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經緯像機攝像測量方法及系統的制作方法

文檔序號:6604402閱讀(du):658來源:國知局
專利名稱:經緯像機攝像測量方法及系統的制作方法
技術領域
本發明涉及攝像測量、圖像處理、計算機視覺等技術領域。
背景技術
攝像測量技術是近年來發展起來的具有重大工程實用價值的測量技術,具有高精 度、非接觸以及可實時測量等特點。實施攝像測量時,通常需要已知像機的內外參數。在攝像測量學中,像機模型被近 似成中心透視投影模型,攝像測量常用坐標系及中心透視投影成像關系如圖1所示其中世界坐標系Ow-XwYwZw,也稱全局坐標系,是由用戶任意定義的三維空間坐標 系,通常是將被測物體和攝像機作為一個整體來考慮的坐標系。為了使用方便,此坐標系的 建立較多的考慮應用環境和對象條件。像機坐標系Oc-XcYcZc,中心透視投影的光心和光軸即像機的光心和光軸。像機坐 標系原點取為像機光心,Zc軸與像機光軸重合,且取攝像方向為正向,Xc,Yc軸與圖像坐標系 的X,y軸分別平行。圖像坐標系I-xy,圖像坐標系是建立在像面上的,即在像機坐標系Zc = f的平面 內,f為中心透視投影模型的焦距。此坐標系是以圖像左上角點I為原點,以像素為坐標單 位的直角坐標系。χ,y分別表示該像素在數字圖像中的列數和行數。在中心透視投影模型下,像機的參數可分為像機內參數和外參數兩個部分。像機 內參數包括圖像主點,即像機光軸與像面交點的圖像坐標(cx,cy);等效焦距,即焦距f分別 與C⑶像元的橫、縱尺寸之比(Fx,Fy)。像機外參數是指世界坐標系Ow-XwYwZw與像機坐標系 Oc-XcYcZc之間的關系,它包括三個旋轉角(Ax,AY, Az),即為將世界坐標系變換到與像機坐標 系姿態一致而分別繞三個坐標軸轉過的歐拉角;平移向量T= (TX,TY,TZ),是世界坐標系原 點在像機坐標系中的坐標。像機參數的獲取一般分兩種方式基于已知控制點的解算方式和輔助設備測量方 式。前者即像機參數的標定,這種方式具有攝像系統小巧、裝拆簡單、便于攜帶等優點。但 它需要在像機視場內放置若干世界坐標已知的控制點,標定過程相對繁瑣。而且在某些使 用條件下,如對空中或海上目標的測量情況,難以放置控制點,導致無法標定和測量。后者 如光電經緯儀上的攝像系統,其外參數可由經緯儀提供的方位和俯仰角直接獲得,獲取方 式快速簡單,可對運動目標跟蹤拍攝。但是光電經緯儀要求二維旋轉平臺旋轉中心與攝像 系統光心重合,并且要求經緯儀視準軸與攝像系統光軸重合,即要求同心同軸,這需要精密 的安裝調試才能實現。導致光電經緯儀設備體積大、安裝困難、成本高,一般只在靶場對遠 距離目標跟蹤拍攝時使用。

發明內容
針對上述現有技術存在的缺陷,本發明目的旨在結合上述兩種像機外參數的獲取 方式,取長補短,提供一種小巧、裝拆簡單、便于攜帶、成本較低、像機外參數獲取方式快速
3簡單的經緯像機攝像測量方法及系統。本發明采取的具體技術方案是,一種經緯像機攝像測量方法,包括如下步驟1)將像機安裝于二維旋轉平臺之上,組成經緯像機;2)將經緯像機對準布置了控制點的區域,標定經緯像機的內參數及在初始位置的 外參數,再標定二維旋轉平臺與像機之間的系統差Ht。,所述系統差包括二維旋轉平臺與像 機之間的偏心距和角度偏差;;3)修正像機外參數完成標定后,轉動二維旋轉平臺使像機對準待測目標,根據 步驟2中得到的像機與二維旋轉平臺間的系統差Ht。、記錄下二維旋轉平臺的兩個轉動角 度,即方位角和俯仰角,結合步驟2中標定的初始位置像機的外參數,計算出像機當前位置 的外參數;4)通過兩臺經緯像機對待測目標進行拍攝,基于交匯測量原理,結合前述步驟獲 取的像機外參數,實時計算出待測目標的絕對位姿和運動參數,實現對待測目標的三維測量。所述步驟2中內外參數的標定及像機與二維旋轉平臺間的系統差的計算步驟如 下(1)先在初始位置通過經緯像機對已知世界坐標的控制點成像來標定得到像機內 參數和初始位置的外參數;(2)利用上一步中得到的像機內參數,使二維旋轉平臺在水平面內任意旋轉不小 于5°的角度,在轉動后的位置處記錄二維旋轉平臺的方位角并標定此時像機的外參數;(3)再根據第一步中得到的像機內參數,使二維旋轉平臺在鉛垂面內任意旋轉不 小于5°的角度,在轉動后的位置處記錄二維旋轉平臺的俯仰角并標定此時像機的外參 數;(4)根據前三步中每次標定得到的像機外參數得出每個位置上像機坐標系和世界 坐標系之間的旋轉平移單應矩陣Hwcd ;利用每次旋轉的方位角和俯仰角,確定每次旋轉后, 二維旋轉平臺坐標系前后兩個位置處之間的旋轉平移單應矩陣Htt ;利用兩次旋轉得到的 旋轉平移單應矩陣以及兩個旋轉平移單應矩陣Htt,結合公式Hwc;i, = HteHttHwti,求解得到像 機與二維旋轉平臺的系統差Ht。。作為具體實施方案,所述步驟3中像機當前位置的外參數的計算過程為根據像 機與二維旋轉平臺的系統差Ht。,二維旋轉的方位角和俯仰角得到的旋轉平移單應矩陣Htt, 以及初始位置像機外參數Hwcd,根據公式Hwc;i, = HtcHttHtc^1Hwci,即可得到像機在當前位置的 外參數Hwcd,。相應的,本發明也提供了一種經緯像機攝像測量系統,包括由像機和二維旋轉平 臺構成的經緯像機、網卡、路由器和三維測量PC機,其中經緯像機經路由器和網卡接入三 維測量PC機。為了進一步提高所述經緯像機攝像測量系統的實時性,上述網卡和路由器優選采 用千兆網卡和千兆路由器。所述像機為非量測像機。本發明的設計原理和工作過程詳細描述如下本發明所述經緯像機是由二維旋轉平臺和固定于平臺上的像機組成。所述經緯像機并不要求二維與像機同心同軸。二維旋轉平臺可以選用經緯儀,也可用其他能夠提供方 位和俯仰轉角的儀器代替。在攝像測量前,由于二維旋轉平臺與像機不同心同軸,兩者的外參數不相同,存在 系統差,即兩者之間存在偏心距和角度偏差。測量前首先標定此系統差,測量過程中需利用 系統差修正消除安裝引起的位姿偏差。具體方法是首先在易于標定場合先安裝像機,將經 緯像機對準容易布置控制點的區域,并標定像機,解算像機與二維旋轉平臺間的系統差。然 后轉動二維旋轉平臺,使像機對準待測目標并修正此時像機的外參數;接著拍攝目標圖像, 基于交匯測量原理實時解算目標的位置、姿態和速度等運動參數,最后傳輸處理結果并顯 示圖形。在本發明中提出了像機與二維旋轉平臺間的位姿偏差的具體解算方法調整二 維旋轉平臺,使像機對標定架所成的像位于圖像的中心區域,在此初始位置記錄轉角值并 標定像機獲得像機的外參數;使二維旋轉平臺在水平面內任意旋轉,要求轉動角度不小于 5°,且標定架不超出視場,在此位置記錄水平轉角值并標定像機獲得像機的外參數;使二 維旋轉平臺在鉛垂面內任意旋轉,要求轉動角度不小于5°,且標定架不超出視場,在此位 置記錄俯仰轉角值并標定像機獲得像機的外參數;根據上述二維旋轉平臺兩次相對于初始 位置的轉動角度和像機三次標定的外參數,計算出像機與二維旋轉平臺間的系統差。所述二維旋轉平臺提供角度的方式可分為能通過數據線實時傳輸給計算機的電 子傳入式和人工讀取方式。對于電子傳入式二維旋轉平臺,像機固裝在二維旋轉平臺上可 對目標進行全場實時跟蹤,解決了固定不動的像機視場有限的難題。如果系統差已修正,那 么每一時刻像機的外參數可根據它和二維旋轉平臺的兩個轉角,對初始時刻像機外參數修 正得到,這有效解決了難以安放控制點時像機無法標定的難題。本發明涉及的公式都為歐氏空間下的三維坐標變換,因此統一寫成如下形式
(1)式中Xp、Xq表示同名點在三維坐標系p、q中的規范齊次坐標,Hpa表示同名點的Xp 坐標向Xq坐標變換的旋轉平移單應矩陣。Rm表示旋轉矩陣;tM表示平移向量,為三維坐標 系P的原點在三維坐標系q中的坐標值。各坐標系間的關系如圖3所示。世界坐標系w由標定架定義。任意位置的二維旋 轉平臺坐標系都是以其旋轉中心為原點,以其主軸方向為Z軸,以在水平面內且與Z軸垂直 的軸為Y軸,由右手定則確定χ軸。像機固連在二維旋轉平臺的主軸上,像機坐標系以光心為原點,以光軸為Z軸,X, Y軸與圖像的兩坐標軸對應平行。將二維旋轉平臺的初始位置定為位置1,然后將二維旋轉平臺轉動到下一位置定 為位置2,坐標系分別用1、2下標表示。假設像機在位置1和位置2都能對標定架成像,在 這兩個位置分別對像機標定,像機的外參數建立了世界坐標系向像機坐標系的轉換關系, 如下式Xcl = HwclXw (2)Xc2 = Hwc2Xw (3)其中Hwcl為像機在位置1的外參數,Hwc2為像機在位置2的外參數。
像機與二維旋轉平臺間的系統差Ht。固定不變,如下式Xcl = HtcXu (4)Xc2 = HtcXt2(5)二維旋轉平臺兩個不同位置之間的相對位姿可由其提供的兩個旋轉角度的變化 值,即方位角及俯仰角的變化值計算得出。關系式為Xt2 = HttXtl(6)其中Htt為二維旋轉的方位角和俯仰角得到的旋轉平移單應矩陣。從式⑵和式(3)中消去Xw得到兩個不同位置所定義的像機坐標系間轉換關系Xc2 = Hwc2Hwcl-1Xcl(7)從式(4)和式(6)中消去Xtl得到Xt2 = HttHtcT1Xcl(8)將式(8)代入式(5)得Xc2 = HtcHttHtcT1Xcl ⑶比較式(7)和(9),由于兩式對所有空間點都成立,所以有Hwc2Hwcl-1 = HtcHttHt;1 (10)記為如下形式HtcHa = HbHtc(11)式中Ha = HtPHb = Hwc2Hwcl-^由式⑴和分塊對角矩陣的性質由式(11)得到旋轉矩陣之間關系RtcRa = RbRtc(12)根據方程兩邊對應元素相等可寫出9個方程,表示為(A-B)r = 0(13)式中r是由Rt。元素按行形式組成的9維矢量,A是分塊對角矩陣,A = diag(RaT, RaT,RaT),B 是分塊矩陣,每塊為 Bij = RbijE3X3-根據式(!3)對 A-B 進行奇異值分解可線性求解Rt。。由式(11)得到關于平移向量tt。的關系式Rtcta+ttc = Rbttc+tb(14)二維旋轉平臺的相對運動只有旋轉沒有平移,則ta = 0,上式變成如下形式(E3x3-Rb) ttc = tb(15)由此可知求解tt。與求解Rte是獨立的。如前所述,理論上轉動一次二維旋轉平臺,根據轉動前和轉動后兩個位置對像機 標定獲取的像機外參數和二維旋轉平臺提供的兩個轉角,可解算出像機與二維旋轉平臺間 的系統差。但是在實際解算中發現,式(15)中的系數矩陣常常是奇異或接近奇異的,導致 無解或解的誤差很大。因此,利用二維旋轉平臺的兩次轉動,通過式(13)和式(15)超靜定 求解像機與二維旋轉平臺間的系統差,提高解的穩定性。須指出,兩次相對運動并不要求都 在同一個世界坐標系中完成。Rtc的自由度為3,且是單位正交矩陣,即它可由三個旋轉角或者Cayley變換來表 示,但不是線性的。前述部分已提到線性求解的R不一定是單位正交陣,需要在2-范數意義
下求解最逼近i的單位正交矩陣g,即最小化目標函數||δ-R||。若奇異值分解得g =udvt,則 R 二UVT,具體請參考相關文獻(Z.Zhang.A flexible new technique for camera calibration. IEEETransactions on Pattern Analysis and Machine Intelligence,(一 種新的靈活的像機標定技術,IEEE模式分析與機器智能匯刊)22 (11) : 1330-1334,2000.詳 見文中附錄3。由g得到三個旋轉角作為平差優化的初值,將旋轉角和平移向量共六個參數 代入式(11)中進行平差優化求精。世界坐標系到二維旋轉平臺位置1坐標系的轉換公式為Xtl = HwtlXw (17)將式(17)依次代入式(6)和式(5)得Xc2 = HtcHttHwtlXw (18)比較式(18)和式(3),因為對所有點成立,所以有Hwc2 = HtcHttHwtl(19)式(19)表明像機在位置2的外參數可根據像機與二維旋轉平臺的系統差Ht。、由 二維旋轉平臺的兩個轉角得出的Htt、二維旋轉平臺位置1坐標系的像機外參數Hwtl計算得 到。精密光電經緯儀的像機與二維旋轉平臺同心同軸,像機與二維旋轉平臺的系統差為Htc = E4x4(20)代入式(19)得Hwc2 = HttHwtl(21)很顯然,精密光電經緯儀只是本發明所述經緯儀攝像系統的一個特例。相對于精 密光電經緯儀,本發明方法及系統的外參數獲取公式(19)增加了像機與二維旋轉平臺的 系統差的解算。Hwtl也可由下面方法得到從式(2)和式⑷消去Xcl得Xtl = Htc-1HwclXw(22)比較式(17)和式(22),因為對所有點成立,所以有Hwtl = Htc-1Hwcl(23)即為Hwtl的計算公式。將式(23)代入式(19)Hwc2 = HtcHttHtc-1Hwcl (24)式(24)表明像機在位置2的外參數可根據像機與二維旋轉平臺的系統差、二維旋 轉平臺的兩個轉角,對像機在位置1的外參數修正得到。綜上所述,本發明所述經緯像機攝像測量系統及其測量方法與現有技術中的光電 經緯儀對比,所具有的優點有1)本發明采用的像機可以是非量測型的CXD像機,其內參數可以通過標定方法得 到,相對于現有技術中必須采用量測型像機的光電經緯儀而言,具備體積小、組合簡便、成 本低等特點;2)本發明能在不滿足二維旋轉平臺與像機間同心同軸的安裝條件的情形下,也能 達到準確精密的測量效果;3)實時性上,光電經緯儀一般是將跟蹤拍攝目標的過程通過膠片或數字圖像的方 式記錄下來,然后事后通過判讀儀判讀目標脫靶量,并交會得到目標位姿;而本發明是一個 實時的交會測量目標的系統。


圖1是世界坐標系Ow-XwYwZw、像機坐標系Oc-XcYcZc和圖像坐標系I-xy的定義示意 圖;圖2為像機與二維旋轉平臺固連示意圖;圖3為像機與二維旋轉平臺之間系統差標定過程中各坐標系的關系示意圖;圖4是本發明所述經緯像機攝像測量系統的結構示意圖。在附圖中1-由像機和二維旋轉平臺構成的經緯像機 2-路由器 3-網卡 4-測量分機 5-測量主機6-像機7-二維旋轉平臺的主軸
具體實施例方式背景技術所述光電經緯儀攝像測量系統中,二維旋轉平臺旋轉中心與攝像系統光 心重合,并且其平臺的兩個旋轉軸與攝像系統光軸垂直,即同心同軸,其采用的是量測型像 機,即其像機的內參數在出廠時就通過光學檢校精確已知,成本較高。而本實施例所述經緯像機攝像測量系統中,二維旋轉平臺和攝像系統并沒有通過 精密的裝配保證二維旋轉平臺和像機同心同軸,且經緯像機的攝像系統采用的是非量測型 像機,像機內參數事先是未知的,需要通過標定得到,因此,由于其采用的是非量測型像機, 使整個系統的成本大大降低。所述經緯像機攝像測量系統中,像機與二維旋轉平臺之間系統差標定過程中各坐 標系的關系如圖3所示其中世界坐標系w由標定架定義。任意位置的二維旋轉平臺坐標系都是以其旋轉 中心為原點,以其主軸方向為Z軸,以在水平面內且與Z軸垂直的軸為Y軸,由右手定則確 定X軸。像機6固連在二維旋轉平臺的主軸7上,像機坐標系以光心為原點,以光軸為Z軸, 其X,Y軸與圖像的兩坐標軸對應平行。轉動前和轉動后分別用下標1,2表示。下述內容以傳統測量方法中難以放置控制點時無法標定情形下的測量,如對空中 運動目標的運動參數進行測量為例,對本發明實施方法和步驟進行詳細描述第一步,安裝像機。將像機固定安裝在二維旋轉平臺上,組合成經緯像機,進而形成如圖4所示的經 緯像機攝像測量系統,其包括由像機和二維旋轉平臺構成的經緯像機1、千兆網卡3、千兆2 路由器和三維測量PC機,該三維測量PC機中包括測量分機4和測量主機5 ;其中經緯像機 1均經千兆路由器2和千兆網卡3接入測量分機4,所述多個測量分機4 一并接入測量主機 5的信號輸入端。本實施例中像機采用的是非量測像機。其中非量測像機與二維旋轉平臺 沒有同心同軸。安裝完成后,像機對準地面上放置的標定物。可根據任務需要選擇一臺或 多臺經緯像機,如圖4所示。本實施例采用兩臺經緯像機,以實現后續的交會測量。第二步,標定攝像機并解算攝像機與二維旋轉平臺間的系統差。安裝完經緯像機后,對經緯像機的內外參數進行標定。經緯像機的標定屬于攝像 測量的范疇,有多種公知的標定方法,例如傳統標定方法中的兩步法,具體可參考由邱茂 林、馬頌德、李毅著的計算機視覺中攝像機定標綜述,自動化學報的2000年1月第26卷第
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像機與二維旋轉平臺間的系統差利用本發明提供的方法來解算。較為簡單的步驟 設計為1)調整二維旋轉平臺,使像機對標定架所成的像位于圖像的中心區域,在此初始 位置記錄轉角值并標定像機獲得像機的外參數;2)使平臺在水平面內任意旋轉,要求轉動角度不小于5°,且標定架不超出視場。 在此位置記錄水平轉角值并標定像機獲得像機的外參數;3)使平臺在鉛垂面內任意旋轉,要求轉動角度不小于5°,且標定架不超出視場。 在此位置記錄俯仰轉角值并標定像機獲得像機的外參數。4)根據二維旋轉平臺兩次相對于初始位置的轉動角度和像機三次標定的外參數, 解算像機與二維旋轉平臺間的位姿偏差。第三步,修正攝像機外參數。在地面上完成標定后,轉動二維旋轉平臺使像機對準空中目標,根據像機與二維 旋轉平臺間的位姿偏差、記錄下的兩個轉動角度、第二步標定中初始位置像機的外參數,利 用發明內容部分的公式(24)計算像機當前位置的外參數。第四步,拍攝目標圖像并實時解算目標的絕對位姿和速度等運動參數。所有像機均采用連續拍攝的工作模式對目標進行拍攝。對拍攝的圖像進行目標捕 獲、識別、跟蹤鎖定等處理后,實時得到目標在不同攝像機圖像上的位置,并根據修正后的 像機參數,實時交會解算目標的位置、姿態和速度等運動參數。對于大范圍運動目標的實時測量,需要連續轉動二維旋轉平臺進行目標捕獲。因 此,平臺每一時刻的轉動角度都必須已知,以進行像機外參數的實時修正。此種情況需要二 維旋轉平臺具備轉動角度的實時反饋功能。在完成第一、二步后,不斷重復第三、四步,即可 實現對目標的全場實時連續測量。當經緯像機整體移動到另一個位置后,像機內參數不變,像機外參數改變,但像機 與二維旋轉平臺間的系統差不變,不需要進行第一步與第二步。利用全站儀等測量手段可 以標定二維旋轉平臺的外參數。不需要再次設置控制點進行像機的標定,利用公式(19) Hwc2 = Ht。HttHwtl,可計算得到像機的外參數,與光電經緯儀類似。
權利要求
一種經緯像機攝像測量方法,其特征是,包括如下步驟1)將像機安裝于二維旋轉平臺之上,組成經緯像機;2)將經緯像機對準布置了控制點的區域,標定經緯像機的內參數及在初始位置的外參數,再標定二維旋轉平臺與像機之間的系統差Htc,所述系統差包括二維旋轉平臺與像機之間的偏心距和角度偏差;3)修正像機外參數完成標定后,轉動二維旋轉平臺使像機對準待測目標,根據步驟2中標定得到的像機與二維旋轉平臺間的系統差Htc、記錄下二維旋轉平臺的兩個轉動角度,即方位角和和俯仰角,結合步驟2中標定的初始位置像機的外參數,計算出像機在當前位置的外參數;4)通過兩臺經緯像機對待測目標進行拍攝,基于交匯測量原理,結合前述步驟獲取的像機外參數,實時計算出待測目標的絕對位姿和運動參數,實現對待測目標的三維測量。
2.根據權利要求1所述經緯像機攝像測量方法,其特征是,所述步驟2)中內外參數的 標定及像機與二維旋轉平臺間的系統差的計算步驟如下(1)先在初始位置通過經緯像機對已知世界坐標的控制點成像來標定得到像機內參數 和初始位置的外參數;(2)利用上一步中得到的像機內參數,使二維旋轉平臺在水平面內任意旋轉不小于 5°的角度,在轉動后的位置處記錄二維旋轉平臺的方位角并標定像機在當前位置的外參 數;(3)再根據第一步中得到的像機內參數,使二維旋轉平臺在鉛垂面內任意旋轉不小于 5°的角度,在轉動后的位置處記錄二維旋轉平臺的俯仰角并標定像機在當前位置的外參 數;(4)根據前三步中每次標定得到的像機外參數得出每個位置上像機坐標系和世界坐標 系之間的旋轉平移單應矩陣Hwci ;利用每次旋轉的方位角和俯仰角,確定每次旋轉后,二 維旋轉平臺坐標系前后兩個位置處之間的旋轉平移單應矩陣Htt ;利用兩次旋轉得到的旋 轉平移單應矩陣以及兩個旋轉平移單應矩陣Htt,結合公式Hwc;i, = HteHttHwti,求解得到像機 與二維旋轉平臺的系統差Ht。。
3.根據權利要求1或2所述經緯像機攝像測量方法,其特征是,所述步驟3)修正像機 外參數中,像機當前位置的外參數的計算過程為根據像機與二維旋轉平臺的系統差Ht。, 二維旋轉的方位角和俯仰角得到的旋轉平移單應矩陣Htt,以及初始位置像機外參數Hwcd,根 據公式Hwc;i, = HtcHttHtcT1Hwcd,即可得到像機在當前位置的外參數Hwcd,。
4.一種經緯像機攝像測量系統,其特征是,包括由像機和二維旋轉平臺構成的經緯像 機、網卡、路由器和三維測量PC機,其中經緯像機依次經路由器和網卡接入三維測量PC機。
5.根據權利要求4所述經緯像機攝像測量系統,其特征是,所述網卡和路由器分別采 用的是千兆網卡和千兆路由器。
6.根據權利要求4或5所述經緯像機攝像測量系統,其特征是,所述像機為非量測像機。
全文摘要
本發明公開了一種經緯像機攝像測量方法及系統。其中經緯像機攝像測量方法首先將像機安裝于二維旋轉平臺之上,組成經緯像機,該經緯像機經網絡通訊模塊與主機連接,構成了經緯像機攝像測量系統;然后,將經緯像機對準布置了控制點的區域,標定經緯像機的內參數及在初始位置的外參數,并進一步得出像機與二維旋轉平臺間的系統差Htc;再將經緯像機對準待測目標進行拍攝,并利用二維旋轉平臺提供的方位角和俯仰角實時修正攝像機外參數;最后利用實時得到的攝像機外參數和之前已標定的攝像機內參數基于交匯測量原理,實時計算出待測目標的絕對位姿和運動參數,實現對待測目標的三維測量。本發明所述經緯像機攝像測量方法及系統體積小巧、裝拆簡單、便于攜帶、成本較低,且像機外參數獲取方式快速簡單。
文檔編號G06T7/00GK101900552SQ20101020427
公開日2010年12月1日 申請日期2010年6月21日 優先權日2010年6月21日
發明者于起峰, 周劍, 張小虎, 朱肇昆, 苑云 申請人:中國人民解放軍國防科學技術大學
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