效果，廣泛應用在手機等裝飾領域。


[0008]圖1為本新型結構原理示意圖。
具體實施方式
[0009]如圖1所示，本新型的一種具有金屬反射效果的紅色裝飾介質膜，包括有由PET 塑料或PC塑料或PMMA塑料材料制成的裝飾基膜10，在所述裝置基膜10表面上濺射鍍 有厚度為42nm_45nm的Ti205層20 ；在Ti205層20上覆蓋濺射鍍有厚度17nm_25nm的Si02層30 ；在幻02層30上覆蓋濺射鍍有厚度為15nm_25nm的金屬Sn層40。[0010]這里的PET塑料學名為聚對苯二甲酸乙二醇酯屬線型飽和聚酯樹脂；這里的PC 塑料學名為聚碳酸脂；這里的PMMA學名為聚甲基丙烯酸甲酯；這里的Ti205是五氧 化二鈦；Si02為二氧化硅；金屬Sn為錫。[0011]本新型采用多層連續鍍膜設備與反應濺射工藝，利用多層介質膜的每一層的光 反射形成相互干涉的原理，實現非金屬的介質膜層具有金屬的鏡面發射效果，采用本新 型中的四種指定厚度的材料按上述結構連續濺射成膜后，本新型的裝飾介質膜具有紅色 反光效果，廣泛應用在手機等裝飾領域。
權利要求1. 一種具有金屬反射效果的紅色裝飾介質膜，包括有由PET塑料或PC塑料或 PMMA塑料材料制成的裝飾基膜，其特征在于在所述裝置基膜表面上濺射鍍有厚度為 42nm-45nm的Ti205層；在Ti205層上覆蓋濺射鍍有厚度17nm_25nm的Si02層；在 Si02層上覆蓋濺射鍍有厚度為15nm-25nm的金屬Sn層。
專利摘要本實用新型涉及一種具有金屬反射效果的紅色裝飾介質膜。它包括有由PET塑料或PC塑料或PMMA塑料材料制成的裝飾基膜，在所述裝置基膜表面上濺射鍍有厚度為42nm-45nm的Ti2O5層；在Ti2O5層上覆蓋濺射鍍有厚度17nm-25nm的SiO2層；在SiO2層上覆蓋濺射鍍有厚度為15nm-25nm的金屬Sn層。本新型采用多層連續鍍膜設備與反應濺射工藝，利用多層介質膜的每一層的光反射形成相互干涉的原理，實現非金屬的介質膜層具有金屬的鏡面發射效果，本新型的裝飾介質膜具有紅色反光效果。
文檔編號B32B9/04GK201808394SQ20102056301
公開日2011年4月27日 申請日期2010年10月15日 優先權日2010年10月15日
發明者金烈 申請人:深圳市金凱新瑞光電有限公司