一種晶片清洗裝置的制造方法
【專利摘要】藍寶石晶片生產加工過程中，晶片表面留有許多微粒，為清洗晶片表面的微粒，本實用新型提供一種晶片清洗裝置，屬于藍寶石晶片加工技術設備領域，包括高科技墊板、高級潔凈無塵布和噴水裝置，所述高級潔凈無塵布設置于高科技墊板上，所述晶片固定于高級潔凈無塵布上，所述噴水裝置設置于晶片上方，還包括納米級海綿，所述納米級海綿用于擦除晶片表面顆粒。本實用新型采用高級潔凈無塵布和納米級海綿，在水的沖洗下，配合擦拭晶片表面。本實用新型結構簡單，方便實用，簡捷有效，可完全去除晶片表面的微塵顆粒，為晶片的進一步加工使用提供質量保障。
【專利說明】
一種晶片清洗裝置
技術領域
[0001]本實用新型屬于藍寶石晶片加工技術設備領域，具體涉及一種清除晶片加工過程中所產生顆粒的晶片清洗裝置。
【背景技術】
[0002]藍寶石晶片在生產加工過程中，晶片表面產生大量微粒。現有技術中，去除晶片表面的顆粒主要靠人工方法處理，人工處理費時、費力，而且清洗顆粒不徹底，清洗后容易造成二次污染，加大了后續晶片加工的難度，影響了晶片質量。且人工處理效率低，晶片清洗成本高。
【實用新型內容】
[0003]本實用新型要解決的技術問題是:克服現有技術的不足，提供一種簡潔有效清除晶片表面微粒的晶片清洗裝置。
[0004]本實用新型解決其技術問題所采用的技術方案是:一種晶片清洗裝置，用于清洗晶片表面微粒，其特征在于:包括高科技墊板、高級潔凈無塵布和噴水裝置，所述高級潔凈無塵布設置于高科技墊板上，所述晶片固定于高級潔凈無塵布上，所述噴水裝置設置于晶片上方。
[0005]優選的，還包括納米級海棉，所述納米級海棉用于擦除晶片表面顆粒。
[0006]優選的，所述高科技墊板上設置有突起。
[0007]優選的，還包括一支架，所述高科技墊板傾斜設置于支架內。
[0008]與現有技術相比，本實用新型的有益效果是:本實用新型采用高級潔凈無塵布和納米級海棉，在水的沖洗下，配合擦拭晶片表面。本實用新型結構簡單，方便實用，簡捷有效，可完全去除晶片表面的微塵顆粒，為晶片的進一步加工使用提供質量保障。
【附圖說明】
[0009]圖1是本實用新型的結構示意圖；
[0010]圖2是圖1中A部放大圖。
[00?1 ]圖中標記為:1、晶片；2、尚科技塾板;3、尚級潔凈無塵布;4、嗔水裝置;5、納米級海棉;6、突起;7、支架。
【具體實施方式】
[0012]下面結合附圖實施例，對本實用新型做進一步描述:
[0013]如圖1所示，一種晶片清洗裝置，用于清洗晶片I表面微粒，包括高科技墊板2、高級潔凈無塵布3和噴水裝置4，高級潔凈無塵布3設置于高科技墊板2上，晶片I固定于高級潔凈無塵布3上，噴水裝置4設置于晶片上方。還包括納米級海棉5，納米級海棉5用于擦除晶片I表面顆粒。高科技墊板2上設置有突起6，高科技墊板2傾斜設置于支架，7內。
[0014]本實用新型工作原理和工作過程如下:將高科技墊板2傾斜設置于支架6內，然后在高科技墊板2表面突起6上鋪設高級潔凈無塵布3，將晶片I固定于高級潔凈無塵布3上，晶片I上方的噴水裝置4噴水清洗晶片，最后用納米級海棉5擦拭晶片I，將晶片I正反面的臟污與顆粒擦拭潔凈，達到表面無塵的效果。
[0015]以上所述，僅是本實用新型的較佳實施例而已，并非是對本實用新型作其它形式的限制，任何熟悉本專業的技術人員可能利用上述揭示的技術內容加以變更或改型為等同變化的等效實施例。但是凡是未脫離本實用新型技術方案內容，依據本實用新型的技術實質對以上實施例所作的任何簡單修改、等同變化與改型，仍屬于本實用新型技術方案的保護范圍。
【主權項】
1.一種晶片清洗裝置，用于清洗晶片(I)表面微粒，其特征在于:包括高科技墊板(2)、高級潔凈無塵布(3)和噴水裝置(4)，所述高級潔凈無塵布(3)設置于高科技墊板(2)上，所述晶片固定于高級潔凈無塵布(3)上，所述噴水裝置(4)設置于晶片上方。2.根據權利要求1所述的晶片清洗裝置，其特征在于:還包括納米級海棉(5)，所述納米級海棉(5 )用于擦除晶片(I)表面顆粒。3.根據權利要求2所述的晶片清洗裝置，其特征在于:所述高科技墊板(2)上設置有突起(6)04.根據權利要求3所述的晶片清洗裝置，其特征在于:還包括一支架(6)，所述高科技墊板(2)傾斜設置于支架(7)內。
【文檔編號】H01L21/67GK205609480SQ201620084055
【公開日】2016年9月28日
【申請日】2016年1月28日
【發明人】王鑫
【申請人】青島鑫嘉星電子科技股份有限公司