光照射裝置的制造方法
【技術領域】
[0001]本發明涉及一種光照射裝置。更詳細地說，本發明涉及例如適用于半導體及液晶等的制造工序中的抗蝕劑(Resist)的光灰化處理、納米壓印裝置中的模板的圖案面上所附著的抗蝕劑的去除或液晶用的玻璃基板及硅晶片等的干洗處理、印刷基板制造工序中的去污(Desmear)處理的光照射裝置。
【背景技術】
[0002]當前，例如作為進行半導體及液晶等的制造工序中的抗蝕劑的光灰化處理、納米壓印裝置中的模板的圖案面上所附著的抗蝕劑的去除或液晶用的玻璃基板及硅晶片等的干洗處理、印刷基板制造工序中的去污(Desmear)處理的方法，周知有使用紫外線的干洗方法。尤其是，利用由從準分子燈放射的真空紫外線生成的臭氧及活性氧的方法能夠更高效地短時間內進行預定的處理，因此被廣泛利用。作為這種光照射裝置，以往提出了各種結構(例如參照專利文獻1?專利文獻3)。
[0003]這種利用真空紫外線的光照射裝置中的一種裝置例如圖3所示那樣，經由光透射窗構件12對配置在例如氧氣等處理氣體的氣氛下的被處理物(工件)W的被處理面Wa照射來自放射真空紫外線的紫外線燈41的光。
[0004]在該光照射裝置中，由多個紫外線燈41構成光源單元40。該光源單元40具備在一方(圖3中的下方)具有開口部的箱型狀的外殼42，在該外殼42的開口部，以氣密地閉塞該開口部的方式設置有平板狀的光透射窗構件12。在外殼42內，多個棒狀的紫外線燈41以燈中心軸在同一水平面內彼此平行地延伸的狀態配置。此外，反射鏡43被設置成包圍這些紫外線燈41。
[0005]此外，在該光照射裝置中，被處理物W配置在被處理物支撐臺31的被處理物載置面31a上。該被處理物載置面31a具有比被處理物W的被處理面Wa大的縱橫尺寸。此外，在被處理物支撐臺31上設置有對被處理物W加熱的加熱機構(未圖示)，并且形成有氣體供給用貫通孔32a及氣體排出用貫通孔32b。氣體供給用貫通孔32a及氣體排出用貫通孔32b在被處理物載置面31a上具有開口，且以能夠在這些開口之間放置被處理物W的方式，形成在彼此在面方向(燈的排列方向)上分離的位置。
[0006]在該圖的例子中，34是用于在光透射窗構件12與被處理物支撐臺31之間形成預定大小的空間的柱狀的間隔構件。在該間隔構件34的上表面上配置有密封構件35。并且，光源單元40經由密封構件35氣密地配置在被處理物支撐臺31上，從而在光源單元40與被處理物支撐臺31之間形成有處理室S。
[0007]此外，在圖3中，用箭頭表示氣體的流通方向。
[0008]現有技術文獻
[0009]專利文獻
[0010]專利文獻1:日本專利第2948110號公報
[0011]專利文獻2:日本特開平11-231554號公報
[0012]專利文獻3:日本特開號公報

【發明內容】

[0013]發明要解決的課題
[0014]于是，本發明人為了實現處理的高效化，進行了以下分析，即向被處理物的被處理面與光透射窗構件之間所形成的間隙(以下，稱為“被處理物上間隙”)沿著該被處理面朝向一個方向供給處理氣體，并且縮短該被處理物上間隙的距離。結果，在被處理物上間隙的距離即被處理物與光透射窗構件的分離距離為1mm以下的情況下，明確了會產生無法以高均勻性對被處理物的被處理面進行處理的問題。
[0015]產生這種問題的原因被推測為，隨著被處理物與光透射窗構件的分離距離減小，沒有足夠量的處理氣體向被處理物的被處理面上流通。
[0016]具體說明的話，被處理物支撐臺的被處理物載置面的縱橫尺寸大于被處理物的被處理面，因此在該被處理物載置面上存在不放置被處理物的區域(以下，稱為“被處理物周圍區域”)。并且，在被處理物配置在被處理物支撐臺上的狀態下，在被處理物周圍區域與光透射窗構件之間，以包圍被處理物及被處理物上間隙的方式形成有間隙(以下稱為“支撐臺上間隙”)。該支撐臺上間隙與被處理物上間隙相比，大被處理物W的厚度方向上的尺寸，因此傳導性(Conductance)大，所以與該被處理物上間隙相比，處理氣體更容易流動。因此，在光透射窗構件與被處理物的分離距離大的情況(具體地說，分離距離超過1mm的情況)下，向被處理物的被處理面上(被處理物上間隙)朝向一個方向供給的處理氣體在該被處理面上流通的過程中，其一部分不會大致直線狀地流動，而是向位于該被處理物的側方的支撐臺上間隙流出。然而，由于向支撐臺上間隙流出的處理氣體的量是少量，因此在被處理物的被處理面上流通有處理所需的足夠的量的處理氣體。而在將光透射窗構件與被處理物的分離距離設為1mm以下的情況下，在被處理物上間隙，傳導性變得很小，處理氣體難以流過。因此，從被處理物的被處理面上(被處理物上間隙)向位于該被處理物的側方的支撐臺上間隙流出的處理氣體的量增多。因此，推測為在被處理物的被處理面上沒有處理所需的足夠量的處理氣體流通。
[0017]此外，還確認了這種問題在被處理物W為大面積、具體地說橫向尺寸為510mm以上且縱向尺寸為515mm以上，被處理面積為2.6X105mm2以上的情況下很明顯。
[0018]本發明是基于以上情況而做出的，其目的在于提供一種能夠以高處理效率均勻地處理被處理物的光照射裝置。
[0019]用于解決課題的方案
[0020]本發明的一種光照射裝置，具備:被處理物支撐臺，配置被處理物;紫外線燈，對上述被處理物的被處理面照射真空紫外線；以及光透射窗構件，配置在上述被處理物與上述紫外線燈之間，使來自該紫外線燈的真空紫外線透射，上述光照射裝置的特征在于，上述被處理物的被處理面與上述光透射窗構件之間所形成的間隙的距離被設為1mm以下，設置有向該間隙沿著該被處理面朝向一個方向供給處理氣體的氣體供給機構，在上述被處理物支撐臺上的向上述處理氣體的供給方向延伸、且不放置被處理物的區域，配設有遮風構件。
[0021]在本發明的光照射裝置中，優選的是，上述遮風構件被設為與上述光透射窗構件接觸的狀態，與該光透射窗構件接觸的部分由氟樹脂形成。
[0022]發明效果
[0023]在本發明的光照射裝置中，由于設置有遮風構件，因此成為被處理物的被處理面上的傳導性比該被處理物的處理氣體的供給方向上延伸的側面側即被處理物的側方的傳導性大的狀態。因此，向被處理物的被處理面上從氣體供給機構沿著該被處理物的被處理面朝向一個方向供給的處理氣體從被處理物的被處理面上向側方流出的情況得到防止或抑制。因此，能夠在被處理物的被處理面上切實地流通處理所需的量的處理氣體。并且，在被處理物的被處理面上，處理氣體朝向一個方向大致直線狀地流通，因此流速分布得到高均勻性。此外，被處理物的被處理面與光透射窗構件之間所形成的間隙的距離被設為1mm以下。因此，到達被處理物的被處理面的真空紫外線達到足夠大小的強度(光量)，并且在被處理物的被處理面上穩定地生成臭氧及活性氧。其結果，能夠以高處理效率均勻地處理被處理物。
【附圖說明】
[0024]圖1是表示本發明的光照射裝置的結構的一例中的與構成該光照射裝置的紫外線燈的管軸方向垂直的方向上的截面的說明用截面圖。
[0025]圖2是表示圖1的光照射裝置中的紫外線燈的管軸方向上的截面的說明用截面圖。
[0026]圖3是表示現有的光照射裝置的結構的一例的說明用截面圖。
【具體實施方式】
[0027]以下，說明本發明的實施方式。
[0028]圖1是表示本發明的光照射裝置的結構的一例中的與構成該光照射裝置的紫外線燈的管軸方向垂直的方向上的截面的說明用截面圖，圖2是表示圖1的光照射裝置中的紫外線燈的管軸方向上的截面的說明用截面圖。
[0029]該光照射裝置10具備:保持裝置，具有配置被處理物(工件)W的被處理物支撐臺11;以及光源單元20，配置在被處理物支撐臺11的上方(圖1及圖2中的上方)。并且，構成光源單元20的多個(圖例中為8根)紫外線燈21與載置在被處理物支撐臺11的被處理物載置面11a上的被處理物W之間，設置有光透射窗構件12。
[0030]在光照射裝置10中，被處理物支撐臺11具有長方體狀的形狀，被處理物載置面11a為平坦面，具有比被處理物W的被處理面(上表面)Wa大的縱橫尺寸。此外，光透射窗構件12具有矩形平板狀的形狀，由矩形環狀的支撐構件13支撐，以與被處理物載置面11a平行的狀態對置配置。支撐構件13具有窗構件夾持部13a，通過該窗構件夾持部13a緊密夾持光透射窗構件12的外周緣部。
[0031]此外，在光照射裝置10中，以包圍被處理物支撐臺11的側面的方式設置有矩形環狀的光源單元支撐臺14，在該光源單元支撐臺14的上表面配置有光源單元20。此外，在光源單元支撐臺14中，形成有將被處理物支撐臺11以能夠在上下方向(圖1及圖2中的上下方向)上滑動的方式收容的收容空間，并且通過在內周面的全周上延伸的凹部14a形成有窗構件配置部。