本發明涉及(ji)高(gao)溫物體(ti)測(ce)量領域,具體(ti)涉及(ji)高(gao)溫環(huan)境下物體(ti)變形的測(ce)量方法、裝(zhuang)置及(ji)系統。
背景技術:
高溫(wen)(wen)對(dui)材料或(huo)結構的(de)影響主要體現在(zai)兩(liang)個方面:1)溫(wen)(wen)度會(hui)影響材料的(de)物理性(xing)(xing)能(neng)(neng)和力(li)學性(xing)(xing)能(neng)(neng)。例如,材料的(de)高溫(wen)(wen)力(li)學性(xing)(xing)能(neng)(neng)不同于室(shi)溫(wen)(wen),由啟(qi)動熱產生(sheng)(sheng)的(de)高溫(wen)(wen)會(hui)降低高速飛行器材料的(de)強度極(ji)限和承載能(neng)(neng)力(li),因(yin)而測定這些(xie)材料在(zai)高溫(wen)(wen)環境下(xia)的(de)力(li)學參數(例如彈性(xing)(xing)模量、強度極(ji)限和熱膨(peng)脹系數等),對(dui)于材料和結構的(de)安(an)全設(she)計、可靠性(xing)(xing)評定及壽命預測都具有(you)重要意義;2)溫(wen)(wen)度會(hui)使構件的(de)幾何形狀發生(sheng)(sheng)改變(bian)(即所謂的(de)熱變(bian)形),在(zai)高溫(wen)(wen)下(xia)構建的(de)幾何形狀偏離(li)理想的(de)設(she)計狀態從而影響構件原有(you)的(de)工(gong)作(zuo)狀態,產生(sheng)(sheng)的(de)變(bian)形可能(neng)(neng)會(hui)設(she)備(bei)、元件的(de)外形,從而影響其正常使用。
在(zai)對被測(ce)物(wu)(wu)體(ti)的(de)高(gao)溫(wen)力(li)學性(xing)(xing)能進行測(ce)試時,由于載荷可通過與高(gao)溫(wen)環境箱配合的(de)材料(liao)力(li)學試驗機(ji)直接獲得,因此如何獲得精(jing)確測(ce)量被測(ce)物(wu)(wu)體(ti)在(zai)高(gao)溫(wen)環境下的(de)表面變形(xing)就成為(wei)材料(liao)高(gao)溫(wen)力(li)學性(xing)(xing)能測(ce)試中最為(wei)關(guan)鍵的(de)問題。
目前(qian)(qian)現(xian)有技(ji)術(shu)中,高(gao)溫(wen)物(wu)體變形(xing)(xing)的測(ce)量(liang)方(fang)法一(yi)般(ban)包括(kuo)以下(xia)步驟:首先需要獲取(qu)物(wu)體表面變形(xing)(xing)前(qian)(qian)后(hou)的清晰圖(tu)(tu)(tu)像,然后(hou)對(dui)所獲取(qu)圖(tu)(tu)(tu)像進行(xing)處(chu)理(li),得到對(dui)應的全場(chang)位移等(deng)信息。然而,在(zai)對(dui)于(yu)高(gao)溫(wen)風(feng)洞之類(lei)的試件,其在(zai)高(gao)溫(wen)氣流方(fang)向的前(qian)(qian)后(hou)兩端溫(wen)度差異較(jiao)大(da)(da),導致在(zai)記錄圖(tu)(tu)(tu)像時前(qian)(qian)后(hou)兩端的亮度調節存(cun)在(zai)很大(da)(da)挑(tiao)戰(zhan)。
技術實現要素:
因(yin)此,本發明(ming)要解決的(de)技術問題在于克服現有技術中的(de)對于高(gao)溫(wen)物(wu)體(ti)溫(wen)度差(cha)異(yi)而導致的(de)測(ce)(ce)量圖像精度低(di)的(de)缺陷,從而提供一種高(gao)溫(wen)環境(jing)下物(wu)體(ti)變形的(de)測(ce)(ce)量方法、裝置及系統。
本發明提(ti)供(gong)一種高(gao)溫(wen)環境下(xia)物體變形的(de)測量方法,包(bao)括以下(xia)步驟:
獲(huo)取(qu)第(di)一(yi)圖像(xiang),所述第(di)一(yi)圖像(xiang)為第(di)一(yi)衰減率所對應的圖像(xiang);
獲取第二圖像(xiang),所述第二圖像(xiang)為第二衰減率(lv)所對應的(de)圖像(xiang);
根據(ju)所述第一圖像與所述第二圖像的灰度值,計算(suan)物體的變(bian)形信息。
可選(xuan)地,所(suo)(suo)述(shu)根據(ju)所(suo)(suo)述(shu)第一圖像(xiang)與所(suo)(suo)述(shu)第二(er)圖像(xiang)的(de)灰度值,計算物體的(de)變形信息,采(cai)用如下(xia)公式計算:
其中,(x,y)為第一圖像的坐標;(x1,y1)為第二圖像的坐標;m為選定的圖像子區寬度的一半;fm(x,y)為第一圖像的平均灰度值;gm(x,y)為第二圖像的平均灰度值;
可選(xuan)地,所(suo)述第(di)一圖(tu)像的(de)平均灰(hui)度(du)值f(x,y),采用如下公式(shi)計算(suan):
可選地(di),所述第二(er)圖像的平均(jun)灰度值g(x,y),采用(yong)如下公式計算:
可選(xuan)地,所述第(di)一圖(tu)像的灰(hui)度值為100-150。
本(ben)發明提供(gong)一種(zhong)高溫環境下物體(ti)變形的測(ce)量裝(zhuang)置(zhi),包括:
第(di)一(yi)獲取(qu)單(dan)元(yuan),用于獲取(qu)第(di)一(yi)圖像,所述(shu)第(di)一(yi)圖像為第(di)一(yi)衰(shuai)減率所對應的圖像;
第二(er)獲取單元,用于獲取第二(er)圖像(xiang),所述第二(er)圖像(xiang)為第二(er)衰(shuai)減率所對應的圖像(xiang);
計算單(dan)元,用于根(gen)據所述(shu)第一圖像與所述(shu)第二(er)圖像的(de)灰度值,計算物(wu)體的(de)變形信(xin)息。
可(ke)選地,所(suo)述根據所(suo)述第一圖像與所(suo)述第二圖像的灰度值(zhi),計(ji)算(suan)物體的變形信息,采用如下公(gong)式計(ji)算(suan):
其中,(x,y)為第一圖像的坐標;(x1,y1)為第二圖像的坐標;m為選定的圖像子區寬度的一半;f(x,y)為第一圖像的平均灰度值;g(x,y)為第二圖像的平均灰度值;
本發(fa)明提供一種高溫環境下(xia)物體變形的測量(liang)系統,包(bao)括:
圖像采集裝置,所述圖像采集裝置能夠按照(zhao)預設程序自動調(diao)節(jie)衰減(jian)率;
上述(shu)任一項所述(shu)的測量(liang)裝置;
所述(shu)(shu)圖像采(cai)集裝置(zhi)與所述(shu)(shu)測量裝置(zhi)電(dian)連接,所述(shu)(shu)圖像采(cai)集裝置(zhi)采(cai)集的圖像由所述(shu)(shu)測量裝置(zhi)進行(xing)測量。
可選地,所(suo)(suo)(suo)述(shu)(shu)圖像采集裝置包括:鏡(jing)頭(tou),濾(lv)光(guang)片或濾(lv)光(guang)片組,相(xiang)機;所(suo)(suo)(suo)述(shu)(shu)濾(lv)光(guang)片或所(suo)(suo)(suo)述(shu)(shu)濾(lv)光(guang)片組設(she)置在所(suo)(suo)(suo)述(shu)(shu)鏡(jing)頭(tou)與所(suo)(suo)(suo)述(shu)(shu)相(xiang)機之間;所(suo)(suo)(suo)述(shu)(shu)濾(lv)光(guang)片組能夠按(an)照預(yu)設(she)程序自動(dong)調節衰減(jian)率。
可(ke)選(xuan)地,所述(shu)濾(lv)光(guang)片(pian)或(huo)濾(lv)光(guang)片(pian)組(zu)為帶有轉(zhuan)輪(lun)裝置的濾(lv)光(guang)片(pian)組(zu)、相對(dui)偏(pian)(pian)振角度可(ke)調的雙偏(pian)(pian)振片(pian)組(zu)合(he)以及電致衰減率變化的濾(lv)光(guang)片(pian)中的一(yi)種。
本發明技術方案,具有如下優點:
1.本(ben)發明提(ti)供的高溫環境下(xia)(xia)物(wu)體變形的測量方法,包括以下(xia)(xia)步(bu)驟:
獲取第(di)(di)一圖(tu)像(xiang)(xiang),所(suo)(suo)述第(di)(di)一圖(tu)像(xiang)(xiang)為第(di)(di)一衰減率(lv)所(suo)(suo)對(dui)應的(de)圖(tu)像(xiang)(xiang);獲取第(di)(di)二(er)圖(tu)像(xiang)(xiang),所(suo)(suo)述第(di)(di)二(er)圖(tu)像(xiang)(xiang)為第(di)(di)二(er)衰減率(lv)所(suo)(suo)對(dui)應的(de)圖(tu)像(xiang)(xiang);根據所(suo)(suo)述第(di)(di)一圖(tu)像(xiang)(xiang)與所(suo)(suo)述第(di)(di)二(er)圖(tu)像(xiang)(xiang)的(de)灰度(du)值,計算物體的(de)變(bian)形(xing)信息。本發(fa)明(ming)通過(guo)一種基于衰減率(lv)和圖(tu)像(xiang)(xiang)處理(li)技術的(de)高溫(wen)物體的(de)變(bian)形(xing)測(ce)(ce)量,消除了高溫(wen)環境下物體表(biao)面(mian)亮(liang)度(du)差異過(guo)大(da)的(de)影響,實現了高溫(wen)環境下溫(wen)度(du)梯度(du)較大(da)的(de)物體的(de)變(bian)形(xing)的(de)測(ce)(ce)量。
2.本發明提供(gong)的(de)(de)(de)高(gao)溫(wen)(wen)(wen)環境(jing)下物(wu)體(ti)(ti)變(bian)形(xing)(xing)的(de)(de)(de)測(ce)量裝置,包括:第(di)一(yi)獲(huo)(huo)取(qu)(qu)單(dan)元(yuan)(yuan),用于(yu)獲(huo)(huo)取(qu)(qu)第(di)一(yi)圖(tu)(tu)像(xiang),所(suo)(suo)述(shu)第(di)一(yi)圖(tu)(tu)像(xiang)為第(di)一(yi)衰減(jian)率(lv)所(suo)(suo)對(dui)應的(de)(de)(de)圖(tu)(tu)像(xiang);第(di)二(er)(er)獲(huo)(huo)取(qu)(qu)單(dan)元(yuan)(yuan),用于(yu)獲(huo)(huo)取(qu)(qu)第(di)二(er)(er)圖(tu)(tu)像(xiang),所(suo)(suo)述(shu)第(di)二(er)(er)圖(tu)(tu)像(xiang)為第(di)二(er)(er)衰減(jian)率(lv)所(suo)(suo)對(dui)應的(de)(de)(de)圖(tu)(tu)像(xiang);計(ji)算(suan)單(dan)元(yuan)(yuan),用于(yu)根據所(suo)(suo)述(shu)第(di)一(yi)圖(tu)(tu)像(xiang)與所(suo)(suo)述(shu)第(di)二(er)(er)圖(tu)(tu)像(xiang)的(de)(de)(de)灰度值,計(ji)算(suan)物(wu)體(ti)(ti)的(de)(de)(de)變(bian)形(xing)(xing)信息。通(tong)過一(yi)種基于(yu)衰減(jian)率(lv)和圖(tu)(tu)像(xiang)處理技術的(de)(de)(de)高(gao)溫(wen)(wen)(wen)物(wu)體(ti)(ti)的(de)(de)(de)變(bian)形(xing)(xing)測(ce)量,消除了高(gao)溫(wen)(wen)(wen)環境(jing)下物(wu)體(ti)(ti)表面亮度差異過大(da)的(de)(de)(de)影(ying)響,實現了高(gao)溫(wen)(wen)(wen)環境(jing)下溫(wen)(wen)(wen)度梯度較(jiao)大(da)的(de)(de)(de)物(wu)體(ti)(ti)的(de)(de)(de)變(bian)形(xing)(xing)的(de)(de)(de)測(ce)量。
3.本發明提供的(de)(de)高溫環(huan)境(jing)下(xia)物體變形的(de)(de)測(ce)量(liang)系統(tong),包括:圖(tu)(tu)像采(cai)(cai)集(ji)(ji)(ji)裝(zhuang)置(zhi),所(suo)述(shu)(shu)圖(tu)(tu)像采(cai)(cai)集(ji)(ji)(ji)裝(zhuang)置(zhi)能夠按照預設程序自動(dong)調節衰減(jian)率;上述(shu)(shu)的(de)(de)測(ce)量(liang)裝(zhuang)置(zhi);所(suo)述(shu)(shu)圖(tu)(tu)像采(cai)(cai)集(ji)(ji)(ji)裝(zhuang)置(zhi)與所(suo)述(shu)(shu)測(ce)量(liang)裝(zhuang)置(zhi)電連接,所(suo)述(shu)(shu)圖(tu)(tu)像采(cai)(cai)集(ji)(ji)(ji)裝(zhuang)置(zhi)采(cai)(cai)集(ji)(ji)(ji)的(de)(de)圖(tu)(tu)像由所(suo)述(shu)(shu)測(ce)量(liang)裝(zhuang)置(zhi)進(jin)行測(ce)量(liang)。采(cai)(cai)用圖(tu)(tu)像采(cai)(cai)集(ji)(ji)(ji)裝(zhuang)置(zhi)實(shi)時調整(zheng)衰減(jian)率,通過衰減(jian)率的(de)(de)變化模擬環(huan)境(jing)溫度的(de)(de)變化,從(cong)而能夠建立高溫的(de)(de)測(ce)量(liang)環(huan)境(jing)。
附圖說明
為了(le)更清楚地說明(ming)(ming)(ming)本(ben)發明(ming)(ming)(ming)具體實施方(fang)式或現(xian)有技術(shu)中(zhong)的技術(shu)方(fang)案,下(xia)(xia)面(mian)將(jiang)對具體實施方(fang)式或現(xian)有技術(shu)描述中(zhong)所需要使用的附圖(tu)作簡單(dan)地介紹,顯(xian)而易(yi)見地,下(xia)(xia)面(mian)描述中(zhong)的附圖(tu)是本(ben)發明(ming)(ming)(ming)的一些實施方(fang)式,對于本(ben)領域(yu)普通技術(shu)人員來講,在(zai)不付出(chu)創造性(xing)勞(lao)動的前提下(xia)(xia),還可(ke)以根據這些附圖(tu)獲得其他(ta)的附圖(tu)。
圖1為本發(fa)明實施例1中測(ce)量方法的一(yi)個具體示例的流程圖;
圖2為(wei)本發明實施例(li)2中測量裝(zhuang)置(zhi)的(de)一(yi)個(ge)具(ju)體示例(li)的(de)結構示意圖;
圖3為本(ben)發明實施例(li)3中測量系(xi)統的一個具體示例(li)的結構(gou)示意圖;
圖4為本發明實施例4中(zhong)測(ce)量(liang)裝置硬(ying)件結構(gou)的(de)一(yi)個具體示例的(de)結構(gou)示意圖;
附圖標記:
21:第一獲取單元(yuan);22:第二(er)獲取單元(yuan);23:計(ji)算單元(yuan);
31:圖像采集裝置;32:測量裝置;
41:處理器(qi);42:存儲器(qi)。
具體實施方式
下(xia)面將結合(he)附圖(tu)對本(ben)發明的(de)(de)技術方案進行清(qing)楚(chu)、完整地(di)描述(shu),顯然,所描述(shu)的(de)(de)實(shi)(shi)(shi)(shi)施例是(shi)本(ben)發明一(yi)部分實(shi)(shi)(shi)(shi)施例,而不是(shi)全部的(de)(de)實(shi)(shi)(shi)(shi)施例。基(ji)于本(ben)發明中(zhong)的(de)(de)實(shi)(shi)(shi)(shi)施例,本(ben)領(ling)域普通技術人員在沒有(you)做(zuo)出創(chuang)造(zao)性(xing)勞(lao)動前(qian)提(ti)下(xia)所獲得的(de)(de)所有(you)其(qi)他實(shi)(shi)(shi)(shi)施例,都屬(shu)于本(ben)發明保護的(de)(de)范(fan)圍。
在本發明(ming)的描述中,需要說(shuo)明(ming)的是,術語“第(di)一”、“第(di)二”、“第(di)三”僅用于描述目的,而不能理解為指(zhi)示或暗(an)示相對重要性。
此(ci)外,下面所描述的本發明不同實施方式(shi)中(zhong)所涉及的技術特(te)征只要彼此(ci)之間未構(gou)成沖突就可以相互(hu)結(jie)合(he)。
實施例1
本(ben)實(shi)施例提供一(yi)種高(gao)溫(wen)(wen)環(huan)(huan)境(jing)下物體(ti)變(bian)形的(de)測(ce)量(liang)方(fang)法(fa),應用于(yu)高(gao)溫(wen)(wen)環(huan)(huan)境(jing)下物體(ti)變(bian)形的(de)測(ce)量(liang)系(xi)統中,測(ce)量(liang)開始時,利(li)用該(gai)測(ce)量(liang)系(xi)統采(cai)集初(chu)始衰(shuai)(shuai)減(jian)(jian)率下的(de)圖像(xiang)一(yi)張(zhang),然后(hou)調節衰(shuai)(shuai)減(jian)(jian)率,將衰(shuai)(shuai)減(jian)(jian)率提高(gao)至一(yi)固(gu)定數值(zhi),之后(hou)由(you)測(ce)量(liang)系(xi)統采(cai)集此衰(shuai)(shuai)減(jian)(jian)率下的(de)圖像(xiang)。重復以上調節衰(shuai)(shuai)減(jian)(jian)率和采(cai)集操(cao)作,直到將所(suo)(suo)有設(she)定衰(shuai)(shuai)減(jian)(jian)率遍歷并回到初(chu)始衰(shuai)(shuai)減(jian)(jian)率。本(ben)實(shi)施例中所(suo)(suo)述(shu)的(de)高(gao)溫(wen)(wen)環(huan)(huan)境(jing)下物體(ti)變(bian)形的(de)測(ce)量(liang)方(fang)法(fa),如(ru)圖1所(suo)(suo)示,包括如(ru)下步(bu)驟:
s1:獲取第(di)一圖像(xiang),所述第(di)一圖像(xiang)為第(di)一衰減率所對(dui)應的圖像(xiang);
s2:獲取(qu)第二圖像(xiang),所述(shu)第二圖像(xiang)為第二衰減率所對應的圖像(xiang);
s3:根據所(suo)述第一圖像(xiang)(xiang)與所(suo)述第二圖像(xiang)(xiang)的(de)灰度值,計(ji)算物(wu)體的(de)變(bian)形信(xin)息。
上述高溫環(huan)境(jing)(jing)下物(wu)體(ti)(ti)變形(xing)(xing)的測量(liang)(liang)方法,通過一種基于衰(shuai)減(jian)率和(he)圖像處理技(ji)術(shu)的高溫物(wu)體(ti)(ti)的變形(xing)(xing)測量(liang)(liang),消除了高溫環(huan)境(jing)(jing)下物(wu)體(ti)(ti)表面亮度差異過大(da)(da)的影響(xiang),實現了高溫環(huan)境(jing)(jing)下溫度梯度較大(da)(da)的物(wu)體(ti)(ti)的變形(xing)(xing)的測量(liang)(liang)。
優選地,在步驟(zou)s3中,根據所(suo)述(shu)第一圖(tu)像(xiang)與所(suo)述(shu)第二圖(tu)像(xiang)的灰度值,計算(suan)物體的變形信(xin)息,采用如下(xia)公式計算(suan):
其中,(x,y)為第一圖像的坐標;(x1,y1)為第二圖像的坐標;m為選定的圖像子區寬度的一半;fm(x,y)為第一圖像的平均灰度值;gm(x,y)為第二圖像的平均灰度值;
作為本實(shi)施(shi)例一種優選的實(shi)施(shi)方式,所(suo)述第(di)一圖像的平均(jun)灰度值f(x,y),采用如下公式計算:
作(zuo)為本實(shi)(shi)施例一種優選的實(shi)(shi)施方式(shi),所述(shu)第二圖像的平均灰度值g(x,y),采用如下公(gong)式(shi)計算:
作為本實施例一種優選的實施方式,所(suo)述(shu)第一圖像的灰(hui)度值為100-150。
實施例2
本施例提供一(yi)種(zhong)高溫環境下物體(ti)變形的測量裝(zhuang)置,如圖(tu)2所(suo)示,包(bao)括:
第(di)一獲取單元(yuan)21,用于獲取第(di)一圖像(xiang),所(suo)述第(di)一圖像(xiang)為(wei)第(di)一衰減率所(suo)對(dui)應的圖像(xiang);
第(di)二獲取(qu)單(dan)元22,用于獲取(qu)第(di)二圖像(xiang),所述第(di)二圖像(xiang)為(wei)第(di)二衰減(jian)率所對應的圖像(xiang);
計(ji)(ji)算單元23,用于(yu)根據所(suo)述第一圖(tu)像與所(suo)述第二圖(tu)像的灰度值,計(ji)(ji)算物(wu)體的變形信(xin)息。
上述(shu)高溫環(huan)境下物體(ti)變(bian)形的測量(liang)裝(zhuang)置,通過(guo)一種基于衰減率(lv)和圖像(xiang)處理技(ji)術的高溫物體(ti)的變(bian)形測量(liang),消除(chu)了(le)高溫環(huan)境下物體(ti)表面亮度(du)差異過(guo)大的影響(xiang),實現了(le)高溫環(huan)境下溫度(du)梯度(du)較大的物體(ti)的變(bian)形的測量(liang)。
優選地,所(suo)述(shu)根據(ju)所(suo)述(shu)第一(yi)圖(tu)像(xiang)與所(suo)述(shu)第二圖(tu)像(xiang)的(de)灰(hui)度(du)值,計算物(wu)體的(de)變形信息(xi),采用如(ru)下公式計算:
其中,(x,y)為第一圖像的坐標;(x1,y1)為第二圖像的坐標;m為選定的圖像子區寬度的一半;f(x,y)為第一圖像的平均灰度值;g(x,y)為第二圖像的平均灰度值;
未(wei)在本實施例中(zhong)詳盡(jin)描(miao)述(shu)的測量方法(fa)的具(ju)體細節,請參(can)照實施例1,在此不再贅述(shu)。
實施例3
本實(shi)施例提供一(yi)種(zhong)高溫環境下物體變形的測量系統,如圖3所示,包括:
圖(tu)像采(cai)集裝置(zhi)31,所述圖(tu)像采(cai)集裝置(zhi)能(neng)夠按(an)照預設程序自動(dong)調(diao)節衰減率(lv);
本發明實施例2中所述(shu)的測量(liang)裝置32;
所(suo)(suo)述(shu)(shu)圖像(xiang)采集(ji)(ji)裝(zhuang)置31與所(suo)(suo)述(shu)(shu)測量裝(zhuang)置32電(dian)連接,所(suo)(suo)述(shu)(shu)圖像(xiang)采集(ji)(ji)裝(zhuang)置31采集(ji)(ji)的圖像(xiang)由所(suo)(suo)述(shu)(shu)測量裝(zhuang)置32進行測量。
作(zuo)為(wei)本實(shi)施例(li)的一(yi)種(zhong)可選(xuan)實(shi)施方式,所(suo)述(shu)圖像采集裝置31包(bao)括:鏡頭,濾光(guang)片或濾光(guang)片組(zu),相機(ji);所(suo)述(shu)濾光(guang)片或所(suo)述(shu)濾光(guang)片組(zu)設置在所(suo)述(shu)鏡頭與所(suo)述(shu)相機(ji)之間(jian);所(suo)述(shu)濾光(guang)片組(zu)能夠按照預設程序自動調節衰減(jian)率(lv)。
作為本實(shi)(shi)施(shi)例的一(yi)種可(ke)選實(shi)(shi)施(shi)方式,所(suo)述濾光(guang)片(pian)(pian)(pian)或濾光(guang)片(pian)(pian)(pian)組為帶有轉輪裝置的濾光(guang)片(pian)(pian)(pian)組、相對偏(pian)(pian)振角度可(ke)調的雙(shuang)偏(pian)(pian)振片(pian)(pian)(pian)組合以及電(dian)致衰(shuai)減率(lv)變化的濾光(guang)片(pian)(pian)(pian)中的一(yi)種。
實施例4
圖4是本發明實施例提(ti)供(gong)的(de)高溫環(huan)境下物體變形(xing)的(de)測(ce)量裝置的(de)硬件結(jie)構示意圖,該設備包括一個(ge)或多個(ge)處(chu)理器41以及存儲器42,圖4中以一個(ge)處(chu)理器41為例。
會議終端還可(ke)以(yi)包括:圖像(xiang)采集(ji)器(qi)(qi)(qi)(未示(shi)出),用于采集(ji)視頻(pin)或圖像(xiang)。處理器(qi)(qi)(qi)41、存儲器(qi)(qi)(qi)42和視頻(pin)播放器(qi)(qi)(qi)可(ke)以(yi)通過總線(xian)或者其他方式(shi)連接,圖4中(zhong)以(yi)通過總線(xian)連接為例。
處(chu)理(li)器(qi)(qi)(qi)41可(ke)以(yi)為(wei)中央(yang)處(chu)理(li)器(qi)(qi)(qi)。處(chu)理(li)器(qi)(qi)(qi)41還可(ke)以(yi)為(wei)其他通用處(chu)理(li)器(qi)(qi)(qi)、數字信號處(chu)理(li)器(qi)(qi)(qi)、專用集成電路、現(xian)場(chang)可(ke)編(bian)(bian)程門陣列或者(zhe)其他可(ke)編(bian)(bian)程邏輯器(qi)(qi)(qi)件(jian)(jian)(jian)、分立門或者(zhe)晶體(ti)管(guan)邏輯器(qi)(qi)(qi)件(jian)(jian)(jian)、分立硬(ying)件(jian)(jian)(jian)組件(jian)(jian)(jian)等芯(xin)片,或者(zhe)上述(shu)各類芯(xin)片的組合。通用處(chu)理(li)器(qi)(qi)(qi)可(ke)以(yi)是微處(chu)理(li)器(qi)(qi)(qi)或者(zhe)該處(chu)理(li)器(qi)(qi)(qi)也可(ke)以(yi)是任何常規的處(chu)理(li)器(qi)(qi)(qi)等。
存(cun)儲(chu)(chu)器42作為一種非暫(zan)態計算機可(ke)讀存(cun)儲(chu)(chu)介質,可(ke)用(yong)(yong)于存(cun)儲(chu)(chu)非暫(zan)態軟(ruan)件程序、非暫(zan)態計算機可(ke)執(zhi)行(xing)(xing)程序以及模塊(kuai),如本(ben)申(shen)請實(shi)施(shi)例中(zhong)的(de)會議終端的(de)圖像處(chu)理(li)操作的(de)處(chu)理(li)方(fang)法(fa)對應(ying)的(de)程序指令/模塊(kuai)。處(chu)理(li)器41通過(guo)運行(xing)(xing)存(cun)儲(chu)(chu)在(zai)存(cun)儲(chu)(chu)器42中(zhong)的(de)非暫(zan)態軟(ruan)件程序、指令以及模塊(kuai),從而執(zhi)行(xing)(xing)服務器的(de)各種功能應(ying)用(yong)(yong)以及數據(ju)處(chu)理(li),即實(shi)現上述實(shi)施(shi)例中(zhong),高(gao)溫環(huan)境下物(wu)體變(bian)形(xing)的(de)測量方(fang)法(fa)。
所(suo)述(shu)一個(ge)或者(zhe)多(duo)個(ge)模塊存儲(chu)在所(suo)述(shu)存儲(chu)器42中,當被所(suo)述(shu)一個(ge)或者(zhe)多(duo)個(ge)處理(li)器41執(zhi)行(xing)時,執(zhi)行(xing)如圖1所(suo)示的高溫環境下物體變形的測量方法。
上(shang)述(shu)(shu)產品可執行本(ben)發明實(shi)施(shi)例所提供的(de)方(fang)法,具(ju)備執行方(fang)法相應的(de)功(gong)能模塊和有(you)益(yi)效果。未在本(ben)實(shi)施(shi)例中詳盡描述(shu)(shu)的(de)技術細節(jie),具(ju)體可參見如圖1所示的(de)實(shi)施(shi)例中的(de)相關描述(shu)(shu)。
本(ben)領域技術(shu)人員應該(gai)明白,本(ben)發明的實(shi)施例可(ke)提供為(wei)方法、裝置或計算機(ji)程序產(chan)品。因此,本(ben)發明可(ke)采用(yong)(yong)(yong)完(wan)全硬件(jian)實(shi)施例、完(wan)全軟件(jian)實(shi)施例、或結合軟件(jian)和硬件(jian)方面的實(shi)施例的形(xing)式。而且,本(ben)發明可(ke)采用(yong)(yong)(yong)一個或多(duo)個其中包含(han)有(you)計算機(ji)可(ke)用(yong)(yong)(yong)程序代碼的計算機(ji)可(ke)用(yong)(yong)(yong)存儲(chu)介質(包括(kuo)但不(bu)限于磁盤存儲(chu)器(qi)、cd-ram、光學存儲(chu)器(qi)等)上實(shi)施的計算機(ji)程序產(chan)品的形(xing)式。
顯然,上述實施(shi)例(li)僅(jin)僅(jin)是為清楚地(di)說明(ming)所(suo)作的(de)(de)舉例(li),而并非對實施(shi)方式的(de)(de)限(xian)定(ding)。對于所(suo)屬領域的(de)(de)普(pu)通技(ji)術人(ren)員來(lai)說,在(zai)上述說明(ming)的(de)(de)基礎上還可以做出其它不同(tong)形式的(de)(de)變(bian)(bian)化或變(bian)(bian)動。這里(li)無需也無法對所(suo)有(you)的(de)(de)實施(shi)方式予(yu)以窮舉。而由此所(suo)引伸出的(de)(de)顯而易見的(de)(de)變(bian)(bian)化或變(bian)(bian)動仍處于本發明(ming)創造的(de)(de)保護(hu)范(fan)圍之中。