技術編號：9731947
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。專利說明作為硬掩模和填充材料的穩定的金屬化合物、其組合物從及 使用方法 發明領域 本發明設及具有改進的穩定性的新型可溶性多配體取代金屬化合物和包含該金 屬化合物的新型組合物，其可用作在形成微光刻特征中具有良好的溝槽或通孔填充性質并 在氧基等離子體中具有良好的抗等離子蝕刻性的金屬硬掩模。該新型組合物用于在半導體 襯底上形成微細圖案的方法中。 發明背景 金屬氧化物膜可用于半導體工業中的許多應用，如光刻硬掩模、用于抗反射涂層 的底層W及光電器件。 光致抗蝕劑組合...
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