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顯示裝置、玻璃蓋板及其制作方法

文檔序號:10664735閱讀(du):720來源:國(guo)知局
顯示裝置、玻璃蓋板及其制作方法
【專利摘要】本發明涉及一種玻璃蓋板,包括玻璃基板及形成在玻璃基板的表面上的二氧化硅膜層,所述二氧化硅膜層的表面被蝕刻形成凹凸不平的多孔狀。本發明還提供一種具有上述玻璃蓋板的顯示裝置以及上述玻璃蓋板的制作方法。該方法采用絲網印刷的方式利用二氧化硅蝕刻膏對二所化硅膜層進行蝕刻以得到凹凸不平的多孔結構。上述玻璃蓋板具有表面呈凹凸不平的多孔結構的二氧化硅膜層而達到防眩效果。且凹凸不平的多孔結構通過絲網印刷的方式對二氧化硅膜層進行蝕刻而得,操作簡單,不會影響玻璃蓋板的外觀。
【專利說明】
顯示裝置、玻璃蓋板及其制作方法
技術領域
[0001]本發明涉及顯示技術領域,特別涉及一種顯示裝置的玻璃蓋板,以及該玻璃蓋板的制作方法,同時也涉及一種具有上述玻璃蓋板的顯示裝置。
【背景技術】
[0002]現有的液晶顯示屏、液晶觸摸屏多采用玻璃作為蓋板。玻璃蓋板的一個缺陷就是經常發生反光而產生眩光,導致顯示效果不佳。玻璃蓋板上產生眩光主要是當外界光進入玻璃表面時,由于玻璃表面過于平坦,入射光在玻璃蓋板表面發生反射,反射光直接進入人眼而導致的。
[0003]降低眩光可通過將玻璃表面粗糙化,使入射光發生漫反射來實現。現有的方式主要是通過化學方法將玻璃表面粗糙化,例如采用酸蝕工藝,在玻璃表面形成微小的蝕刻槽。一般的酸蝕防眩玻璃是先對玻璃表面進行蒙砂,然后對蒙砂面進行拋光,這種生產工藝相對復雜,生產周期長。

【發明內容】

[0004]基于此,有必要針對上述缺陷提供一種生產成本較低的能防眩的玻璃蓋板,以及該玻璃蓋板的制作方法。本發明還提供一種具有該玻璃蓋板的顯示裝置。
[0005]—種玻璃蓋板,包括玻璃基板及形成在玻璃基板的表面上的二氧化硅膜層,所述二氧化硅膜層的表面被蝕刻形成凹凸不平的多孔狀。
[0006]在其中一個實施例中,所述二氧化娃膜層的厚度為0.1 μ m?5 μ m。
[0007]—種顯示裝置,包括觸控顯示模組,與觸控顯示模組結合的玻璃蓋板,以及收容觸控顯示模組的殼體,所述玻璃蓋板為上述任意一種玻璃蓋板。
[0008]—種玻璃蓋板的制作方法,包括如下步驟:
[0009]提供玻璃基板;
[0010]在玻璃基板的表面形成二氧化硅膜層;以及
[0011]采用二氧化硅蝕刻膏,通過絲網印刷的方式對二氧化硅膜層進行蝕刻,使所述二氧化硅膜層的表面形成凹凸不平的多孔狀。
[0012]在其中一個實施例中,所述二氧化娃膜層的厚度為0.Ιμπι?5μηι。
[0013]在其中一個實施例中,通過絲網印刷的方式對二氧化硅膜層進行蝕刻的時間為2min ?15min0
[0014]在其中一個實施例中,絲網印刷采用200目或者250目的聚酯絲網。
[0015]在其中一個實施例中,絲網印刷的厚度為10 μπι?20 μπι。
[0016]在其中一個實施例中,在玻璃基板的表面鍍上二氧化硅膜層之前還包括清洗玻璃基板的步驟。
[0017]在其中一個實施例中,通過絲網印刷的方式對二氧化硅膜層進行蝕刻之后,還包括對玻璃基板進行清洗以及烘干的步驟。
[0018]上述玻璃蓋板具有表面呈凹凸不平的多孔結構的二氧化硅膜層而達到防眩效果。且凹凸不平的多孔結構通過絲網印刷的方式對二氧化硅膜層進行蝕刻而得,操作簡單,不會影響玻璃蓋板的外觀。
【附圖說明】
[0019]圖1為一實施例提供的玻璃蓋板的結構示意圖;
[0020]圖2為一實施例提供的顯示裝置的結構示意圖;
[0021]圖3為一實施例提供的玻璃蓋板的制作方法的流程圖。
【具體實施方式】
[0022]為了便于理解本發明,下面將參照相關附圖對本發明進行更全面的描述。附圖中給出了本發明的首選實施例。但是,本發明可以以許多不同的形式來實現,并不限于本文所描述的實施例。相反地,提供這些實施例的目的是使對本發明的公開內容更加透徹全面。
[0023]除非另有定義,本文所使用的所有的技術和科學術語與屬于本發明的技術領域的技術人員通常理解的含義相同。本文中在說明書中所使用的術語只是為了描述具體的實施例的目的,不是旨在于限制本發明。
[0024]如圖1所示,一實施例提供的玻璃蓋板適用于觸摸屏等電子裝置。該玻璃蓋板包括玻璃基板22以及形成在玻璃基板22的表面上的二氧化硅膜層21。二氧化硅膜層21優選設置在玻璃基板22朝向用戶的一個表面。例如,當該玻璃蓋板作為手機等顯示裝置的保護蓋板時,二氧化硅膜層21設置在玻璃基板22的頂面。二氧化硅膜層21也可同時設置在玻璃基板22的兩個相對的表面。
[0025]二氧化娃膜層21的厚度為0.1 μ m?5 μ m。優選地,該二氧化娃膜層21為二氧化硅鍍層,在玻璃基板22的表面形成二氧化硅膜層21的方法為電鍍,其具有成本低、工藝成熟簡單的優勢。在其他實施方式中該二氧化硅膜層21為二氧化硅沉積層,可采用沉積的工藝在玻璃基板22的表面形成二氧化硅膜層21。
[0026]二氧化硅膜層21的表面被蝕刻形成凹凸不平的多孔狀,如圖1中所示,該二氧化硅膜層21的遠離玻璃基板22的表面具有多個呈不規則形狀的凹陷。借助該種設置,可使入射光在該表面處發生漫反射,從而消除眩光或者降低眩光的程度。
[0027]二氧化硅膜層21的多孔狀表面可采用二氧化硅蝕刻膏,通過絲網印刷的方式對二所化硅膜層21進行蝕刻而得。
[0028]如圖2所示,本發明還提供一種具有上述玻璃蓋板的顯示裝置。該顯示裝置包括觸控顯示模組23,與觸控顯示模組23結合的玻璃蓋板,以及收容觸控顯示模組23的殼體24。玻璃蓋板包括上述的玻璃基板22以及形成在玻璃基板22的表面上的二氧化硅膜層21,此不贅述。
[0029]該顯示裝置可以是便攜式電子產品,例如手機、平板電腦等,也可以是其他類型的電子產品,例如顯示器、筆記本電腦等。觸控顯示模組23包括觸控單元和顯示單元,觸控單元可以是內嵌式觸控單元,例如觸控電極可以集成在顯示單元內部,也可以是外掛式觸控單元,例如觸控電極可以形成在玻璃蓋板與顯示單元之間。更具體的,在一些實施例中,觸控電極可形成在玻璃蓋板的底面上。
[0030]本發明還提供一種上述玻璃蓋板的制作方法。具體流程如圖3中所示。首先,提供玻璃基板。
[0031 ] 然后,在玻璃基板的表面形成二氧化硅膜層。在一實施例中,形成二氧化硅膜層采用電鍍的方式。可以理解,在其他實施例中,可以采用沉積的方式形成上述二氧化硅膜層。優選的,所述二氧化娃膜層的厚度為0.1 μ m?5 μ m。
[0032]進一步地,可在形成二氧化硅膜層之前對玻璃基板進行清洗,防止玻璃基板上殘留的雜質對二氧化硅膜層的形成造成影響。
[0033]接著,對二氧化硅膜層進行蝕刻,以形成凹凸不平的多孔狀表面。具體地,采用二氧化硅蝕刻膏,通過絲網印刷的方式對二氧化硅膜層進行蝕刻。二氧化硅蝕刻膏是一種可在室溫下對二氧化硅膜層進行蝕刻的含氟化物,例如氫氟酸,也可以是其他更具安全性的含氟化物。
[0034]通過絲網印刷的方式對二氧化硅膜層進行蝕刻的時間與二氧化硅膜層的厚度有關。在一實施例中,通過絲網印刷的方式對二氧化娃膜層進行蝕刻的時間為2min?15min。進一步地,該玻璃蓋板的防眩效果可以通過二氧化硅膜層的厚度以及對二氧化硅膜層的蝕刻時間進行調節。
[0035]在一實施例中,絲網印刷可采用200目或者250目的聚酯絲網。絲網印刷的厚度為 10 μ m ?20 μ m0
[0036]進一步地,通過絲網印刷的方式對二氧化硅膜層進行蝕刻之后,還包括對玻璃基板進行清洗以及烘干的步驟。
[0037]二氧化硅蝕刻膏可用清水洗去,無需有機洗滌劑,沖洗后水中的有機物和氟化物濃度非常低,不會對環境造成污染。
[0038]采用該方法制成的玻璃蓋板具有表面呈凹凸不平的多孔狀的二氧化硅膜層,具有防眩層的功效,此方法操作簡便,制造成本低,防眩效果良好,對玻璃基板的透過性能和硬度等影響小,不會影響玻璃基板的外觀。
[0039]以上實施例僅表達了本發明的幾種實施方式,其描述較為具體和詳細,但并不能因此而理解為對本發明專利范圍的限制。應當指出的是,對于本領域的普通技術人員來說,在不脫離本發明構思的前提下,還可以做出若干變形和改進,這些都屬于本發明的保護范圍。因此,本發明專利的保護范圍應以所附權利要求為準。
【主權項】
1.一種玻璃蓋板,包括玻璃基板,其特征在于:還包括形成在玻璃基板的表面上的二氧化硅膜層,所述二氧化硅膜層的表面被蝕刻形成凹凸不平的多孔狀。2.根據權利要求1所述的玻璃蓋板,其特征在于,所述二氧化硅膜層的厚度為0.1 μ m ~ 5 μ mD3.—種顯示裝置,其特征在于,包括觸控顯示模組,與觸控顯示模組結合的玻璃蓋板,以及收容觸控顯示模組的殼體,所述玻璃蓋板為權利要求1或2所述的玻璃蓋板。4.一種玻璃蓋板的制作方法,其特征在于包括如下步驟: 提供玻璃基板; 在玻璃基板的表面形成二氧化硅膜層;以及 采用二氧化硅蝕刻膏,通過絲網印刷的方式對二氧化硅膜層進行蝕刻,使所述二氧化硅膜層的表面形成凹凸不平的多孔狀。5.根據權利要求4所述的玻璃蓋板的制作方法,其特征在于,所述二氧化硅膜層的厚度為 0.1 μπι ?5 μπι。6.根據權利要求5所述的玻璃蓋板的制作方法,其特征在于,通過絲網印刷的方式對二氧化娃膜層進行蝕刻的時間為2min?15min。7.根據權利要求6所述的玻璃蓋板的制作方法,其特征在于,絲網印刷采用200目或者250目的聚酯絲網。8.根據權利要求6所述的玻璃蓋板的制作方法,其特征在于,絲網印刷的厚度為10μ m ~ 20 μ mD9.根據權利要求4所述的玻璃蓋板的制作方法,其特征在于,在玻璃基板的表面鍍上二氧化硅膜層之前還包括清洗玻璃基板的步驟。10.根據權利要求4所述的玻璃蓋板的制作方法,其特征在于,通過絲網印刷的方式對二氧化硅膜層進行蝕刻之后,還包括對玻璃基板進行清洗以及烘干的步驟。
【文檔編號】B32B17/06GK106032074SQ201510106878
【公開日】2016年10月19日
【申請日】2015年3月11日
【發明人】萬文俊
【申請人】南昌歐菲光學技術有限公司, 南昌歐菲光科技有限公司, 深圳歐菲光科技股份有限公司, 蘇州歐菲光科技有限公司
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