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半導體結構的形成方法技術資料下載

技術編號:10625641

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分柵式閃存是一種常用的非易失性半導體存儲器,其以無過擦除效應、電路設計 相對簡單,以及低壓、高速的運作特點已成為存儲器件的主流技術,被廣泛應用于諸如智能 卡、S頂卡、微控制器、手機等電子產品中。 參考圖1所示,分柵式閃存半導體襯底10 ;位于半導體襯底10上的隧穿層11、位 于所述隧穿層11上的浮柵21,浮柵21上的絕緣層22、位于所述絕緣層22上的控制柵23, 以及位于所述隧穿層11上,且位于所述浮柵21和控制柵23 -側的選擇柵24。 先前工藝中,所...
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