用于回旋加速器的剝離靶雙層移動機構的制作方法
【技術領域】
[0001]本實用新型屬于加速器技術領域，特別涉及用于回旋加速器的剝離靶雙層移動機構。
【背景技術】
[0002]現有技術中，用于回旋加速器的剝離靶移動機構為單層移動機構，整個移動機構長達5?6m，基座相應就更長，需要超大型設備加工基座才能保證基座的基準面平面度，而且占地面積也很大，給安裝和運輸造成一定的困難，此外，由于移動機構長，回旋加速器的剝離靶桿僅靠后端托板的一個靶桿支撐座和前端基座上的一個固定支撐座兩點支撐，對剝離靶桿的剛性要求較高。

【發明內容】

[0003]本實用新型所要解決的技術問題是，克服現有技術的不足之處，提供一種降低基座平面度加工難度，對剝離靶桿的剛性要求較低且減少占地面積的用于回旋加速器的剝離靶雙層移動機構。
[0004]本實用新型采用的技術方案包括上層移動機構、上層移動機構的上層基座、上層導軌、上層導軌滑塊、上層移動托板、上層絲杠和上層絲母，在上層移動機構下面設有下層移動機構，下層移動機構有一個下層基座，在下層基座上安裝下層絲杠左支承座、下層絲杠右支承座和下層導軌，在下層導軌上安裝下層導軌滑塊，在下層導軌滑塊上安裝下層移動托板，并通過下層移動托板與上層基座固定連接，對上層移動機構起支撐和移動作用；在下層絲杠左支承座和下層絲杠右支承座中安裝下層絲杠，在下層絲杠上安裝下層絲母，下層絲母與下層移動托板連接。
[0005]所述下層導軌有6個分3段前后2道固定安裝在下層基座上，每個下層導軌上安裝2個下層導軌滑塊，每4個下層導軌滑塊支撐I個下層移動托板，所述下層絲母與最右側的下層移動托板連接。
[0006]在所述上層基座上還安裝有移動支撐座，該移動支撐座與安裝在上層移動托板上的靶桿固定座和安裝在下層基座2— I上的固定支撐座一起構成對回旋加速器的剝離靶桿的三點支撐結構。
[0007]與現有技術相比，本實用新型的有益效果是:
[0008](I)由于采用雙層移動機構，使基座的長度縮短一倍，從而降低了基座的基準面平面度加工難度，通用設備就可以進行加工并保證基座的的基準面平面度；
[0009](2)由于增加了一個移動支撐座，對回旋加速器的剝離靶桿由兩點支撐變為三點支撐，降低了對剝離靶桿的剛性要求；
[0010]( 3 )由于基座的長度縮短一倍，且僅在上層移動機構安裝靶桿，靶桿也相應縮短了下導軌的行程的長度，降低了成本；
[0011](4)由于采用雙層移動機構，使基座的長度縮短一倍，減少了占地面積，也方便安裝和運輸。
【附圖說明】
[0012]圖1是本實用新型的結構示意圖，
[0013]圖2是本實用新型上層移動機構主視圖，
[0014]圖3是圖2的俯視圖，
[0015]圖4是本實用新型下層移動機構主視圖，
[0016]圖5是圖4的俯視圖.
[0017]圖中:
[0018]1.上層移動機構，
[0019]I一1.上層基座， I一2.上層絲杠左支承座，
[0020]I—3.上層導軌，I一 4.上層導軌滑塊，
[0021]1—5.上層絲杠，1—6.上層絲母，
[0022]I一7.上層移動托板，I一8.上層絲杠右支承座，
[0023]1—9.上層聯軸器，1—10.靶桿固定座，
[0024]I一11.上層電機支架，I一12.上層電機，I一13.移動支撐座；
[0025]2.下層移動機構，
[0026]2—1.下層基座，2— 2.下層絲杠左支承座，
[0027]2—3.下層導軌，2— 4.下層導軌滑塊，
[0028]2—5.下層絲杠，2—6.下層絲母，
[0029]2一7.下層移動托板，2 —8.下層絲杠右支承座，
[0030]2—9.下層聯軸器，2—10.下層電機支架，
[0031]2—11.下層電機，2—12.固定支撐座。
【具體實施方式】
[0032]【具體實施方式】I
[0033]如附圖所示，本實用新型包括上層移動機構1，所述上層移動機構I有一個
[0034]上層基座I一 I，在上層基座I一 I上安裝上層絲杠左支承座I一 2、上層絲杠右支承座丨一8、上層導軌I一 3和上層電機支架I一 11，在上層導軌I一 3上安裝上層導軌滑塊I一 4，在上層導軌滑塊I一 4安裝上層移動托板I一7，在上層絲杠左支承座I一 2和上層絲杠右支承座I一8中安裝上層絲杠I一 5，在上層絲杠I一 5上安裝上層絲母I一 6，上層絲母I一 6與上層移動托板I一 7固定連接，在上層電機支架I一 11上安裝上層電機I一12，上層電機I一 12的電機軸通過上層聯軸器I一9與上層絲杠I一 5連接，在上層移動托板I一7上安裝靶桿固定座I一 10 ;在上層移動機構I下層面設有下層移動機構2，所述下層移動機構2有一個下層基座2— I，在下層基座2— I上安裝下層絲杠左支承座2— 2、下層絲杠右支承座2— 8、下層導軌2— 3、固定支撐座2 —10和下層電機支架2—11，在下層導軌2— 3上安裝下層導軌滑塊2— 4，在下層導軌滑塊2— 4上安裝下層移動托板2— 7，并通過下層移動托板2— 7與上層基座I一 I固定連接，對上層移動機構I起支撐和移動作用；在下層絲杠左支承座2— 2和下層絲杠右支承座2—8中安裝下層絲杠2— 5，在下層絲杠2 — 5上安裝下層絲母2 — 6，下層絲母2 — 6與下層移動托板2— 7固定連接，在下層電機支架2 — 11安裝下層電機2—12，下層電機2—12的電機軸通過下層聯軸器2—9與下層絲杠2— 5連接。
[0035]【具體實施方式】2
[0036]與【具體實施方式】I相同，區別在于，所述下層導軌2— 3有6個，分3段前后2道固定安裝在下層基座2— I上，每個下層導軌2 — 3上安裝2個下層導軌滑塊2— 4，每4個下層導軌滑塊2— 4支撐I個下層移動托板2— 7，通過3個下層移動托板2— 7與上層基座1-1固定連接，對上層移動機構I起支撐和移動作用，所述下層絲母2— 6與最右側的或最左側的下層移動托板2— 7連接。
[0037]【具體實施方式】3
[0038]與【具體實施方式】I或【具體實施方式】2相同，區別在于，在所述上層基座I一I上還安裝有移動支撐座I一 13，該移動支撐座I一 13與安裝在所述上層移動托板I一7上的靶桿固定座I一 10和安裝在所述下層基座2— I上的固定支撐座2 —10 —起構成對回旋加速器的剝離靶桿的三點支撐結構。
【主權項】
1.用于回旋加速器的剝離靶雙層移動機構，包括上層移動機構(I)、上層移動機構(I)的上層基座(I一 I)、上層導軌(I一 3)、上層導軌滑塊(I一 4)、上層移動托板(I一 7)、上層絲杠(1- 5 )和上層絲母(1- 6 )，其特征在于，在上層移動機構(I)下面設有下層移動機構(2),下層移動機構(2)有一個下層基座(2— I)，在下層基座(2— I)上安裝下層絲杠左支承座(2 — 2 )、下層絲杠右支承座(2 — 8)和下層導軌(2 — 3 )，在下層導軌(2 — 3 )上安裝下層導軌滑塊(2— 4 )，在下層導軌滑塊(2— 4 )上安裝下層移動托板(2 — 7)，并通過下層移動托板(2— 7)與上層基座(I一 I)固定連接，對上層移動機構(I)起支撐和移動作用；在下層絲杠左支承座(2— 2)和下層絲杠右支承座(2— 8)中安裝下層絲杠(2— 5)，在下層絲杠(2— 5 )上安裝下層絲母(2— 6 )，下層絲母(2— 6 )與下層移動托板(2— 7)連接。
2.根據權利要求1所述用于回旋加速器的剝離靶雙層移動機構，其特征在于，所述下層導軌(2— 3 )有6個，分3段前后2道固定安裝在下層基座(2— I)上，每個下層導軌(2—3 )上安裝2個下層導軌滑塊(2— 4 )，每4個下層導軌滑塊(2— 4 )支撐I個下層移動托板(2— 7 )，所述下層絲母(2— 6 )與最右側的下層移動托板(2— 7 )連接。
3.根據權利要求1或2所述用于回旋加速器的剝離靶雙層移動機構，其特征在于，在所述上層基座(I一 I)上還安裝有移動支撐座(I一 13 )，該移動支撐座(I一 13 )與安裝在所述上層移動托板(I一7)上的祀桿固定座(I一 10)和安裝在所述下層基座(2一 I)上的固定支撐座(2 —10)—起構成對回旋加速器的剝離靶桿的三點支撐結構。
【專利摘要】用于回旋加速器的剝離靶雙層移動機構，克服了現有技術為單層移動機構，需要超大型設備加工基座才能保證基座的基準面平面度，占地面積大，以及對剝離靶桿的剛性要求較高的問題，特征是在上層移動機構下面設有下層移動機構，通過下層移動托板與上層基座固定連接，在上層基座上還安裝有移動支撐座構成對回旋加速器的剝離靶桿的三點支撐結構，有益效果是，使基座的長度縮短一倍，從而降低了基座的基準面平面度加工難度，通用設備就可以進行加工并保證基座的基準面平面度，對回旋加速器的剝離靶桿由兩點支撐變為三點支撐，降低了對剝離靶桿的剛性要求，靶桿也相應縮短了下導軌行程的長度，降低了成本，減少了占地面積，也方便安裝和運輸。
【IPC分類】H05H13-00, H05H7-00
【公開號】CN204392680
【申請號】CN201520055585
【發明人】董毅, 劉志華
【申請人】沈陽慧宇真空技術有限公司
【公開日】2015年6月10日
【申請日】2015年1月27日