本(ben)實用新型涉及(ji)光(guang)(guang)伏組件(jian)技(ji)術領域，尤其(qi)涉及(ji)一(yi)種光(guang)(guang)伏組件(jian)用硅膠測試(shi)樣品制備(bei)裝(zhuang)置。

背景技術：

單組(zu)(zu)份(fen)硅(gui)(gui)膠廣泛用于(yu)(yu)光(guang)伏組(zu)(zu)件(jian)中(zhong)，用于(yu)(yu)將接線(xian)盒粘接到光(guang)伏組(zu)(zu)件(jian)上，硅(gui)(gui)膠的(de)優劣(lie)直接影(ying)響到光(guang)伏組(zu)(zu)件(jian)的(de)長期可靠性，因此評估(gu)硅(gui)(gui)膠的(de)性能顯得非常必要(yao)，在評估(gu)性能時(shi)，一般會先制備(bei)硅(gui)(gui)膠的(de)測(ce)試樣品用于(yu)(yu)性能測(ce)試。

舉例來說，制(zhi)備兩(liang)份單(dan)組(zu)份硅膠(jiao)的(de)(de)薄(bo)片測(ce)試樣(yang)(yang)品，分別用于力學(xue)性能測(ce)試(樣(yang)(yang)品厚度(du)：2mm)和電學(xue)性能測(ce)試(樣(yang)(yang)品厚度(du)：1mm)。根(gen)據現有(you)的(de)(de)制(zhi)樣(yang)(yang)方法(fa)，制(zhi)作(zuo)出(chu)的(de)(de)大多(duo)數薄(bo)片樣(yang)(yang)品會(hui)出(chu)現氣(qi)泡、厚度(du)不均等缺陷(xian)，從而導致樣(yang)(yang)品合格較(jiao)低且制(zhi)樣(yang)(yang)操作(zuo)不便(bian)，進而影響測(ce)試的(de)(de)效果(guo)。

技術實現要素：

鑒于(yu)此(ci)，本實用新型所要解決的技術問(wen)題在于(yu)提供一種光伏(fu)組(zu)件用硅(gui)(gui)膠測試樣品制備裝置，以改善硅(gui)(gui)膠樣品的成型品質。

為解(jie)決(jue)上(shang)(shang)述(shu)技術(shu)問(wen)題，本實用(yong)新型采(cai)用(yong)如下技術(shu)方(fang)案(an)：一種(zhong)光(guang)伏(fu)組件用(yong)硅膠測試(shi)樣品(pin)制(zhi)備裝置，包括上(shang)(shang)層(ceng)(ceng)漆(qi)(qi)(qi)布、位于(yu)上(shang)(shang)層(ceng)(ceng)漆(qi)(qi)(qi)布下方(fang)的(de)(de)下層(ceng)(ceng)漆(qi)(qi)(qi)布、設于(yu)上(shang)(shang)層(ceng)(ceng)漆(qi)(qi)(qi)布和下層(ceng)(ceng)漆(qi)(qi)(qi)布之(zhi)間(jian)的(de)(de)墊(dian)塊及蓋于(yu)所述(shu)上(shang)(shang)層(ceng)(ceng)漆(qi)(qi)(qi)布上(shang)(shang)的(de)(de)升降壓板，所述(shu)上(shang)(shang)層(ceng)(ceng)漆(qi)(qi)(qi)布和下層(ceng)(ceng)漆(qi)(qi)(qi)布之(zhi)間(jian)形成有容納硅膠和墊(dian)塊的(de)(de)壓制(zhi)空間(jian)。

進一(yi)步地，所述(shu)光伏組件用單(dan)組份(fen)硅膠測(ce)試樣品的(de)制備裝置還(huan)包括外(wai)擋(dang)板(ban)，所述(shu)外(wai)擋(dang)板(ban)豎直(zhi)設置于所述(shu)上層漆(qi)布和下層漆(qi)布的(de)周(zhou)邊，且外(wai)擋(dang)板(ban)設有一(yi)對側板(ban)及自所述(shu)側板(ban)向內垂直(zhi)翻折的(de)一(yi)對導向板(ban)。

進一步地，所(suo)述(shu)升降(jiang)壓板(ban)為平板(ban)狀，其壓于所(suo)述(shu)上層(ceng)漆布的表(biao)面(mian)，且所(suo)述(shu)升降(jiang)壓板(ban)的表(biao)面(mian)設置有(you)一對氣(qi)缸。

進一步地(di)，所述氣(qi)缸位于所述外(wai)擋板的內(nei)側(ce)。

進一步(bu)地(di)，所述導向板抵擋于所述下層漆布、上層漆布的一端。

與(yu)現(xian)有技(ji)術(shu)相比(bi)，本(ben)實用新(xin)型通過升降壓(ya)(ya)板、上層漆(qi)布和(he)氣缸(gang)的設(she)置，可平穩(wen)的施(shi)壓(ya)(ya)在硅(gui)(gui)(gui)膠(jiao)(jiao)上，最終得到厚度均(jun)勻、無(wu)氣泡的薄片(pian)硅(gui)(gui)(gui)膠(jiao)(jiao)樣(yang)品，提高了(le)硅(gui)(gui)(gui)膠(jiao)(jiao)樣(yang)品的品質(zhi)，有利于后期的測試。

附圖說明

圖(tu)1為本實用(yong)(yong)新型所(suo)述光伏組件用(yong)(yong)硅膠測試樣(yang)品制備裝置的結構示意圖(tu)。

具體實施方式

這里(li)將詳細地對示(shi)例(li)(li)性實(shi)(shi)施(shi)例(li)(li)進行說明，其示(shi)例(li)(li)表示(shi)在附(fu)圖中(zhong)。下(xia)(xia)面的(de)描(miao)述(shu)涉及(ji)附(fu)圖時，除非另有(you)(you)表示(shi)，不(bu)同附(fu)圖中(zhong)的(de)相(xiang)(xiang)同數字表示(shi)相(xiang)(xiang)同或相(xiang)(xiang)似(si)的(de)要素。以下(xia)(xia)示(shi)例(li)(li)性實(shi)(shi)施(shi)例(li)(li)中(zhong)所描(miao)述(shu)的(de)實(shi)(shi)施(shi)方式并(bing)不(bu)代表與本實(shi)(shi)用新型相(xiang)(xiang)一致的(de)所有(you)(you)實(shi)(shi)施(shi)方式。相(xiang)(xiang)反，它們僅(jin)是與如所附(fu)權利要求書中(zhong)所詳述(shu)的(de)、本實(shi)(shi)用新型的(de)一些方面相(xiang)(xiang)一致的(de)裝置(zhi)和方法的(de)例(li)(li)子。

在(zai)本實(shi)用(yong)新型(xing)使用(yong)的(de)(de)(de)(de)術(shu)語是僅僅出于描述特定實(shi)施例的(de)(de)(de)(de)目的(de)(de)(de)(de)，而非旨在(zai)限(xian)制(zhi)本實(shi)用(yong)新型(xing)。在(zai)本實(shi)用(yong)新型(xing)和(he)所(suo)附權利要求書中所(suo)使用(yong)的(de)(de)(de)(de)單數形式的(de)(de)(de)(de)“一種(zhong)”、“所(suo)述”和(he)“該”也旨在(zai)包(bao)括多(duo)(duo)數形式，除(chu)非上下文清楚地表示(shi)其他含(han)義。還應(ying)當理解，本文中使用(yong)的(de)(de)(de)(de)術(shu)語“和(he)/或(huo)”是指(zhi)并(bing)包(bao)含(han)一個或(huo)多(duo)(duo)個相關聯的(de)(de)(de)(de)列出項(xiang)目的(de)(de)(de)(de)任何或(huo)所(suo)有可能組合。

如圖1所示，本實用新型(xing)提供一種(zhong)光伏(fu)組(zu)件用硅膠測試樣品制備(bei)裝置(zhi)，包(bao)括外擋(dang)板10、位(wei)(wei)于(yu)所述(shu)(shu)(shu)外擋(dang)板10內側的(de)上(shang)(shang)層(ceng)(ceng)漆布(bu)20、位(wei)(wei)于(yu)上(shang)(shang)層(ceng)(ceng)漆布(bu)20下方的(de)下層(ceng)(ceng)漆布(bu)30、設于(yu)上(shang)(shang)層(ceng)(ceng)漆布(bu)20和下層(ceng)(ceng)漆布(bu)30之間的(de)墊(dian)塊40、蓋于(yu)所述(shu)(shu)(shu)上(shang)(shang)層(ceng)(ceng)漆布(bu)20上(shang)(shang)的(de)升降壓板50及位(wei)(wei)于(yu)所述(shu)(shu)(shu)墊(dian)塊40下方的(de)底板60。

所(suo)述(shu)外擋板(ban)(ban)10豎(shu)直設置于(yu)所(suo)述(shu)上(shang)層漆(qi)布(bu)(bu)20和下(xia)層漆(qi)布(bu)(bu)30的(de)周邊，且(qie)外擋板(ban)(ban)10設有一對側板(ban)(ban)11及自所(suo)述(shu)側板(ban)(ban)11向(xiang)內垂直翻折的(de)一對導(dao)向(xiang)板(ban)(ban)12，所(suo)述(shu)導(dao)向(xiang)板(ban)(ban)12可用(yong)于(yu)抵擋住所(suo)述(shu)下(xia)層漆(qi)布(bu)(bu)30、上(shang)層漆(qi)布(bu)(bu)20及升降壓板(ban)(ban)50的(de)一端，起到位置定位的(de)作用(yong)。

所(suo)(suo)述上層(ceng)漆(qi)(qi)布20和(he)下層(ceng)漆(qi)(qi)布30呈上下設置，兩者(zhe)之(zhi)間(jian)形(xing)成(cheng)有(you)放置硅膠P和(he)墊塊(kuai)40的(de)(de)壓(ya)(ya)制空(kong)間(jian)21，所(suo)(suo)述硅膠P位(wei)(wei)于(yu)(yu)(yu)兩個(ge)墊塊(kuai)40之(zhi)間(jian)，且受到所(suo)(suo)述上層(ceng)漆(qi)(qi)布20和(he)下層(ceng)漆(qi)(qi)布30的(de)(de)擠壓(ya)(ya)成(cheng)型。所(suo)(suo)述升(sheng)降壓(ya)(ya)板50為平(ping)板狀，其壓(ya)(ya)于(yu)(yu)(yu)所(suo)(suo)述上層(ceng)漆(qi)(qi)布20的(de)(de)表面(mian)，用于(yu)(yu)(yu)向上層(ceng)漆(qi)(qi)布20施(shi)壓(ya)(ya)，且所(suo)(suo)述升(sheng)降壓(ya)(ya)板50的(de)(de)表面(mian)設置有(you)一對氣(qi)缸(gang)51，該氣(qi)缸(gang)51用于(yu)(yu)(yu)向升(sheng)降壓(ya)(ya)板50產生向下的(de)(de)壓(ya)(ya)力，所(suo)(suo)述氣(qi)缸(gang)51位(wei)(wei)于(yu)(yu)(yu)所(suo)(suo)述外擋(dang)板10的(de)(de)內側。

操作時(shi)，將硅(gui)(gui)膠P放置在(zai)上(shang)(shang)層(ceng)漆(qi)布20和下層(ceng)漆(qi)布30之間，啟動氣(qi)缸(gang)51，由(you)升降壓板50向下施(shi)壓，使硅(gui)(gui)膠P形成薄片狀樣品(pin)，通過升降壓板50、上(shang)(shang)層(ceng)漆(qi)布20和氣(qi)缸(gang)51的(de)設置，可平穩(wen)的(de)施(shi)壓在(zai)硅(gui)(gui)膠P上(shang)(shang)，最(zui)終得到厚(hou)度均勻、無氣(qi)泡的(de)薄片硅(gui)(gui)膠樣品(pin)。

以上所述僅為本實(shi)用新(xin)(xin)(xin)型(xing)的較佳實(shi)施例而已，并不用以限制本實(shi)用新(xin)(xin)(xin)型(xing)，凡在本實(shi)用新(xin)(xin)(xin)型(xing)的精神和原則之內(nei)(nei)，所做的任何修改、等(deng)同(tong)替換、改進(jin)等(deng)，均應包含在本實(shi)用新(xin)(xin)(xin)型(xing)保護的范圍之內(nei)(nei)。