技術編號：39425891
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發明涉及高精度運動平臺，特別涉及一種光學透鏡運動平臺的組裝方法。背景技術、在光刻機中，照明系統是將激光器出射的光進行一些調整，為掩膜提供高質量的照明場，從而保證掩膜圖形通過投影物高質量的成像至硅片面上。均勻的照明場能夠降低光刻工藝因子，提高整個光刻系統的分辨率。隨著光刻技術的不斷發展，光刻對照明系統的均勻性的要求也不斷地提高。現有的光刻機中的照明系統通常是針對某個照明條件進行模擬后,制造單一的照明均一性補償鏡頭，并加裝到照明系統中，從而對照明均一性起到補償作用。但是該方法無法同時補償照明均一...
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