彈性波裝置的制造方法以及彈性波裝置的制造方法
【技術領域】
[0001 ] 本發明涉及彈性波裝置的制造方法以及彈性波裝置。
【背景技術】
[0002]過去,作為彈性波裝置的制造方法,已知在由壓電體構成的母基板上形成多個元件部后分斷成各元件部,由此以相同的制造工序制造多個彈性波裝置的方法。例如在專利文獻I中記載了其一例。
[0003]在專利文獻I所記載的制造方法中,首先,在由壓電體構成的母基板上形成多個元件部。在元件部的形成時,和元件部一起形成與各元件部電連接的供電線。接下來,在母基板上包圍各元件部地形成具有突起部的支承層。接下來在支承層上配置外罩構件。之后,通過切割將得到的層疊體分斷成各元件部,由此以同一制造工序制造多個彈性波裝置。
[0004]先行技術文獻
[0005]專利文獻
[0006]專利文獻1:W02012/132147號公報
[0007]發明的概要
[0008]發明要解決的課題
[0009]如專利文獻I記載的那樣,通過在支承層設置突出部來抑制硬化收縮所引起的框狀的支承層的形變,由此能抑制密封空間的泄漏不良。
[0010]但是,在專利文獻I所記載的彈性波裝置的制造方法中,因切割所帶來的切削力,會讓供電線從母基板剝離,有時會發生不能除去供電線的問題。由于與功能元件電連接的供電線的剝離,而存在容易制造出有短路不良的彈性波裝置這樣的問題。另外,若用專利文獻I所記載的彈性波裝置的制造方法增加突起部的數量來防止供電線的剝離,則由于因切割所帶來的切削力而變形的突起部會使支承體主體變形,因此存在變得易于發生泄漏不良的問題。
【發明內容】
[0011]本發明的主要目的在于,提供能使短路不良和泄漏不良的發生較少的彈性波裝置的制造方法。
[0012]用于解決課題的手段
[0013]在本發明所涉及的彈性波裝置的制造方法中,在具有壓電性的母基板的一方主面上形成多個功能元件部、和將多個功能元件部電連接的連接線。在母基板的一方主面上形成包圍功能元件部的樹脂制的支承層。通過按照切割線將具有母基板、功能元件部以及支承層的層疊體分斷成多個,來得到具有功能元件部的彈性波裝置。連接線具有:位于切割線上的線主體;和將線主體和功能元件部電連接的連接部。在層疊體的分斷前,在母基板上與支承層分離地形成在線主體的寬度方向上跨線主體的樹脂制的保持構件。
[0014]在本發明所涉及的彈性波裝置的制造方法的某特定的局面下,設置覆蓋連接部的線主體側端部的保持構件。
[0015]在本發明所涉及的彈性波裝置的制造方法的另外特定的局面下,在切割線所位于的區域,使不設保持構件的面積大于設置保持構件的面積地設置保持構件。
[0016]在本發明所涉及的彈性波裝置的制造方法的再其它特定的局面下,用相同的工法形成保持構件和支承層。
[0017]本發明所涉及的彈性波裝置具備:壓電基板、功能元件部、電極部、支承層和外罩。功能元件部設置在壓電基板的一方主面上。電極部與功能元件部電連接。電極部到達壓電基板的端邊。支承層在壓電基板的一方主面上包圍功能元件部而設。外罩被支承層支承。外罩覆蓋功能元件部。支承層從壓電基板的端邊分離而設,包圍功能元件部。本發明所涉及的彈性波裝置還具備樹脂制的保持構件。保持構件在壓電基板上與支承層分離而設。保持構件到達壓電基板的端邊。
[0018]發明的效果
[0019]根據本發明,能提供能減少短路不良和泄漏不良的發生的彈性波裝置的制造方法。
【附圖說明】
[0020]圖1是用于說明第I實施方式中的彈性波裝置的制造工序的概略俯視圖。
[0021]圖2是用于說明第I實施方式中的彈性波裝置的制造工序的概略俯視圖。
[0022]圖3是用于說明第I實施方式中的彈性波裝置的制造工序的概略俯視圖。
[0023]圖4是圖3的線IV-1V的概略截面圖。
[0024]圖5是圖3的線V-V的概略截面圖。
[0025]圖6是在第I實施方式中制作的層疊體的概略截面圖。
[0026]圖7是在第I實施方式中制作的層疊體的概略俯視圖。
[0027]圖8是在第I實施方式中制造的彈性波裝置的概略俯視圖。
[0028]圖9是圖8的線IX-1X的概略截面圖。
[0029]圖10是用于說明第2實施方式中的彈性波裝置的制造工序的概略俯視圖。
[0030]圖11是圖10的線X1-XI的概略截面圖。
[0031]圖12是在第2實施方式中制造的彈性波裝置的概略俯視圖。
[0032]圖13是圖12的線XII1-XIII中的概略截面圖。
[0033]圖14是放大圖12的電極連接盤近旁部分的概略俯視圖。
【具體實施方式】
[0034]以下說明實施本發明的優選的形態的一例。其中,下述的實施方式僅是例示。本發明并不限定于下述的實施方式的任一者。
[0035]另外,在實施方式等中參考的各附圖中,實質有同一功能的構件用同一標號進行參考。另外,實施方式等中參考的附圖是示意性記載的。附圖所描繪的物體的尺寸的比率等,有和現實的物體的尺寸的比率等不同的情況。附圖相互間也有物體的尺寸比率等不同的情況。具體的物體的尺寸比率等應參酌以下的說明來判斷。
[0036](第I實施方式)
[0037]在本實施方式中,關于圖8以及圖9所示的彈性波裝置I的制造方法,主要參考圖1?圖7來進行說明。另外,在本實施方式中,彈性波裝置I是彈性表面波裝置,但也可以是彈性邊界波裝置等其它種類的彈性波裝置。
[0038]首先,如圖1所示那樣,在母基板10上形成多個功能元件部11和連接線12。母基板10例如由壓電體構成。母基板10具有壓電性。母基板10也可以由壓電基板構成。另夕卜,母基板10也可以具有壓電基板、和配置在壓電基板的一主面上的非壓電層。壓電基板例如能由1^了&03或1^他03、水晶等構成。非壓電層例如能由氧化硅等構成。母基板10的厚度(H1)例如能設為100?300 μ m程度。
[0039]功能元件部11和連接線12例如能通過派射法或CVD (Chemical VaporDeposit1n,化學氣相沉積)法等形成。
[0040]多個功能元件部11在母基板10上如圖1所示那樣矩陣狀地形成。多個功能元件部11的行間隔L1優選為500 μπι?1800 μπι程度。多個功能元件部11的列間隔L2優選為500 μ m ?1800 μ m 程度。
[0041]多個功能元件部11分別具有至少I個IDT電極,使彈性波激振。例如,在彈性波裝置I是彈性波濾波器裝置的情況下,功能元件部11可以構成梯型濾波器部以及縱耦合諧振器型彈性波濾波器部的至少一方。
[0042]功能元件部11具有將至少I個IDT電極電連接的多個電極連接盤13a?13f。多個電極連接盤13a?13f分別與連接線12電連接。
[0043]如圖1、圖4所示那樣,連接線12具有線主體12a和連接部12b。線主體12a的列間隔1^3優選為500 μπι?1800 μπι程度。線主體12a的行間隔選為500 μπι?1800 μπι程度。線主體12a的厚度H2優選為0.5 ym?5 ym程度。連接部12b將線主體12a和功能元件部11 (詳細地是功能元件部11的電極連接盤13a?13f)電連接。具體地,各電極連接盤13a?13f分別經由連接部12b與線主體12a電連接。另外,線主體12a的線寬Wu、線寬Wl2、連接部12b的線寬Wu優選為5 μ m?30 μ m程度。
[0044]接下來,如圖2所示那樣,在母基板10上包圍多個功能元件部11各自地形成樹脂制的支承層20。支承層20的厚度H3優選是5 ym?20 μ m程度。例如使用光刻法對以絲網印刷等形成在母基板10的整體上的樹脂層進行圖案形成,由此來形成支承層20。支承層20例如能由聚酰亞胺樹脂、環氧樹脂、硅樹脂等構成。
[0045]保持構件21與線主體12a交叉地形成。保持構件21在母基板10上,在線主體12a的寬度方向上跨線主體12a而形成。保持構件21的厚度H4優選為5 μπι?20 μπι程度。另夕卜,保持構件21的厚度H4也可以小于支承層20的厚度H3,且不與外罩連接。保持構件21的寬度WM、Ww優選為10 μ m?80 μ m程度。保持構件21的間隔D 2優選為300 μ m?1700 μ m程度。因而,保持構件21具有不與支承層20連接、與線主體12a交叉的交叉部21a。交叉部21a沿著線主體12a延伸的方向相互空開間隔設置多個。交叉部21a延伸的方向和線主體分12a延伸的方向也可以傾斜,典型地,交叉部21a延伸的方向與線主體12a延伸的方向正交。在線主體12a上僅設置保持構件21中的交叉部21a,保持構件21的除去交叉部21以外的部分未設置在線主體12a上。即,線主體12a除去被交叉部21a覆蓋的部分以外都從保持構件21露出。另外,支承層20未設置在線主體12a上,覆蓋電極連接盤13a?13f。在第I實施方式中,說明了使用與支承層20相同的材料并與支承層20同時使用光刻法進行圖案形成來形成保持構件21的示例。即,說明了將保持構件21和支承層20 —體形成的示例。然而保持構件21和支承層20也可以用不同的材料、形成方法形成。
[0046]接下來,如圖3?圖5所示那樣,在支承層20上覆蓋多個功能元件部11地設置板狀的外罩30,由此將功能元件部11密封在由母基板10、支承層20以及外罩30構成的空間內部。外罩30的厚度H5優選為1ym?60 ym程度。外罩30例如能由樹脂、玻璃、陶瓷等的材料構成。另外,板狀的表面形狀不僅是平面,還包含曲面。外罩30并不限定于由單一的材料形成的構成,也可以是由不同的材料構成的多個層的層疊