一種金屬陰極結構的考夫曼離子源的制作方法
【技術領域】
[0001]本發明涉及一種離子源，特別涉及一種金屬陰極結構的考夫曼離子源。
【背景技術】
[0002]離子束薄膜沉積和離子束材料改性技術是材料科學的一個重要分支，離子束技術的研宄和推廣取得了巨大的成就。目前，離子源的種類很多，Kaufman(考夫曼)離子源是使用較為廣泛的對薄膜進行離子束轟擊的裝置，該裝置的基本工作原理為:首先由陰極在離子源內腔產生等離子體，然后由兩層或三層陽極柵格將離子從等離子腔體中抽取出來，這種離子源產生的離子方向性強，離子能量帶寬集中，可廣泛應用于真空鍍膜中。
[0003]常規的考夫曼離子源的電子由陰極燈絲發射，發射的電子由桶裝陽極板面吸引，發射的電子與惰性氣體混合形成離子流。此結構的缺陷是燈絲易斷，需要經常更換燈絲陰極。
【實用新型內容】
[0004]本實用新型解決上述技術缺陷，設計一種金屬陰極結構的考夫曼離子源。
[0005]一種金屬陰極結構的考夫曼離子源，包括進氣孔、陽極和陰極，其特征在于:所述陰極呈空心桶結構，裝置的陽極位于桶裝結構的中心位置。
[0006]所述裝置的陰極為金屬網狀結構。
[0007]本實用新型有益效果:經過改進結構的新型離子源，易斷的燈絲陰極，替換為金屬網狀結構，提高了陰極的使用壽命。
【附圖說明】
[0008]圖1為考夫曼離子源改進結構
【具體實施方式】
[0009]如圖1所示，惰性氣體由考夫曼離子源的進氣孔I進入，與陰極3陽極2的電子束混合反應，所述陰極3呈空心桶結構，裝置的陽極2位于桶裝結構的中心位置，電子從陰極3桶裝結構發出，在沖擊陽極2的過程中與惰性氣體形成離子流。本實用新型有益效果:經過改進結構的新型離子源，易斷的燈絲陰極，替換為金屬網狀結構，提高了陰極的使用壽命。
【主權項】
1.一種金屬陰極結構的考夫曼離子源，包括進氣孔(I)、陽極(2)和陰極(3)，其特征在于:所述陰極(3)呈空心桶結構，裝置的陽極(2)位于桶裝結構的中心位置。2.根據權利要求1所述一種金屬陰極結構的考夫曼離子源，其特征在于:所述裝置的陰極(3)為金屬網狀結構。
【專利摘要】本實用新型涉及一種離子源，特別涉及一種金屬陰極結構的考夫曼離子源。所述陰極呈空心桶結構，裝置的陽極位于桶裝結構的中心位置。本實用新型有益效果：經過改進結構的新型離子源，易斷的燈絲陰極，替換為金屬網狀結構，提高了陰極的使用壽命。
【IPC分類】H01J37/08
【公開號】CN204706536
【申請號】CN201520397788
【發明人】喬憲武
【申請人】中國計量學院
【公開日】2015年10月14日
【申請日】2015年6月8日