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適用于LPCVD設備的全自動上下料系統和方法技術資料下載

技術編號:39489692

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本申請主要涉及lpcvd設備領域,尤其涉及一種適用于lpcvd設備的全自動上下料系統和方法。背景技術、低氣壓化學氣相沉積(lpcvd)鍍膜設備是半導體工藝的常見設備,該類設備在使用時通常需要人員將在放有晶圓的樣片花籃放置在設備放樣槳上,設備放樣槳自動傳輸設備內部。該設備高達.米,人員需要爬扶梯或踏梯以完成上料的流程。在完成高溫(可達℃)工藝后,放樣槳傳送回原位,人員須自行判斷花籃溫度足夠低,或帶上防護手套將換藍取出以完成下料的流程。根據lpcvd工藝需求,在放置樣片舟時,樣片舟的兩...
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