一種過濾藍光的耐磨觸摸顯示屏及其制造方法
【技術領域】
[0001]本發明涉及一種過濾藍光的耐磨觸摸顯示屏及其制造方法。
【背景技術】
[0002]隨著現代生活觸摸顯示屏的普遍使用，而且人們的生活越來越離不開觸摸顯示屏，有很多人經常性的使用觸摸顯示屏帶來的結果是眼睛出現酸澀、疼痛、流淚等不舒服癥狀，更嚴重的出現視力下降，這些不舒服的癥狀是因為眼睛長時間對觸摸顯示屏，由觸摸顯示屏所散發出來的有害光線所致，觸摸顯示屏發出的光是眼睛的大敵，普遍觸摸顯示屏供應商為了體現觸摸顯示屏的色彩對比度及飽和度，會提高觸摸顯示屏背后的燈光亮度，這樣會使屏幕表面像裝了一片玻璃一樣顯得有質感，提高了清晰度，同樣它也會像玻璃一樣反射光線，但光線照向屏幕時會增加光線反射，尤其是晚上的時候消費者在使用觸摸顯示屏時，LED燈光照向觸摸顯示屏會增加光線反射，這樣很容易被這些光線傷害到眼睛，并產生視覺疲勞的癥狀，慢慢的會引起視力下降和頭痛的健康問題，，觸摸顯示屏產生的“不舒服的光”持續照射我們的眼睛還會引起視覺系統失調，觸摸顯示屏發出的光讓我們眼睛不舒服是因為這些光線里面含有大量不規則頻率的高能短波藍光，這些短波藍光具有能量能穿透我們的眼球晶體直達視網膜，短波藍光持續照射視網膜會產生大量自由基離子，這些自由基離子會使得視網膜的色素上皮細胞衰亡，上皮細胞的衰會使感光細胞缺少養分而引起視力損傷;這些短波藍光也是引起黃斑部病變的主要起因，我們每天長時間面對觸摸顯示屏產生的藍光刺激，殊不知藍光波長短能量高，易引起眼睛視覺上的干澀、畏光、疲勞等早發性白內障、自發性黃斑部病變。藍光約占可見光的50?60%，而藍光也是引起黃斑部病變的主要原因之一，嚴重可能導致失明。藍光會刺激視網膜產生大量自由基離子，使得視網膜色素上皮的萎縮，再引起光敏感細胞的衰亡，這是因為我們所處的是信息時代，人們的工作與學習都離不開觸摸顯示屏，面對觸摸顯示屏的時間越來越長，用眼的頻率也越來越高。眼睛開始酸澀、疼痛、流淚，它凄切的告訴我們:我們的眼睛已經受到了傷害，需要在使用觸摸顯示屏時得到保護。目前觸摸顯示屏發出的藍光、電磁波、自由電子它們均會對眼睛造成傷害，為了保護眼睛，必須加以過濾，而目前過濾觸摸顯示屏藍光的方法是在觸摸顯示屏表面貼一層保護膜，觸摸顯示屏貼膜以后，透光率往往會下降，所貼的膜容易產生劃痕影響視覺效果，對過濾藍光效果依然不夠理想。另外，保護膜耐磨性差，容易刮花，影響視覺效果。

【發明內容】

[0003]本發明的目的在于提供一種過濾藍光的耐磨觸摸顯示屏及其制造方法，該方法制造出來的觸摸顯示屏具有防止有害藍光對人體的傷害，而且具有高耐性。
[0004]為實現上述目的，本發明采用以下技術方案:
一種過濾藍光的耐磨觸摸顯示屏，包括基板，所述基板的外表面從里到外依序設有第一膜層、第二膜層、第三膜層和第四膜層，所述第一膜層為五氧化三鈦層，第一膜層的厚度為10-100111]1;所述第二膜層為二氧化娃層，第二膜層的厚度為50-100111]1;第三膜層為金屬層，第三膜層的厚度為5-20nm;所述第四膜層為高硬度層，該第四膜層的厚度為10-50nmo
[0005]所述金屬層的膜材為金、銀、鉑、釹、銅、鋅或鎳，并使用電子槍蒸鍍成型。
[0006]所述金屬層的膜材為金合金、銀合金、鈾合金、釹合金、銅合金、鋅合金或鎳合金，并使用電子槍蒸鍍成型。
[0007]所述高硬度層的膜材為三氧化二鋁、氧化鋯、二氧化硅晶體或一氧化硅晶體，并使用電子槍蒸鍍成型。
[0008]所述基板為樹脂或玻璃成型。
[0009]所述觸摸顯示屏的基板為樹脂成型時，該過濾藍光的耐磨觸摸顯示屏的制造方法具體包括以下步驟:
1)對基板的外表面進行清洗；
2)對基板的外表面進行鍍膜；
A、鍍第一膜層:
將真空鍍膜艙內的真空度調整至大于或等于5.0 X 10—3帕，并控制真空鍍膜艙內的溫度為50-70°C，采用電子槍轟擊第一膜層的膜材，第一膜層的膜材蒸發后以納米級分子形式沉積于基板的外表面，同時控制第一膜層蒸鍍的速率為2.5A/S，第一膜層最終形成后的厚度為10-1 OOnm，其中第一膜層的膜材為五氧化三鈦，形成五氧化三鈦層；
B、鍍第二膜層:
保持真空鍍膜艙內的真空度大于或等于5.0 X 10—3帕，同時保持真空鍍膜艙內的溫度為50-70°C，采用電子槍轟擊第二膜層的膜材，第二膜層的膜材蒸發后以納米級分子形式沉積于上述步驟A中第一膜層的表面，同時控制第二膜層蒸鍍的速率為7A/S，第二膜層最終形成后的厚度為50-100nm，其中第二膜層的膜材為二氧化硅，形成二氧化硅層；
C、鍍第三膜層:
保持真空鍍膜艙內的真空度大于或等于5.0 X 10—3帕，同時保持真空鍍膜艙內的溫度為50-70°C，采用電子槍轟擊第三膜層的膜材，第三膜層的膜材蒸發后以納米級分子形式沉積于上述步驟B中第二膜層的表面，同時控制第三膜層蒸鍍的速率為1A/S，第三膜層最終形成后的厚度為5_20nm，其中第三膜層的膜材為金、銀、鉑、釹、銅、鋅、鎳、金合金、銀合金、鉑合金、釹合金、銅合金、鋅合金或鎳合金，形成金屬層。
[0010]D、鍍第四膜層:
保持真空鍍膜艙內的真空度大于或等于5.0 X 10—3帕，同時保持真空鍍膜艙內的溫度為50-70°C，采用電子槍轟擊第四膜層的膜材，第四膜層的膜材蒸發后以納米級分子形式沉積于上述步驟C中第三膜層的表面，同時控制第四膜層蒸鍍的速率為7A/S，第四膜層最終形成后的厚度為10-50nm，其中第四膜層的膜材為三氧化二鋁、氧化鋯、二氧化硅晶體或一氧化硅晶體，形成高硬度層。
[0011]所述步驟1)中，對基板清洗的具體方法如下:將基板放在真空腔內，用離子槍轟擊基板的外表面3分鐘。
[0012]所述觸摸顯示屏的基板為玻璃成型時，該過濾藍光的耐磨觸摸顯示屏的所述制造方法具體包括以下步驟:
1)對基板的外表面進行清洗；
2)對基板的外表面進行鍍膜； A、鍍第一膜層:
將真空鍍膜艙內的真空度調整至大于或等于5.0 X 10—3帕，并控制真空鍍膜艙內的溫度為200-300°C，采用電子槍轟擊第一膜層的膜材，第一膜層的膜材蒸發后以納米級分子形式沉積于基板的外表面，同時控制第一膜層蒸鍍的速率為2.5A/S，第一膜層最終形成后的厚度為10-100nm，其中第一膜層的膜材為五氧化三鈦，形成五氧化三鈦層；
B、鍍第二膜層:
保持真空鍍膜艙內的真空度大于或等于5.0 X 10—3帕，同時保持真空鍍膜艙內的溫度為200-300°C，采用電子槍轟擊第二膜層的膜材，第二膜層的膜材蒸發后以納米級分子形式沉積于上述步驟A中第一膜層的表面，同時控制第二膜層蒸鍍的速率為7A/S，第二膜層最終形成后的厚度為50-100nm，其中第二膜層的膜材為二氧化硅，形成二氧化硅層；
C、鍍第三膜層:
保持真空鍍膜艙內的真空度大于或等于5.0 X 10—3帕，同時保持真空鍍膜艙內的溫度為200-300°C，采用電子槍轟擊第三膜層的膜材，第三膜層的膜材蒸發后以納米級分子形式沉積于上述步驟B中第二膜層的表面，同時控制第三膜層蒸鍍的速率為1A/S，第三膜層最終形成后的厚度為5-20nm，其中第三膜層的膜材為金、銀、鉑、釹、銅、鋅、鎳、金合金、銀合金、鈾合金、釹合金