用于檢驗部件的支撐裝置的制造方法
【技術領域】
[0001]本發明涉及用于測量或檢驗具有小尺寸的部件、特別是用于對旋轉或樞轉部件定心的支撐裝置。本發明的特定應用領域涉及手表機構部件的測量或檢驗。
【背景技術】
[0002]鐘表心軸和輪組的測量必須通過在不造成任何測量不確定性的情況下定位樣品來進行。常規地，若干測量技術用來檢驗移動部件的所有幾何形狀，這些檢驗操作在合格人員和材料方面需要大量的資源。
[0003]目視檢驗方法可用來測量幾種待檢驗的幾何形狀，但這些方法的困難在于確保待檢驗表面不通過將零件保持在位而被遮擋。此外，為了支撐旋轉的鐘表零件，旋轉軸線在每個零件的旋轉期間必須連續地保持平衡，而沒有顯著的振動。
[0004]迄今為止使用的常規測量技術不能在輪組心軸的兩個端部之間的徑向距離上以小于100微米的精度測量輪組的傾斜誤差。
[0005]本發明的目的是提供一種用于檢驗或測量具有毫米尺度或更小的小尺寸的部件的支撐裝置，該裝置是實施起來準確、可靠而經濟的。
[0006]本發明的特定目的是提供一種用于通過允許觀察小尺寸部件的設備檢驗或測量的支撐裝置，該裝置是實施起來準確、可靠而經濟的。
[0007]本發明的特定目的是提供一種用于通過允許觀察小尺寸的鐘表機構部件的設備檢驗或測量的支撐裝置，該裝置是實施起來準確、可靠而經濟的。
[0008]本發明的特定目的是提供一種包括支撐裝置的測量和檢驗設備，該支撐裝置用于通過允許觀察諸如鐘表機構部件的小尺寸部件的設備檢驗或測量，并且是實施起來準確、可靠而經濟的。
[0009]有利的是提供一種具有非常低的旋轉構件磨損的一體化了軸向軸承的支撐裝置。
[0010]有利的是提供一種具有高效率的一體化了軸向軸承的支撐裝置。
[0011]有利的是提供一種緊湊而穩固的支撐裝置。
[0012]有利的是提供一種支撐裝置，其確保將由不合格的操作者測量或檢驗的零件能被迅速地設定到位。
[0013]有利的是提供一種能夠在測量期間將旋轉的零件保持在穩定位置的支撐裝置。
[0014]有利的是提供一種支撐裝置，其能夠在靜止和動態尺寸被檢驗時保證旋轉零件的旋轉軸線的取向。
[0015]有利的是提供一種測量設備，其能夠接受具有輪和小齒輪的各種成形零件(例如，長的、短的或梯級的心軸)和其它鐘表機構部件。

【發明內容】

[0016]本發明的目的通過根據權利要求1所述的支撐裝置來實現。從屬權利要求描述了本發明的有利方面。
[0017]本說明書描述了一種支撐裝置，該裝置包括具有主體的支撐件、布置在支撐件的表面上的工作表面、安裝在支撐件的外殼中的場集中元件、以及取決于變型的磁場和/或電場發生器。場集中元件包括基座部分和布置成靠近工作表面的場集中部分，該基座部分包括在其周邊處具有平均寬度或直徑D2的軸向基座表面，該平均寬度或直徑D2大于在軸向端表面上的通量集中部分的直徑D1。基座部分由彎曲表面連接到通量集中部分。
[0018]集中元件的彎曲表面優選地具有連續的形狀。在一個變型中，彎曲表面具有環形圓紋曲面的(復曲面的，toric)形狀，該形狀具有恒定的曲率半徑。在另一個有利的變型中，彎曲表面具有環形圓紋曲面的形狀，該形狀具有可變的曲率半徑，彎曲部分具有布置在通量集中部分側上的大的半徑。彎曲表面可以有利地相切地接合通量集中部分。通量集中可以有利地包括圓柱形部段和垂直于支撐裝置的軸線的平面或大致平面的軸向端表面。
[0019]在一個特定實施例中，集中元件的軸向端表面的直徑包括在0.15和0.6毫米之間，基座部分的直徑或寬度包括在2和3毫米之間，并且彎曲表面的半徑包括在1.5和4毫米之間。
[0020]在一個特定實施例中，場集中元件的材料為磁性軟鋼，其由等于或大于100的最大磁導率mK和等于或大于5kA/m的矯頑磁場He來表征。
[0021 ] 在一個特定實施例中，場集中元件的材料為電介質，其介電強度等于或大于1kV/mmD
[0022]在一個特定實施例中，場發生器是具有超過I特斯拉的飽和磁場的稀土永磁體。
[0023]在一個實施例中，場發生器可包括電容器。
[0024]場發生器可安裝在形成于支撐件主體中的腔體中，場發生器鄰接或靠近場集中元件的一部分的軸向基座表面。
[0025]工作表面的材料可有利地選自具有高的硬度和良好的摩擦學性質的材料，包括金剛砂、金剛石和其它貴重的石頭和陶瓷材料。
[0026]工作表面可形成組裝在封閉外殼的端壁上的端件的一部分。外殼可包括圓柱形壁，并且端壁大致呈圓盤形式，該圓盤具有用于固定端件的中心孔。
[0027]本發明的目的由根據權利要求15所述的用于測量或檢驗小尺寸零件的器械來實現。
[0028]這里描述了一種測量或檢驗器械，其包括承載第一支撐裝置和第二互補的支撐裝置的框架，第一支撐裝置包括:具有主體的支撐件、布置在支撐件的表面上的工作表面、安裝在支撐件的外殼中的場集中元件、以及取決于變型的磁場和/或電場發生器。場集中元件包括基座部分和布置成靠近工作表面的場集中部分，基座部分包括在其周邊處具有平均寬度或直徑的軸向基座表面，平均寬度或直徑大于在軸向端表面上的通量集中部分的直徑，兩個支撐裝置在相同的軸線A上對齊，支撐裝置相對于彼此以相對方式取向并且構造成在支撐裝置之間接納待測量或待檢驗的構件。
[0029]框架可有利地包括滑動裝置，用于改變支撐裝置之間的距離，以便測量或檢驗不同長度的構件。
[0030]在一個有利的實施例中，器械構造成使得待檢驗的構件的第一端部鄰靠支撐裝置中的第一個，另一端部通過小的空間與互補的支撐裝置間隔開。該構型通過使由第一支撐裝置施加的磁性和/或電吸引力比由互補的支撐裝置所施加的磁性和/或電吸引力大來獲得。
[0031]該器械的支撐裝置可有利地包括上述裝置的一個或多個特征。
[0032]本發明的目的也由光學測量或光學檢驗設備實現，其包括光學攝像機并且并入測量或檢驗器械。
【附圖說明】
[0033]本發明的其它有利的目的和方面將在閱讀權利要求書以及下文中的【具體實施方式】和附圖之后顯而易見，在附圖中:
圖1是根據本發明的一個實施例的測量器械的視圖。
[0034]圖2a和圖2b是根據本發明的一個實施例的支撐裝置的剖視圖和前視圖。
[0035]圖3a是根據本發明的一個實施例的支撐裝置的場集中元件的透視圖。
[0036]圖3b是根據本發明的一個實施例的支撐裝置的場集中元件的變型的側視圖。
[0037]圖4a、4b是由根據本發明的一個實施例的測量或檢驗設備的光學攝像機在待檢驗構件的檢查期間拍攝的照片，圖4a示出整個構件，而圖4b示出構件的一個端部的詳細視圖。
【具體實施方式】
[0038]參看附圖，根據本發明的一個實施例的測量器械I包括承載支撐裝置2和互補的支撐裝置4的框架9，這兩個支撐裝置在相同的軸線A上對齊，支撐裝置相對于彼此以相對的方式取向并且構造成在裝置之間接納待測量或待檢驗的構件3。框架9可包括具有其它可移動元件的滑動裝置以用于改變兩個支撐裝置2和4之間的距離，以使得不同長度的構件能夠被測量或檢驗。
[0039]支撐裝置構造成集中和導向磁場、或在一個變型中電場、或在一個變型中電場和磁場的組合，以便根據一個變型通過將靜磁力和/或靜電力施加到所述構件而對待檢驗或待測量的構件3定心。
[0040]如圖4a所示，在一個優選的實施例中，測量器械構造成使得待檢驗的構件3的心軸5的第一端部7a鄰靠支撐裝置中的一個2，另一端部7b通過小的空間與互補的支撐裝置4的表面間隔開。該構型可通過使由支撐裝置2施加的靜磁和/或靜電吸引力(取決于變型)比