本實用新型是(shi)有(you)關于一種承(cheng)載盤，且特別(bie)是(shi)有(you)關于一種晶圓承(cheng)載盤。

背景技術：

晶(jing)(jing)(jing)(jing)圓(yuan)(yuan)(yuan)切割(ge)的(de)(de)(de)(de)目的(de)(de)(de)(de)主要(yao)是要(yao)將前制程(cheng)加工完成(cheng)的(de)(de)(de)(de)晶(jing)(jing)(jing)(jing)圓(yuan)(yuan)(yuan)上一顆顆的(de)(de)(de)(de)晶(jing)(jing)(jing)(jing)粒切割(ge)分離。在(zai)(zai)進行切割(ge)的(de)(de)(de)(de)步(bu)驟(zou)前，需(xu)先在(zai)(zai)晶(jing)(jing)(jing)(jing)圓(yuan)(yuan)(yuan)背面貼上膠(jiao)膜(mo)(mo)，并使膠(jiao)膜(mo)(mo)黏(nian)(nian)貼于金屬(shu)框架上，因(yin)此晶(jing)(jing)(jing)(jing)圓(yuan)(yuan)(yuan)可通過膠(jiao)膜(mo)(mo)固定于金屬(shu)框架上，且金屬(shu)框架環繞于晶(jing)(jing)(jing)(jing)圓(yuan)(yuan)(yuan)的(de)(de)(de)(de)外圍，此一步(bu)驟(zou)稱為(wei)晶(jing)(jing)(jing)(jing)圓(yuan)(yuan)(yuan)黏(nian)(nian)片。一般來說，操作人(ren)員大多是在(zai)(zai)設有抗靜電桌布的(de)(de)(de)(de)工作平臺上完成(cheng)晶(jing)(jing)(jing)(jing)圓(yuan)(yuan)(yuan)黏(nian)(nian)片的(de)(de)(de)(de)步(bu)驟(zou)，這樣的(de)(de)(de)(de)作法容(rong)易使晶(jing)(jing)(jing)(jing)圓(yuan)(yuan)(yuan)與膠(jiao)膜(mo)(mo)相黏(nian)(nian)合處的(de)(de)(de)(de)背側黏(nian)(nian)附工作平臺上的(de)(de)(de)(de)異物，在(zai)(zai)后續書(shu)寫晶(jing)(jing)(jing)(jing)圓(yuan)(yuan)(yuan)刻號或切割(ge)晶(jing)(jing)(jing)(jing)圓(yuan)(yuan)(yuan)的(de)(de)(de)(de)過程(cheng)中容(rong)易產(chan)生晶(jing)(jing)(jing)(jing)圓(yuan)(yuan)(yuan)破裂或損傷等情(qing)況。

技術實現要素：

本實(shi)用新型提供一(yi)種晶(jing)圓承載盤(pan)，其(qi)能提高(gao)制程良(liang)率。

本實用(yong)新(xin)型的(de)(de)一(yi)(yi)種晶(jing)(jing)(jing)圓承(cheng)載(zai)(zai)盤，用(yong)以(yi)承(cheng)載(zai)(zai)黏(nian)貼于(yu)(yu)(yu)膠膜上的(de)(de)晶(jing)(jing)(jing)圓與(yu)(yu)框架(jia)，且(qie)(qie)框架(jia)環繞(rao)于(yu)(yu)(yu)晶(jing)(jing)(jing)圓外圍(wei)。晶(jing)(jing)(jing)圓承(cheng)載(zai)(zai)盤包括承(cheng)載(zai)(zai)平(ping)臺(tai)(tai)(tai)以(yi)及多個第(di)一(yi)(yi)滾動件。承(cheng)載(zai)(zai)平(ping)臺(tai)(tai)(tai)具有(you)頂(ding)面(mian)(mian)、臺(tai)(tai)(tai)階(jie)以(yi)及凹(ao)槽(cao)，其中臺(tai)(tai)(tai)階(jie)位于(yu)(yu)(yu)頂(ding)面(mian)(mian)與(yu)(yu)凹(ao)槽(cao)之間，臺(tai)(tai)(tai)階(jie)環繞(rao)于(yu)(yu)(yu)凹(ao)槽(cao)外圍(wei)，臺(tai)(tai)(tai)階(jie)距頂(ding)面(mian)(mian)具有(you)第(di)一(yi)(yi)深(shen)度，且(qie)(qie)凹(ao)槽(cao)的(de)(de)底部距頂(ding)面(mian)(mian)具有(you)大于(yu)(yu)(yu)第(di)一(yi)(yi)深(shen)度的(de)(de)第(di)二深(shen)度。所(suo)述多個第(di)一(yi)(yi)滾動件設置(zhi)于(yu)(yu)(yu)臺(tai)(tai)(tai)階(jie)上，配置(zhi)用(yong)以(yi)承(cheng)載(zai)(zai)黏(nian)貼于(yu)(yu)(yu)膠膜上的(de)(de)晶(jing)(jing)(jing)圓與(yu)(yu)框架(jia)，且(qie)(qie)黏(nian)貼于(yu)(yu)(yu)膠膜上的(de)(de)晶(jing)(jing)(jing)圓與(yu)(yu)框架(jia)通過所(suo)述多個第(di)一(yi)(yi)滾動件相(xiang)對于(yu)(yu)(yu)承(cheng)載(zai)(zai)平(ping)臺(tai)(tai)(tai)轉動。膠膜與(yu)(yu)晶(jing)(jing)(jing)圓相(xiang)黏(nian)合處在(zai)承(cheng)載(zai)(zai)平(ping)臺(tai)(tai)(tai)上的(de)(de)正投影落在(zai)凹(ao)槽(cao)內，且(qie)(qie)膠膜與(yu)(yu)晶(jing)(jing)(jing)圓相(xiang)黏(nian)合處的(de)(de)背側與(yu)(yu)凹(ao)槽(cao)的(de)(de)底部保持距離。

在本實用新型的一實施例中，上(shang)述的膠膜與框架相黏(nian)合處在承(cheng)載平臺上(shang)的正(zheng)投影落在臺階(jie)內。

在本實用新型的一實施(shi)例中，上述的膠膜與(yu)框架的黏(nian)合處的背(bei)側與(yu)所述多(duo)個第一滾(gun)動件相接觸。

在本(ben)實用新(xin)型的(de)(de)一實施例中，上述的(de)(de)臺(tai)階為環(huan)形(xing)臺(tai)階，且所述多個第一滾動件沿(yan)環(huan)形(xing)臺(tai)階的(de)(de)周向(xiang)等距地排列于環(huan)形(xing)臺(tai)階上。

在本實用新型的一(yi)實施例中，上述的承(cheng)載平臺(tai)還(huan)有(you)具相對于頂面(mian)的底面(mian)與(yu)至少(shao)一(yi)開(kai)槽(cao)，所述至少(shao)一(yi)開(kai)槽(cao)貫穿(chuan)(chuan)頂面(mian)與(yu)底面(mian)，且貫穿(chuan)(chuan)臺(tai)階的局部。

在(zai)本實用新型的(de)一實施例中，上述的(de)承載平臺還有連接臺階與(yu)凹(ao)槽(cao)的(de)底(di)部(bu)的(de)內(nei)壁面(mian)，且內(nei)壁面(mian)與(yu)晶圓的(de)周緣保持距離。

在本實(shi)(shi)用(yong)新(xin)型的(de)一實(shi)(shi)施例中(zhong)，上述的(de)臺階(jie)與框架保持距離(li)，所(suo)述距離(li)等(deng)于所(suo)述多個第(di)一滾動(dong)件的(de)任一外露于臺階(jie)的(de)局部的(de)高度(du)與膠膜(mo)的(de)厚(hou)度(du)的(de)總合。

在(zai)本實用新型的(de)一實施(shi)例中，上述的(de)黏貼于膠(jiao)膜上的(de)晶圓與(yu)框架(jia)低于頂面(mian)，其中承載平(ping)臺還有連接臺階與(yu)頂面(mian)的(de)內壁面(mian)，且內壁面(mian)與(yu)框架(jia)的(de)外緣保(bao)持距離。

在本實(shi)用新型的(de)一實(shi)施例(li)中，上(shang)述的(de)黏(nian)貼于(yu)膠膜上(shang)的(de)晶圓與框架(jia)低于(yu)頂(ding)面。

在本實用新(xin)型(xing)的一實施例中(zhong)，上(shang)述(shu)的晶圓承(cheng)載盤還包括(kuo)多(duo)(duo)個第二(er)(er)滾(gun)動件(jian)，其中(zhong)承(cheng)載平(ping)臺還具(ju)有位(wei)于頂面上(shang)的多(duo)(duo)個讓位(wei)槽，所述(shu)多(duo)(duo)個第二(er)(er)滾(gun)動件(jian)分別設置于所述(shu)多(duo)(duo)個讓位(wei)槽內。

基(ji)于上(shang)述，本實用新(xin)型的(de)(de)(de)(de)(de)(de)晶(jing)圓(yuan)承載(zai)(zai)盤(pan)可使黏膜與晶(jing)圓(yuan)相黏合(he)處的(de)(de)(de)(de)(de)(de)背側(ce)與晶(jing)圓(yuan)承載(zai)(zai)盤(pan)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)承載(zai)(zai)平(ping)臺保持距離，即不與晶(jing)圓(yuan)承載(zai)(zai)盤(pan)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)承載(zai)(zai)平(ping)臺相接觸。藉此，防(fang)止黏膜與晶(jing)圓(yuan)相黏合(he)處的(de)(de)(de)(de)(de)(de)背側(ce)黏附晶(jing)圓(yuan)承載(zai)(zai)盤(pan)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)承載(zai)(zai)平(ping)臺上(shang)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)異物，避免在后續(xu)書寫(xie)晶(jing)圓(yuan)刻號或切割(ge)晶(jing)圓(yuan)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)過(guo)程(cheng)中產生晶(jing)圓(yuan)破裂或損傷等(deng)情況，以(yi)提高制程(cheng)良率。

為(wei)讓本實用(yong)新(xin)型的上述(shu)特征和優點能更(geng)明顯易(yi)懂，下(xia)文特舉實施例，并配合附圖作詳細說明如(ru)下(xia)。

附圖說明

圖1是(shi)依(yi)照本實(shi)用新型(xing)的一實(shi)施例的晶圓承載盤的正視示意圖；

圖(tu)2是圖(tu)1的第一滾動件的放大示(shi)意圖(tu)；

圖3是圖1的(de)(de)晶(jing)(jing)圓承載盤承載黏貼于(yu)膠膜(mo)上的(de)(de)晶(jing)(jing)圓與環繞于(yu)晶(jing)(jing)圓外(wai)圍的(de)(de)框架的(de)(de)正視(shi)示意圖；

圖4是圖3中沿線段A-A的局部截面示意圖。

附圖標記說明

10：膠膜；

20：晶圓；

30：框架；

100：晶圓承載盤；

110：承載平臺；

111：頂面；

112：臺階；

112a、115：開(kai)槽；

113：凹槽；

114：底面；

116、117：內(nei)壁面；

118：讓位槽；

120：第一滾動件；

121：轉軸；

130：第二滾(gun)動件；

軸線：A

D1：第一深度；

D2：第二深度；

H：高度；

S1～S4：距離；

T：厚度。

具體實施方式

圖(tu)(tu)1是依照本(ben)實(shi)(shi)用新型(xing)的(de)(de)(de)一(yi)實(shi)(shi)施例的(de)(de)(de)晶(jing)圓(yuan)承載(zai)盤的(de)(de)(de)正(zheng)視示(shi)意圖(tu)(tu)。圖(tu)(tu)2是圖(tu)(tu)1的(de)(de)(de)第(di)一(yi)滾動件的(de)(de)(de)放(fang)大示(shi)意圖(tu)(tu)。圖(tu)(tu)3是圖(tu)(tu)1的(de)(de)(de)晶(jing)圓(yuan)承載(zai)盤承載(zai)黏(nian)貼(tie)于(yu)膠(jiao)(jiao)膜(mo)(mo)(mo)上的(de)(de)(de)晶(jing)圓(yuan)與(yu)環繞于(yu)晶(jing)圓(yuan)外(wai)圍的(de)(de)(de)框(kuang)架(jia)的(de)(de)(de)正(zheng)視示(shi)意圖(tu)(tu)。圖(tu)(tu)4是圖(tu)(tu)3中沿線段A-A的(de)(de)(de)局部(bu)(bu)截面示(shi)意圖(tu)(tu)。請(qing)參考圖(tu)(tu)1至圖(tu)(tu)4，在本(ben)實(shi)(shi)施例中，晶(jing)圓(yuan)承載(zai)盤100可(ke)用以承載(zai)黏(nian)貼(tie)于(yu)膠(jiao)(jiao)膜(mo)(mo)(mo)10上的(de)(de)(de)晶(jing)圓(yuan)20與(yu)框(kuang)架(jia)30，其(qi)中框(kuang)架(jia)30環繞于(yu)晶(jing)圓(yuan)10外(wai)圍，且(qie)晶(jing)圓(yuan)10是以其(qi)背面與(yu)膠(jiao)(jiao)膜(mo)(mo)(mo)10接觸(chu)(chu)。膠(jiao)(jiao)膜(mo)(mo)(mo)10可(ke)以是藍膜(mo)(mo)(mo)(blue tape)或(huo)(huo)光解膠(jiao)(jiao)膜(mo)(mo)(mo)(UV tape)，且(qie)晶(jing)圓(yuan)10黏(nian)貼(tie)于(yu)膠(jiao)(jiao)膜(mo)(mo)(mo)10的(de)(de)(de)中央而使其(qi)背面完全與(yu)膠(jiao)(jiao)膜(mo)(mo)(mo)10相接觸(chu)(chu)。框(kuang)架(jia)30可(ke)為(wei)鋼制的(de)(de)(de)環形框(kuang)架(jia)，或(huo)(huo)其(qi)他金屬(shu)或(huo)(huo)合金制的(de)(de)(de)環形框(kuang)架(jia)，框(kuang)架(jia)30黏(nian)貼(tie)于(yu)膠(jiao)(jiao)膜(mo)(mo)(mo)10外(wai)圍，且(qie)框(kuang)架(jia)30的(de)(de)(de)局部(bu)(bu)超(chao)出膠(jiao)(jiao)膜(mo)(mo)(mo)10的(de)(de)(de)周緣(yuan)而未與(yu)膠(jiao)(jiao)膜(mo)(mo)(mo)10接觸(chu)(chu)。

晶圓承(cheng)載盤(pan)100包括承(cheng)載平(ping)臺(tai)110以及(ji)多(duo)個第(di)(di)一(yi)滾動件120，其中承(cheng)載平(ping)臺(tai)110具有(you)(you)頂(ding)面(mian)(mian)111、臺(tai)階112以及(ji)凹(ao)(ao)槽(cao)113，臺(tai)階112與頂(ding)面(mian)(mian)111之間有(you)(you)一(yi)段差，且凹(ao)(ao)槽(cao)113的底部與臺(tai)階112之間有(you)(you)另一(yi)段差。詳細而言，臺(tai)階112可為(wei)(wei)環形臺(tai)階，且位于頂(ding)面(mian)(mian)111與凹(ao)(ao)槽(cao)113之間。臺(tai)階112環繞(rao)于凹(ao)(ao)槽(cao)113外圍，臺(tai)階112距頂(ding)面(mian)(mian)111具有(you)(you)第(di)(di)一(yi)深(shen)度D1，且凹(ao)(ao)槽(cao)113的底部距頂(ding)面(mian)(mian)112具有(you)(you)大于第(di)(di)一(yi)深(shen)度D1的第(di)(di)二深(shen)度D2。換句話說(shuo)，臺(tai)階112與凹(ao)(ao)槽(cao)113可為(wei)(wei)承(cheng)載平(ping)臺(tai)110上(shang)呈(cheng)階梯狀的凹(ao)(ao)陷結構，用以容納膠膜(mo)10、晶圓20以及(ji)框(kuang)架30

所述(shu)(shu)多(duo)個(ge)(ge)(ge)第(di)(di)一滾(gun)(gun)(gun)(gun)動(dong)(dong)(dong)(dong)(dong)件(jian)120設置(zhi)于(yu)(yu)(yu)臺(tai)(tai)階(jie)(jie)112上(shang)(shang)，且(qie)(qie)分別位(wei)(wei)于(yu)(yu)(yu)臺(tai)(tai)階(jie)(jie)112上(shang)(shang)的(de)(de)(de)(de)(de)多(duo)個(ge)(ge)(ge)開槽112a內。所述(shu)(shu)多(duo)個(ge)(ge)(ge)第(di)(di)一滾(gun)(gun)(gun)(gun)動(dong)(dong)(dong)(dong)(dong)件(jian)120可以是滾(gun)(gun)(gun)(gun)輪(lun)或滾(gun)(gun)(gun)(gun)珠，并通(tong)過轉(zhuan)軸121樞設于(yu)(yu)(yu)臺(tai)(tai)階(jie)(jie)112。各個(ge)(ge)(ge)第(di)(di)一滾(gun)(gun)(gun)(gun)動(dong)(dong)(dong)(dong)(dong)件(jian)120的(de)(de)(de)(de)(de)局部(bu)(bu)外露于(yu)(yu)(yu)對(dui)應的(de)(de)(de)(de)(de)開槽112a，且(qie)(qie)各個(ge)(ge)(ge)第(di)(di)一滾(gun)(gun)(gun)(gun)動(dong)(dong)(dong)(dong)(dong)件(jian)120外露于(yu)(yu)(yu)臺(tai)(tai)階(jie)(jie)112的(de)(de)(de)(de)(de)局部(bu)(bu)的(de)(de)(de)(de)(de)高度H小于(yu)(yu)(yu)第(di)(di)一深度D1。換句話說(shuo)，所述(shu)(shu)多(duo)個(ge)(ge)(ge)第(di)(di)一滾(gun)(gun)(gun)(gun)動(dong)(dong)(dong)(dong)(dong)件(jian)120并未(wei)凸(tu)出于(yu)(yu)(yu)頂面111。所述(shu)(shu)多(duo)個(ge)(ge)(ge)第(di)(di)一滾(gun)(gun)(gun)(gun)動(dong)(dong)(dong)(dong)(dong)件(jian)120配(pei)置(zhi)用以承(cheng)載黏(nian)(nian)貼于(yu)(yu)(yu)膠膜(mo)10上(shang)(shang)的(de)(de)(de)(de)(de)晶(jing)圓(yuan)(yuan)(yuan)20與(yu)(yu)框(kuang)架(jia)30，且(qie)(qie)黏(nian)(nian)貼于(yu)(yu)(yu)膠膜(mo)10上(shang)(shang)的(de)(de)(de)(de)(de)晶(jing)圓(yuan)(yuan)(yuan)20與(yu)(yu)框(kuang)架(jia)30能(neng)夠通(tong)過所述(shu)(shu)多(duo)個(ge)(ge)(ge)第(di)(di)一滾(gun)(gun)(gun)(gun)動(dong)(dong)(dong)(dong)(dong)件(jian)120相對(dui)于(yu)(yu)(yu)承(cheng)載平臺(tai)(tai)110轉(zhuan)動(dong)(dong)(dong)(dong)(dong)。進一步而(er)言，所述(shu)(shu)多(duo)個(ge)(ge)(ge)第(di)(di)一滾(gun)(gun)(gun)(gun)動(dong)(dong)(dong)(dong)(dong)件(jian)120是與(yu)(yu)膠膜(mo)10與(yu)(yu)框(kuang)架(jia)30相黏(nian)(nian)合處(chu)(chu)的(de)(de)(de)(de)(de)背(bei)(bei)(bei)側相接觸，而(er)膠膜(mo)10與(yu)(yu)晶(jing)圓(yuan)(yuan)(yuan)20相黏(nian)(nian)合處(chu)(chu)并未(wei)與(yu)(yu)所述(shu)(shu)多(duo)個(ge)(ge)(ge)第(di)(di)一滾(gun)(gun)(gun)(gun)動(dong)(dong)(dong)(dong)(dong)件(jian)120相接觸。膠膜(mo)10與(yu)(yu)晶(jing)圓(yuan)(yuan)(yuan)20相黏(nian)(nian)合處(chu)(chu)在承(cheng)載平臺(tai)(tai)110上(shang)(shang)的(de)(de)(de)(de)(de)正(zheng)投影落在凹(ao)(ao)(ao)槽113內，且(qie)(qie)膠膜(mo)10與(yu)(yu)晶(jing)圓(yuan)(yuan)(yuan)20相黏(nian)(nian)合處(chu)(chu)的(de)(de)(de)(de)(de)背(bei)(bei)(bei)側與(yu)(yu)凹(ao)(ao)(ao)槽113的(de)(de)(de)(de)(de)底(di)部(bu)(bu)保(bao)持(chi)距離S1。另(ling)一方(fang)面，膠膜(mo)10與(yu)(yu)框(kuang)架(jia)30相黏(nian)(nian)合處(chu)(chu)在承(cheng)載平臺(tai)(tai)110上(shang)(shang)的(de)(de)(de)(de)(de)正(zheng)投影落在臺(tai)(tai)階(jie)(jie)112內。如(ru)圖4所示，膠膜(mo)10位(wei)(wei)于(yu)(yu)(yu)晶(jing)圓(yuan)(yuan)(yuan)20與(yu)(yu)凹(ao)(ao)(ao)槽113的(de)(de)(de)(de)(de)底(di)部(bu)(bu)之間(jian)，且(qie)(qie)膠膜(mo)10與(yu)(yu)晶(jing)圓(yuan)(yuan)(yuan)20相黏(nian)(nian)合處(chu)(chu)的(de)(de)(de)(de)(de)背(bei)(bei)(bei)側與(yu)(yu)凹(ao)(ao)(ao)槽113的(de)(de)(de)(de)(de)底(di)部(bu)(bu)未(wei)有接觸。藉(jie)此(ci)，防止膠膜(mo)10與(yu)(yu)晶(jing)圓(yuan)(yuan)(yuan)20相黏(nian)(nian)合處(chu)(chu)的(de)(de)(de)(de)(de)背(bei)(bei)(bei)側黏(nian)(nian)附承(cheng)載平臺(tai)(tai)110上(shang)(shang)的(de)(de)(de)(de)(de)異物，避免在后續書寫(xie)晶(jing)圓(yuan)(yuan)(yuan)刻號或切割晶(jing)圓(yuan)(yuan)(yuan)的(de)(de)(de)(de)(de)過程中產生晶(jing)圓(yuan)(yuan)(yuan)破裂或損(sun)傷等情(qing)況，以提高制程良率(lv)。

請繼續參考(kao)圖(tu)1至(zhi)圖(tu)4，為(wei)便于(yu)操(cao)作(zuo)(zuo)者轉動(dong)黏(nian)貼于(yu)膠(jiao)膜(mo)10上的(de)(de)晶圓20與(yu)框(kuang)架(jia)30，并且(qie)提(ti)高(gao)轉動(dong)時的(de)(de)穩(wen)定度，所述(shu)多(duo)個第一(yi)(yi)滾動(dong)件120沿(yan)臺(tai)(tai)(tai)階(jie)112的(de)(de)周向等距地排列(lie)于(yu)臺(tai)(tai)(tai)階(jie)112上。另(ling)一(yi)(yi)方面，承(cheng)載平(ping)臺(tai)(tai)(tai)110還(huan)有具相對(dui)于(yu)頂(ding)面111的(de)(de)底面114與(yu)至(zhi)少一(yi)(yi)開(kai)槽(cao)115(示意繪示出兩個)，開(kai)槽(cao)115貫穿頂(ding)面111與(yu)底面114，且(qie)貫穿臺(tai)(tai)(tai)階(jie)112的(de)(de)局(ju)部(bu)。由(you)于(yu)膠(jiao)膜(mo)10與(yu)框(kuang)架(jia)30相黏(nian)合處在(zai)(zai)承(cheng)載平(ping)臺(tai)(tai)(tai)110上的(de)(de)正投影落(luo)(luo)在(zai)(zai)臺(tai)(tai)(tai)階(jie)112內(nei)(nei)，因此框(kuang)架(jia)30的(de)(de)局(ju)部(bu)可落(luo)(luo)在(zai)(zai)開(kai)槽(cao)115內(nei)(nei)，以便于(yu)操(cao)作(zuo)(zuo)者施力(li)于(yu)落(luo)(luo)在(zai)(zai)開(kai)槽(cao)115內(nei)(nei)的(de)(de)框(kuang)架(jia)30的(de)(de)局(ju)部(bu)來(lai)轉動(dong)黏(nian)貼于(yu)膠(jiao)膜(mo)10上的(de)(de)晶圓20。

黏(nian)貼于膠(jiao)膜10上的(de)(de)(de)晶圓(yuan)20與(yu)(yu)框(kuang)(kuang)架(jia)(jia)30低于頂面(mian)(mian)(mian)111，由(you)于框(kuang)(kuang)架(jia)(jia)30通過膠(jiao)膜10接(jie)(jie)觸所(suo)述多個(ge)第一滾動件120，因此臺(tai)(tai)(tai)(tai)階(jie)112與(yu)(yu)框(kuang)(kuang)架(jia)(jia)30所(suo)保持(chi)的(de)(de)(de)距離(li)S2等于所(suo)述多個(ge)第一滾動件120的(de)(de)(de)任一外(wai)(wai)露于臺(tai)(tai)(tai)(tai)階(jie)112的(de)(de)(de)局(ju)部(bu)的(de)(de)(de)高度H與(yu)(yu)所(suo)述膠(jiao)膜10的(de)(de)(de)厚度T的(de)(de)(de)總合(he)，其中距離(li)S2約(yue)為0.5毫(hao)米。承載平(ping)臺(tai)(tai)(tai)(tai)110還有連接(jie)(jie)臺(tai)(tai)(tai)(tai)階(jie)112與(yu)(yu)頂面(mian)(mian)(mian)111的(de)(de)(de)內(nei)壁(bi)(bi)面(mian)(mian)(mian)116以(yi)及連接(jie)(jie)臺(tai)(tai)(tai)(tai)階(jie)112與(yu)(yu)凹槽113的(de)(de)(de)底部(bu)的(de)(de)(de)內(nei)壁(bi)(bi)面(mian)(mian)(mian)117，其中內(nei)壁(bi)(bi)面(mian)(mian)(mian)116與(yu)(yu)框(kuang)(kuang)架(jia)(jia)30的(de)(de)(de)外(wai)(wai)緣(yuan)保持(chi)距離(li)S3，，因此，在操(cao)作者轉(zhuan)動框(kuang)(kuang)架(jia)(jia)30的(de)(de)(de)過程中，框(kuang)(kuang)架(jia)(jia)30不(bu)會與(yu)(yu)承載平(ping)臺(tai)(tai)(tai)(tai)110產生摩(mo)擦或碰撞(zhuang)。內(nei)壁(bi)(bi)面(mian)(mian)(mian)117與(yu)(yu)晶圓(yuan)20的(de)(de)(de)周緣(yuan)保持(chi)距離(li)S4，其中距離(li)S4約(yue)為5毫(hao)米，因此，膠(jiao)膜10與(yu)(yu)晶圓(yuan)20相(xiang)黏(nian)合(he)處在承載平(ping)臺(tai)(tai)(tai)(tai)110上的(de)(de)(de)正投影落在凹槽113內(nei)。另一方面(mian)(mian)(mian)，位于框(kuang)(kuang)架(jia)(jia)30的(de)(de)(de)內(nei)緣(yuan)與(yu)(yu)內(nei)壁(bi)(bi)面(mian)(mian)(mian)117之間的(de)(de)(de)膠(jiao)膜10即可作為書(shu)寫刻號的(de)(de)(de)書(shu)寫區，操(cao)作者可通過轉(zhuan)動框(kuang)(kuang)架(jia)(jia)30的(de)(de)(de)方式使(shi)膠(jiao)膜10轉(zhuan)至所(suo)需方位以(yi)書(shu)寫刻號于書(shu)寫區。

在(zai)本實施(shi)例(li)中，晶圓(yuan)承載盤100還包括多(duo)(duo)(duo)個(ge)(ge)(ge)第二(er)滾(gun)(gun)(gun)動(dong)(dong)(dong)(dong)(dong)件(jian)(jian)130，分別設置(zhi)于(yu)頂(ding)面(mian)111上(shang)的(de)(de)多(duo)(duo)(duo)個(ge)(ge)(ge)讓位(wei)槽(cao)118內(nei)，且(qie)所(suo)(suo)(suo)述(shu)多(duo)(duo)(duo)個(ge)(ge)(ge)第二(er)滾(gun)(gun)(gun)動(dong)(dong)(dong)(dong)(dong)件(jian)(jian)130的(de)(de)每(mei)一(yi)(yi)個(ge)(ge)(ge)可(ke)以是(shi)對(dui)應于(yu)所(suo)(suo)(suo)述(shu)多(duo)(duo)(duo)個(ge)(ge)(ge)第一(yi)(yi)滾(gun)(gun)(gun)動(dong)(dong)(dong)(dong)(dong)件(jian)(jian)120的(de)(de)每(mei)一(yi)(yi)個(ge)(ge)(ge)設置(zhi)。所(suo)(suo)(suo)述(shu)多(duo)(duo)(duo)個(ge)(ge)(ge)第二(er)滾(gun)(gun)(gun)動(dong)(dong)(dong)(dong)(dong)件(jian)(jian)130的(de)(de)每(mei)一(yi)(yi)個(ge)(ge)(ge)可(ke)以是(shi)滾(gun)(gun)(gun)輪、滾(gun)(gun)(gun)珠或(huo)軸承，配置(zhi)用以依垂直于(yu)頂(ding)面(mian)111的(de)(de)軸線(xian)A轉(zhuan)動(dong)(dong)(dong)(dong)(dong)。所(suo)(suo)(suo)述(shu)多(duo)(duo)(duo)個(ge)(ge)(ge)第二(er)滾(gun)(gun)(gun)動(dong)(dong)(dong)(dong)(dong)件(jian)(jian)130的(de)(de)每(mei)一(yi)(yi)個(ge)(ge)(ge)與(yu)(yu)框(kuang)架(jia)30的(de)(de)外(wai)緣相抵接，使(shi)內(nei)壁面(mian)116與(yu)(yu)框(kuang)架(jia)30的(de)(de)外(wai)緣保持距離S3。因此(ci)，在(zai)操作者轉(zhuan)動(dong)(dong)(dong)(dong)(dong)框(kuang)架(jia)30的(de)(de)過(guo)程中，框(kuang)架(jia)30不會與(yu)(yu)承載平(ping)臺110產生摩(mo)擦或(huo)碰撞(zhuang)，故能降(jiang)低旋轉(zhuan)阻力。也就(jiu)是(shi)說，黏貼于(yu)膠膜10上(shang)的(de)(de)晶圓(yuan)20與(yu)(yu)框(kuang)架(jia)30能通過(guo)所(suo)(suo)(suo)述(shu)多(duo)(duo)(duo)個(ge)(ge)(ge)第一(yi)(yi)滾(gun)(gun)(gun)動(dong)(dong)(dong)(dong)(dong)件(jian)(jian)120與(yu)(yu)所(suo)(suo)(suo)述(shu)多(duo)(duo)(duo)個(ge)(ge)(ge)第二(er)滾(gun)(gun)(gun)動(dong)(dong)(dong)(dong)(dong)件(jian)(jian)130順(shun)暢地相對(dui)于(yu)承載平(ping)臺110轉(zhuan)動(dong)(dong)(dong)(dong)(dong)。于(yu)其(qi)它實施(shi)例(li)中，所(suo)(suo)(suo)述(shu)多(duo)(duo)(duo)個(ge)(ge)(ge)第二(er)滾(gun)(gun)(gun)動(dong)(dong)(dong)(dong)(dong)件(jian)(jian)130的(de)(de)每(mei)一(yi)(yi)個(ge)(ge)(ge)可(ke)不需對(dui)應于(yu)所(suo)(suo)(suo)述(shu)多(duo)(duo)(duo)個(ge)(ge)(ge)第一(yi)(yi)滾(gun)(gun)(gun)動(dong)(dong)(dong)(dong)(dong)件(jian)(jian)120的(de)(de)每(mei)一(yi)(yi)個(ge)(ge)(ge)而等距分布(bu)于(yu)頂(ding)面(mian)111上(shang)的(de)(de)多(duo)(duo)(duo)個(ge)(ge)(ge)讓位(wei)槽(cao)118內(nei)，此(ci)為另一(yi)(yi)可(ke)行的(de)(de)實施(shi)例(li)。

此(ci)外，為使本(ben)實用(yong)新型(xing)的晶(jing)圓(yuan)(yuan)承載(zai)(zai)盤得(de)以(yi)更加穩固(gu)放(fang)置(zhi)于桌面上(shang)，可于晶(jing)圓(yuan)(yuan)承載(zai)(zai)盤底部等距(ju)設置(zhi)多個墊塊(未圖示(shi))，所(suo)述多個墊塊可為具止滑效果(guo)之(zhi)塑(su)料或(huo)橡膠材質，藉以(yi)讓晶(jing)圓(yuan)(yuan)承載(zai)(zai)盤平(ping)放(fang)時(shi)不會滑移、搖晃(huang)而仍維持水(shui)平(ping)。

綜上(shang)所(suo)述，本實用新(xin)型(xing)的(de)(de)晶(jing)(jing)(jing)圓(yuan)(yuan)承(cheng)(cheng)(cheng)載(zai)(zai)(zai)(zai)盤(pan)可使(shi)黏膜(mo)(mo)與(yu)晶(jing)(jing)(jing)圓(yuan)(yuan)相(xiang)黏合處(chu)的(de)(de)背側與(yu)晶(jing)(jing)(jing)圓(yuan)(yuan)承(cheng)(cheng)(cheng)載(zai)(zai)(zai)(zai)盤(pan)的(de)(de)承(cheng)(cheng)(cheng)載(zai)(zai)(zai)(zai)平(ping)臺(tai)(tai)保(bao)持距離(li)，即不(bu)(bu)與(yu)晶(jing)(jing)(jing)圓(yuan)(yuan)承(cheng)(cheng)(cheng)載(zai)(zai)(zai)(zai)盤(pan)的(de)(de)承(cheng)(cheng)(cheng)載(zai)(zai)(zai)(zai)平(ping)臺(tai)(tai)相(xiang)接(jie)(jie)觸。藉此，防(fang)止(zhi)黏膜(mo)(mo)與(yu)晶(jing)(jing)(jing)圓(yuan)(yuan)相(xiang)黏合處(chu)的(de)(de)背側黏附晶(jing)(jing)(jing)圓(yuan)(yuan)承(cheng)(cheng)(cheng)載(zai)(zai)(zai)(zai)盤(pan)的(de)(de)承(cheng)(cheng)(cheng)載(zai)(zai)(zai)(zai)平(ping)臺(tai)(tai)上(shang)的(de)(de)異物，避免在后續書寫晶(jing)(jing)(jing)圓(yuan)(yuan)刻號或切(qie)割晶(jing)(jing)(jing)圓(yuan)(yuan)的(de)(de)過(guo)程中產(chan)生晶(jing)(jing)(jing)圓(yuan)(yuan)破(po)裂或損傷(shang)等情況，以(yi)提高制程良率(lv)。另一(yi)方面(mian)，晶(jing)(jing)(jing)圓(yuan)(yuan)承(cheng)(cheng)(cheng)載(zai)(zai)(zai)(zai)盤(pan)可通過(guo)多個第一(yi)滾動(dong)(dong)件(jian)承(cheng)(cheng)(cheng)載(zai)(zai)(zai)(zai)黏貼于膠(jiao)膜(mo)(mo)上(shang)的(de)(de)晶(jing)(jing)(jing)圓(yuan)(yuan)與(yu)框(kuang)架(jia)(jia)，并通過(guo)多個第二滾動(dong)(dong)件(jian)抵接(jie)(jie)框(kuang)架(jia)(jia)的(de)(de)外緣(yuan)以(yi)使(shi)框(kuang)架(jia)(jia)的(de)(de)外緣(yuan)與(yu)連接(jie)(jie)臺(tai)(tai)階(jie)與(yu)頂面(mian)的(de)(de)內壁面(mian)保(bao)持距離(li)。因此，在操作者轉(zhuan)(zhuan)(zhuan)動(dong)(dong)框(kuang)架(jia)(jia)的(de)(de)過(guo)程中，框(kuang)架(jia)(jia)不(bu)(bu)會與(yu)承(cheng)(cheng)(cheng)載(zai)(zai)(zai)(zai)平(ping)臺(tai)(tai)產(chan)生摩擦或碰撞，故能降低旋轉(zhuan)(zhuan)(zhuan)阻力。也就是說，黏貼于膠(jiao)膜(mo)(mo)上(shang)的(de)(de)晶(jing)(jing)(jing)圓(yuan)(yuan)與(yu)框(kuang)架(jia)(jia)能通過(guo)所(suo)述多個第一(yi)滾動(dong)(dong)件(jian)與(yu)所(suo)述多個第二滾動(dong)(dong)件(jian)順暢地相(xiang)對于承(cheng)(cheng)(cheng)載(zai)(zai)(zai)(zai)平(ping)臺(tai)(tai)轉(zhuan)(zhuan)(zhuan)動(dong)(dong)框(kuang)架(jia)(jia)的(de)(de)外緣(yuan)，以(yi)提高制程上(shang)的(de)(de)便(bian)利(li)性。

最后應(ying)(ying)說明的(de)是：以(yi)上各(ge)(ge)實(shi)施(shi)(shi)例僅用(yong)以(yi)說明本(ben)實(shi)用(yong)新型的(de)技(ji)(ji)(ji)(ji)術(shu)方案(an)(an)，而非對(dui)其限制(zhi)；盡管參(can)照(zhao)前(qian)述各(ge)(ge)實(shi)施(shi)(shi)例對(dui)本(ben)實(shi)用(yong)新型進行(xing)了詳細的(de)說明，本(ben)領(ling)域的(de)普通技(ji)(ji)(ji)(ji)術(shu)人員應(ying)(ying)當理解(jie)：其依然可以(yi)對(dui)前(qian)述各(ge)(ge)實(shi)施(shi)(shi)例所記(ji)載(zai)的(de)技(ji)(ji)(ji)(ji)術(shu)方案(an)(an)進行(xing)修(xiu)(xiu)改(gai)，或者對(dui)其中部分或者全部技(ji)(ji)(ji)(ji)術(shu)特征進行(xing)等同替換(huan)；而這些修(xiu)(xiu)改(gai)或者替換(huan)，并不(bu)使相應(ying)(ying)技(ji)(ji)(ji)(ji)術(shu)方案(an)(an)的(de)本(ben)質脫離本(ben)實(shi)用(yong)新型各(ge)(ge)實(shi)施(shi)(shi)例技(ji)(ji)(ji)(ji)術(shu)方案(an)(an)的(de)范圍。