本發明涉及一種觸摸面板，尤其涉及一種用于觸摸面板的電極結構及其制造方法，其中，一單元線和與其連續的另一單元線延續，同時所述單元線之間的接觸面積從整個線寬減小，由此實現不規則圖案。
背景技術：
：：觸摸面板，作為一種用于檢測用戶在顯示屏上的觸摸位置并接收關于檢測到的觸摸位置的信息以對電子設備進行整體控制(包括顯示屏控制)的輸入/輸出裝置，是當諸如手指或觸摸筆等物體觸摸屏幕時，將觸摸識別為輸入信號的設備。近年來，觸摸輸入設備時常被安裝在諸如移動電話、個人數字助理(PersonalDigitalAssistant，PDA)和便攜式多媒體播放器(PortableMultimediaPlayer，PMP)等移動設備上。此外，觸摸輸入設備在一切行業中都被使用，例如導航、上網本、筆記本、數字信息設備(DigitalInformationDevice,DID)、使用支持觸摸輸入的操作系統的臺式計算機、互聯網協議TV(InternetProtocolTV,IPTV)、最新型的戰斗機、坦克和裝甲車。觸摸面板被設計為添加或嵌入到例如液晶顯示器(LiquidCrystalDisplay,LCD)、等離子體顯示面板(PlasmaDisplayPanel,PDP)、有機發光二極管(OrganicLightEmittingDiode,OLED)或有源矩陣有機發光二極管(ActiveMatrixOrganicLightEmittingDiode,AMOLED)等顯示設備中。觸摸面板是可光學透射的，并且包括采用導電材料的檢測單元。檢測單元由重復圖案組成，以便識別觸摸面板上的輸入信號的位置。在這種情況下存在的問題是，由于包括檢測單元的檢測層被平行地層疊，圖案彼此重疊，因此由于圖案之間的干涉而發生莫爾條紋現象。在已提出的方法中，當構成檢測電極的圖案由于檢測基板的層疊或檢測基板和圖像顯示面板的層疊而彼此重疊時，在圖案之間施加基于預定角度的扭曲，以防止莫爾條紋圖案的產生，從而解決由于莫爾條紋圖案而使清晰度惡化的問題。公開號為No.10-的韓國專利申請公開了一種方法，其中，網格圖案的側壁的形成被控制在構成檢測單元的導電層中，從而減少莫爾條紋的產生。在形成導電層的過程中，通過以70μm至200μm的接近式間隙配置的光掩模使光致抗蝕劑材料接近式曝光，并且形成與光掩模的周期性重復的掩模圖案對應的周期性圖案。構成導電層的第一導電細金屬線和第二導電細金屬線在其側面具有突出部，并且突出部從指示細金屬線的設計寬度的虛擬線朝向開口延伸。突出部的突出量為設計寬度的1/25至1/6。在現有技術中，控制網格圖案的側壁的形成，由此減少莫爾條紋的出現。然而，由于通過對掩模布置的控制來進行對形成位置的控制，所以隨著導電層的線寬減小，難以精確地控制突出部分的精細圖案。因此，難以在整個區域上均勻地抑制莫爾條紋現象的發生。技術實現要素：技術問題本發明的一目的是提供一種用于觸摸面板的電極結構及其制造方法，其中，一單元線和與其連續的另一單元線延續，同時所述單元線之間的接觸面積從整個線寬減小，從而實現不規則圖案。本發明的另一目的是提供一種用于觸摸面板的電極結構及其制造方法，其中，任一個單元線和與其連續的另一單元線延續，同時改變所述單元線之間的接觸面積，使其從整個線寬減小非接觸尺寸值k，所述非接觸尺寸值k是通過將線寬除以任意實數而獲得的，由此抑制莫爾條紋現象的發生。本發明的又一目的是提供一種用于觸摸面板的電極結構及其制造方法，其中，構成檢測電極的金屬線具有以精確控制的形式的不規則圖案，從而可以抑制莫爾條紋現象的發生，從而改進面板的清晰度。本發明的目的不限于上述目的，本領域技術人員從以下描述中可以理解本發明的其它目的。技術方案根據本發明的一方面，提供了一種用于觸摸面板的電極結構，其中，由連續的單元線組成的金屬線具有不規則圖案，其中，任一個單元線和與其連續的另一個單元線之間的接觸面積從整個線寬減小非接觸尺寸值k，所述非接觸尺寸值k是通過將線寬除以任意實數而獲得的。任何一個金屬線可以重復地與其它金屬線相交，從而形成網格圖案。所述單元線可以是邊長等于金屬線的線寬Wm的規則正方形。非接觸尺寸值k可以是所述單元線之間的非接觸元素，其通過將所述金屬線的所述線寬Wm除以任意實數r而獲得(k＝Wm/r)。所述金屬線可以被配置成以下形式：任一個單元線和與所述任一個單元線連續的另一個單元線之間的部署條件滿足kn+1＝kn+k或kn+1＝kn-k。所述連續的單元線可以具有以下形式：在所述金屬線的前進方向上的下一個單元線的形成位置從左向右移動k(kn+1＝kn+k)，使得所述接觸面積從所述整個線寬減小k。所述連續的單元線可以具有以下形式：在所述金屬線的前進方向上的下一個單元線的形成位置從右向左移動k(kn+1＝kn-k)，使得所述接觸面積從所述整個線寬減小k。所述連續的單元線可以具有以下形式：在所述金屬線的前進方向上的下一個單元線的形成位置從左向右移動(kn+1＝kn+k)的一個單元線和在所述金屬線的前進方向上的下一個單元線的形成位置從右向左移動(kn+2＝kn-k)的另一個單元線以單元線為基礎進行交替。所述連續的單元線可以具有以下形式：所述金屬線被劃分為具有預定尺寸的多個區域，使得在所述金屬線的前進方向上的下一個單元線的形成位置在一個區域中從左向右移動(kn+1＝kn+k)，并在另一個區域中從右向左移動(kn+1＝kn-k)。當所述線寬Wm不大于3μm時，則可以應用Wm≤3μm,當所述線寬Wm大于3μm時，則可以應用Wm＞3μm,使得由連續的單元線組成的金屬線的一個單元線和另一個單元線的接觸比基于所述金屬線的所述線寬為3μm時而變化。其中，Wm是所述金屬線的線寬，k是非接觸尺寸值。根據本發明的另一方面，提供一種制造用于觸摸面板的電極結構的方法，所述方法包括：在基板上形成金屬層；以及通過使用形成有網格圖案的光掩模使所述金屬層圖案化，來形成構成網格圖案的金屬線；其中，由連續的單元線構成的金屬線具有不規則圖案，其中，任一個單元線和與所述任一個單元線連續的另一個單元線之間的接觸面積從整個線寬減小非接觸尺寸值k，所述非接觸尺寸值k通過將線寬除以任意實數而獲得。在通過圖案化所述金屬層來形成構成所述網格圖案的所述金屬線中，可以將所述金屬層圖案化以使得所述連續的單元線具有以下形式：其中，在所述金屬線的前進方向上的下一個單元線的形成位置從左向右移動k(kn+1＝kn+k)，使得所述接觸面積從所述整個線寬減小k。在通過圖案化所述金屬層來形成構成所述網格圖案的所述金屬線中，可以將所述金屬層圖案化以使得所述連續的單元線具有以下形式：在所述金屬線的前進方向上的下一個單元線的形成位置從右向左移動k(kn+1＝kn-k)，使得所述接觸面積從所述整個線寬減小k。在通過圖案化所述金屬層來形成構成所述網格圖案的所述金屬線中，可以將所述金屬層圖案化以使得所述連續的單元線具有以下形式：在所述金屬線的前進方向上的下一個單元線的形成位置從左向右移動(kn+1＝kn+k)的一個單元線和在所述金屬線的前進方向上的下一個單元線的形成位置從右向左移動(kn+2＝kn-k)的另一個單元線以單元線為基礎進行交替。在通過圖案化所述金屬層來形成構成所述網格圖案的所述金屬線中，可以將所述金屬層圖案化以使得所述連續的單元線具有以下形式：所述金屬線被劃分為具有預定尺寸的多個區域，使得在所述金屬線的前進方向上的下一個單元線的形成位置在一個區域中從左向右移動(kn+1＝kn+k)，并在另一個區域中從右向左移動(kn+1＝kn-k)。有益效果根據本發明的用于觸摸面板的電極結構及其制造方法具有以下效果。第一，可以以以下形式精確控制不規則圖案的形成：一單元線和與其連續的另一單元線之間的接觸面積從整個線寬減小，且所述單元線延續。第二，通過精確控制的不規則圖案抑制莫爾條紋現象的產生，從而改進觸摸面板的清晰度。附圖說明圖1是示出應用根據本發明的電極結構的觸摸面板的示例的結構圖；圖2是根據本發明的金屬線和單元線的結構圖；圖3a到圖3c是示出根據本發明的金屬線的不規則圖案結構的結構圖；圖4a到圖4d是示出根據本發明的電極結構的不規則圖案的實施方式的結構圖；圖5a到圖5v是用于制造根據本發明的電極結構的方法的剖視圖。具體實施方式在下文中，將如下對根據本發明的用于觸摸面板的電極結構及其制造方法的優選實施方式進行描述。通過以下對實施方式的詳細描述，根據本發明的用于觸摸面板的電極結構及其制造方法的特征和優點將是顯而易見的。圖1是示出應用根據本發明的電極結構的觸摸面板的示例的結構圖。圖2是根據本發明的金屬線和單元線的結構圖。在本發明中，構成觸摸面板的檢測單元的金屬線由連續的單元線限定，并且任一個單元線和與其連續的另一單元線延續，同時改變所述單元線之間的接觸面積以從整個線寬減小通過將線寬除以任意實數獲得的非接觸尺寸值k，從而實現不規則圖案。圖1示出了應用根據本發明的電極結構的觸摸面板的一個實施方式。然而，構成檢測單元的布局上的結構不限于此。根據本發明的電極結構包括多個導電區域A和位于相互連續的導電區域A之間的開口B，以及通過導電區域A和開口B的聯接而具有網格形狀。該網格形狀是由一個開口B和圍繞該開口B的四個導電區域A形成的結構。根據本發明的電極結構的導電區域A包括在一個方向上以第一間距L1排列的多個第一金屬線10和在另一方向上以第二間距L2排列的多個第二金屬線11。所述多個第一金屬線10和所述多個第二金屬線11在交叉區域12相互交叉以實現網格圖案。在此，第一金屬線10和第二金屬線11不具有恒定的線寬和恒定的接觸面積，而是具有不規則圖案，其中，任一個單元線和與其連續的另一單元線之間的接觸面積從整個線寬減小非接觸尺寸值k，所述非接觸尺寸值k通過將線寬除以任意實數而獲得。不規則圖案不限于圖1所示的形狀和方向。第一間距L1和第二間距L2可以具有相同的尺寸或不同的尺寸。可替選地，第一間距L1和第二間距L2可以具有相同尺寸和不同尺寸的組合。圖2示出根據本發明的單元網格和單元線的結構。在本說明書中，將通過使金屬線和其他金屬線交叉而形成的網格圖案中的任一個網格圖案定義為單元網格，并且將邊長等于構成單元網格的金屬線的線寬Wm的規則正方形定義為單元線。金屬線通過使單元線彼此連續而形成，并且金屬網格通過將單元網格彼此連接而形成。非接觸尺寸值k是指單元線之間的非接觸元素，通過將線寬Wm除以任意實數r而獲得(k＝Wm/r)。金屬線被配置成以下形式：其中，相鄰的單元線之間的部署條件滿足kn+1＝kn+k或kn+1＝kn-k。圖3a示出了當該任意實數r為4時，非接觸尺寸值k為1/4Wm的情況。接觸面積在通過使一單元線和與其相鄰的另一單元線彼此連續而形成的金屬線的前進方向上在右側減小(-k)或增加(+k)。這里，-k表示在金屬線的前進方向上的下一個單元線的形成位置從右向左移動，使得接觸面積從整個線寬減小k并且單元線是連續的。此外，+k表示在金屬線的前進方向上的下一個單元線的形成位置從左向右移動，使得接觸面積從整個線寬減小k并且單元線是連續的。圖3b示出了當該任意實數r為5時，非接觸尺寸值k為1/5Wm的情況。圖3c示出了當該任意實數r為8時，非接觸尺寸值k為1/8Wm的情況。圖4a到圖4d是示出根據本發明的電極結構的不規則圖案的實施方式的結構圖。圖4a是示出構成電極結構的金屬線具有精確控制的不規則圖案的狀態的結構圖，其示出當該任意實數r為8時，非接觸尺寸值k為1/8Wm的情況。也就是說，圖4a示出了在金屬線的前進方向上的下一個單元線的形成位置從左向右移動(kn+1＝kn+k)使得接觸面積從整個線寬減小k并且單元線連續的形式。圖4b示出了當該任意實數r為8時非接觸尺寸值k為1/8Wm的情況。即，圖4b示出了在金屬線的前進方向上的下一個單元線的形成位置從右向左移動(kn+1＝kn-k)使得接觸面積從整個線寬減小k并且單元線連續的形式。圖4c示出了當該任意實數r為8時非接觸尺寸值k為1/8Wm的情況。即圖4c示出了在金屬線的前進方向上的下一個單元線的形成位置從左向右移動(kn+1＝kn+k)的單元線和在金屬線的前進方向上的下一個單元線的形成位置從右向左移動(kn+2＝kn-k)的另一單元線以單元線為基礎進行交替的形式。圖4d示出了當該任意實數r為8時非接觸尺寸值k為1/8Wm的情況。即，圖4d示出了金屬線按預定長度被劃分，使得在金屬線的行進方向上的下一個單元線的形成位置在一個區域中從左向右移動(kn+1＝kn+k)并在另一區域中從右向左移動(kn+1＝kn-k)的形式。根據本發明的電極結構的金屬線的形式不限于圖4a至圖4d中的形式，并且可以以其它形式被修改和實施。制造根據本發明的用于觸摸面板的電極結構的方法如下。圖5a至圖5v是制造根據本發明的電極結構的方法的剖視圖。以下描述的制造方法示出了根據本發明的電極結構所應用的方法的示例。本發明的方法不限于下述結構和方法條件，并且可以以不同的方式形成。首先，如圖5a所示，在透明基板50上形成第一氧化物層51和第一金屬層52。第一氧化物層51可以包括氧化銦錫(ITO)和氧化銦鋅(IZO)。第一金屬層52可以包括鉬銀合金、鋁合金等。之后，如圖5b所示，在第一金屬層52上涂敷光致抗蝕劑53，然后使用其中形成有網格圖案的光掩模54進行曝光，如圖5c所示。隨后，如圖5d所示，通過顯影光致抗蝕劑53形成光致抗蝕劑圖案層53a。如圖5e所示，通過使用光致抗蝕劑圖案層53a，用濕法蝕刻液選擇性地圖案化第一金屬層52和第一氧化物層51，從而形成第一氧化物層圖案51a和第一金屬圖案52a。這里，第一金屬圖案52a在任一方向上成為金屬線，該金屬線構成檢測單元。第一金屬圖案52a可以以圖4a至圖4d所示的形式圖案化。也就是說，由連續的單元線構成的金屬線具有不規則圖案，其中，任何一個單元線和與其連續的另一個單元線之間的接觸面積從整個線寬減小非接觸尺寸值k，該非接觸尺寸值k通過將線寬除以任意實數獲得。此后，如圖5f所示，去除光致抗蝕劑圖案層53a，并且在第一金屬圖案52a上形成絕緣層(SiON)55。隨后，如圖5g所示，在絕緣層55上涂敷光致抗蝕劑(PR)56。然后使用其中形成有孔圖案的光掩模57使光致抗蝕劑56曝光，如圖5h所示，從而形成如圖5i所示的光致抗蝕劑圖案層56a。此后，如圖5j所示，使用光致抗蝕劑圖案層56a，通過干蝕刻方法選擇性地去除絕緣層55，從而形成連接孔57。如圖5k所示，去除光致抗蝕劑圖案層56a。隨后，如圖51所示，在其中形成有連接孔57的絕緣層圖案55a上形成第二氧化物層58和第二金屬層59。此后，如圖5m所示，在第二金屬層59上涂敷光致抗蝕劑60。如圖5n所示，使用其中形成有網橋圖案的光掩模61來曝光光致抗蝕劑60。隨后，如圖5o所示，通過顯影光致抗蝕劑60形成光致抗蝕劑圖案層60a。如圖5p所示，通過使用光致抗蝕劑圖案層60a，利用濕法蝕刻液選擇性地圖案化第二金屬層59和第二氧化物層58，從而形成第二氧化物層圖案58a和網橋圖案59a。此后，如圖5q至圖5v所示，在網橋圖案59a上形成無機或有機絕緣層62，通過涂敷光致抗蝕劑63以及使用光掩模64曝光和顯影，來形成光致抗蝕劑圖案層63a以及無機或有機絕緣層圖案層62a，從而制造其上形成檢測電極和驅動電極的基板。上述的根據本發明的用于觸摸面板的電極結構具有如下的莫爾條紋抑制特性。表1表2表1示出了線寬Wm為1μm到3μm的情況，表2示出了線寬Wm為4μm到5μm的情況。在這些示例中，形成滿足kn+1＝kn+k/kn+2＝kn+1-k的圖案，然后與直線相比，圖案的電阻的增加，將圖案形成精確度和莫爾條紋特性進行比較。在圖案形成度中，圖案形成度與設計值相比低于30％的情況被評價為A，圖案形成度不低于30％且低于70％的情況被評價為B，圖案形成度不小于70％的情況被評價為C。在莫爾條紋特性中，對于每個線寬和每個接觸區域，觀察由圖案的旋轉引起的莫爾條紋現象的發生。將從未發現莫爾條紋現象的情況評價為A，將莫爾條紋現象模糊的情況評價為B，或將莫爾條紋現象明確的情況評價為C。在接觸比為0.9或更大時，圖案顯示為直線形金屬線，莫爾條紋特性被評價為C或更低。此外，考慮到與直線形金屬線相比，電阻增加的特性，圖案優選基于3μm線寬而具有不同的參考接觸比。表達式1表達式2表達式1成為當線寬Wm不大于3μm時應用的參考，表達式2成為當線寬Wm大于3μm時應用的參考。在根據本發明的用于觸摸面板的電極結構及其制造方法中，任一個單元線和與其連續的另一單元線延續，同時改變所述單元線之間的接觸面積從而從整個線寬減小非接觸尺寸值k，其中該非接觸尺寸值k是通過將線寬除以任意實數而獲得的，從而可以抑制莫爾條紋現象的發生，由此提高面板的清晰度。雖然已經結合優選實施方式描述了本發明，但是本發明的實施方式僅用于說明的目的，而不應被解釋為限制本發明的范圍。本領域技術人員將理解，在由所附權利要求書限定的技術精神和范圍內可以對其進行各種改變和修改。[附圖標記說明]10.第一金屬線11.第二金屬線12.交叉區域當前第1頁1 2 3 當前第1頁1 2 3