本申請(qing)涉及(ji)試樣分(fen)(fen)析用基(ji)板(ban)和試樣分(fen)(fen)析裝置。

背景技術：

專(zhuan)利文(wen)獻1公(gong)開(kai)了(le)對尿、血(xue)液等檢驗標本的特(te)定成分進行分析的技術。

更(geng)具體的是(shi)，專利文獻1公(gong)開了以下技術(shu)：使(shi)形成(cheng)有流(liu)路和/或腔室等的圓盤(pan)狀(zhuang)的試樣分析用基板旋轉，從而在基板內部進行液體的移送、分配、混合等，分析檢(jian)驗標本中的特定(ding)成(cheng)分。

現有技術文獻

專利文獻

專(zhuan)利(li)文獻1：日本特表(biao)平7-500910號(hao)公報(bao)

技術實現要素：

發明要解決的課題

除專利(li)文(wen)獻(xian)1所記載的(de)技術之外，還尋求了能夠應對各種各樣的(de)分析(xi)法的(de)技術。

本申請的(de)非限定性(xing)的(de)例示性(xing)的(de)實施方式，提供(gong)能夠應對各種各樣(yang)的(de)分(fen)析法的(de)試(shi)樣(yang)分(fen)析用基板和試(shi)樣(yang)分(fen)析裝(zhuang)置。

用于(yu)解決課題的(de)技術方案

試(shi)樣分(fen)析(xi)用(yong)基(ji)板(ban)是用(yong)于使液體試(shi)樣中的(de)(de)分(fen)析(xi)物與配(pei)體產(chan)生(sheng)結合反(fan)應的(de)(de)試(shi)樣分(fen)析(xi)用(yong)基(ji)板(ban)，具備(bei)：基(ji)體基(ji)板(ban)，其(qi)具有旋轉軸和(he)預定(ding)的(de)(de)厚度；腔(qiang)(qiang)室，其(qi)位于基(ji)體基(ji)板(ban)內，構成為保持包含(han)分(fen)析(xi)物和(he)在(zai)磁性顆粒的(de)(de)表面(mian)固(gu)定(ding)化的(de)(de)配(pei)體的(de)(de)液體試(shi)樣；以及(ji)至少1個磁體，其(qi)配(pei)置(zhi)于在(zai)腔(qiang)(qiang)室內捕捉磁性顆粒的(de)(de)位置(zhi)。

發明的效果

本申請的(de)一個技術方案的(de)試樣(yang)分析(xi)用基板和試樣(yang)分析(xi)裝置(zhi)，能夠以簡便的(de)結構應對各(ge)種(zhong)各(ge)樣(yang)的(de)分析(xi)法(fa)。

附圖說明

圖1A是(shi)試(shi)樣分(fen)析用基(ji)板10的(de)外(wai)觀(guan)圖的(de)一(yi)例。

圖(tu)1B是試樣分析用基板(ban)10的剖視圖(tu)的一例。

圖(tu)1C是表示磁體16a和平衡件16b分別被磁體容(rong)納(na)(na)室18a和平衡件容(rong)納(na)(na)室18b所容(rong)納(na)(na)的狀態的試樣分析用基(ji)板(ban)10的圖(tu)的一例。

圖(tu)2A是表示與試樣分析(xi)用基(ji)板10的(de)(de)磁體16a和平(ping)衡(heng)件16b相關的(de)(de)變形例的(de)(de)圖(tu)的(de)(de)一例。

圖2B是表(biao)示與試樣分(fen)析(xi)用(yong)基板10的(de)磁體(ti)16a和(he)平衡件(jian)16b相(xiang)關的(de)變形例(li)的(de)圖的(de)一(yi)例(li)。

圖3是(shi)表示實施方式(shi)1的試樣(yang)分析裝置1的結構的一例。

圖4是表示使(shi)用試樣分析裝置(zhi)1來對試樣進(jin)行測定的步驟的流程圖的一例(li)。

圖(tu)5是表示用于以光學(xue)方式檢測磁體16a的(de)試樣分析裝置1的(de)結構(gou)例的(de)圖(tu)的(de)一例。

圖(tu)6是表示利用光學特(te)性對磁體(ti)16a進行(xing)檢測的(de)(de)方法的(de)(de)步驟的(de)(de)流程(cheng)圖(tu)的(de)(de)一例。

圖7是表(biao)示光檢(jian)測裝置(zhi)26a的輸出結(jie)果的圖的一(yi)例(li)。

圖8是表示(shi)對(dui)磁(ci)體16a的(de)磁(ci)力的(de)有(you)無進(jin)行檢(jian)測的(de)試樣分析(xi)裝置(zhi)1的(de)結構(gou)例的(de)圖的(de)一例。

圖9是表(biao)示利用磁性特性對磁體16a進行檢測的(de)方(fang)法的(de)步驟(zou)的(de)流程圖的(de)一例。

圖(tu)10是表示(shi)磁力檢測裝置26b的(de)霍爾元件的(de)輸出結果的(de)圖(tu)的(de)一(yi)例(li)。

圖11是表示(shi)基(ji)于試樣分析用基(ji)板10的(de)(de)重量對磁(ci)體16a的(de)(de)有無進行檢測(ce)的(de)(de)試樣分析裝置1的(de)(de)結構例的(de)(de)圖的(de)(de)一例。

圖12是(shi)表示根據伴隨(sui)試樣分析用(yong)基板(ban)10的(de)放置的(de)馬達旋轉負荷，對磁(ci)體16a的(de)有無進(jin)行檢測的(de)試樣分析裝(zhuang)置1的(de)結(jie)構例的(de)圖的(de)一例。

圖13A是表示變形例的試樣分析(xi)用基板110的外觀的圖的一例。

圖13B是表示試樣分析用基(ji)板110的基(ji)體基(ji)板110a的圖的一(yi)例。

圖13C是表示試(shi)樣分析用(yong)基板110的磁體單元110b的圖的一例。

圖14A是基體基板(ban)110a的俯視圖的一例。

圖14B是基體基板(ban)110a的剖(pou)視圖的一例。

圖15A是磁體(ti)單元110b的俯視圖的一例。

圖15B是磁體單元110b的(de)側(ce)視圖的(de)一(yi)例。

圖(tu)16是試(shi)樣(yang)分析用基板(ban)200的(de)俯視圖(tu)(仰視圖(tu))的(de)一(yi)例。

圖(tu)17是(shi)對使用了(le)磁性顆粒302的夾心免疫(yi)法進行(xing)說明(ming)的示意圖(tu)的一例。

圖(tu)18A是表示(shi)試樣分(fen)析用基板200的(de)液體(ti)的(de)移送的(de)動作的(de)一例的(de)圖(tu)。

圖(tu)18B是表示(shi)試(shi)樣分析(xi)用基板(ban)200的(de)(de)液(ye)體的(de)(de)移送(song)的(de)(de)動作(zuo)的(de)(de)一例的(de)(de)圖(tu)。

圖18C是表示試樣(yang)分析(xi)用(yong)基板200的液(ye)體的移(yi)送的動(dong)作的一例的圖。

圖(tu)19是表示具有(you)磁體(ti)16d的(de)試樣分(fen)析裝置100的(de)結(jie)構的(de)一例(li)的(de)圖(tu)。

具體實施方式

作為分析(xi)尿、血液(ye)等檢(jian)驗標本(ben)的(de)成分的(de)方(fang)法，已知有利用(yong)作為分析(xi)對(dui)象物的(de)分析(xi)物和與(yu)該分析(xi)物特異性結(jie)合的(de)配體的(de)結(jie)合反應的(de)方(fang)法。作為這樣的(de)分析(xi)法，例(li)(li)如(ru)，可例(li)(li)舉免疫測定法和/或遺傳基(ji)因診斷法。

作為(wei)免疫(yi)測(ce)定法(fa)(fa)的(de)(de)一(yi)例(li)(li)，存在使用(yong)磁(ci)性(xing)顆粒(li)(有時也(ye)稱為(wei)“磁(ci)性(xing)珠(zhu)”、“磁(ci)顆粒(li)”或(huo)“磁(ci)珠(zhu)”等)的(de)(de)方法(fa)(fa)。在免疫(yi)測(ce)定法(fa)(fa)中存在競爭法(fa)(fa)和非競爭法(fa)(fa)。另外，作為(wei)遺傳基因診斷法(fa)(fa)的(de)(de)一(yi)例(li)(li)，存在通過使用(yong)了磁(ci)性(xing)顆粒(li)的(de)(de)雜交(Hybridization)，來進行遺傳基因檢測(ce)的(de)(de)方法(fa)(fa)。

以(yi)下，參照圖(tu)17具體地說明(ming)使用(yong)了(le)磁性(xing)(xing)顆粒(li)的夾心免疫法(非競爭法)。圖(tu)17示意性(xing)(xing)地示出使用(yong)了(le)磁性(xing)(xing)顆粒(li)的夾心免疫法。從(cong)圖(tu)17的左向右，按順(shun)序進(jin)行說明(ming)。

首先，準備磁(ci)性(xing)(xing)顆(ke)(ke)粒(li)固定(ding)(ding)(ding)化(hua)(hua)抗(kang)(kang)體(ti)(ti)305和抗(kang)(kang)原(yuan)(yuan)306。磁(ci)性(xing)(xing)顆(ke)(ke)粒(li)固定(ding)(ding)(ding)化(hua)(hua)抗(kang)(kang)體(ti)(ti)305是在磁(ci)性(xing)(xing)顆(ke)(ke)粒(li)302的(de)表面固定(ding)(ding)(ding)化(hua)(hua)的(de)抗(kang)(kang)體(ti)(ti)304。抗(kang)(kang)體(ti)(ti)304作為一級抗(kang)(kang)體(ti)(ti)發揮功(gong)能。在使磁(ci)性(xing)(xing)顆(ke)(ke)粒(li)固定(ding)(ding)(ding)化(hua)(hua)抗(kang)(kang)體(ti)(ti)305與(yu)作為測定(ding)(ding)(ding)對(dui)象物的(de)抗(kang)(kang)原(yuan)(yuan)306產生抗(kang)(kang)原(yuan)(yuan)抗(kang)(kang)體(ti)(ti)反應時，得到(dao)結合了(le)抗(kang)(kang)原(yuan)(yuan)306的(de)磁(ci)性(xing)(xing)顆(ke)(ke)粒(li)固定(ding)(ding)(ding)化(hua)(hua)抗(kang)(kang)體(ti)(ti)305。

進一(yi)步，準備標(biao)識(shi)抗體(ti)308。標(biao)識(shi)抗體(ti)308是結合了標(biao)識(shi)物質307的抗體(ti)，作為(wei)二級抗體(ti)發(fa)揮功能(neng)。

在(zai)使標識(shi)抗體(ti)(ti)(ti)308與抗原(yuan)306產生(sheng)抗原(yuan)抗體(ti)(ti)(ti)反應時，得(de)到在(zai)抗原(yuan)306上結合了磁性顆粒固定化抗體(ti)(ti)(ti)305和標識(shi)抗體(ti)(ti)(ti)308的復合體(ti)(ti)(ti)310。

然(ran)后，經由結合(he)于(yu)復(fu)合(he)體310的(de)標(biao)(biao)識(shi)抗(kang)體308的(de)標(biao)(biao)識(shi)物(wu)(wu)質(zhi)(zhi)307對信號進行檢測(ce)，由此測(ce)定與檢測(ce)到的(de)信號的(de)量(liang)相(xiang)應的(de)抗(kang)原306的(de)濃度(du)。作為標(biao)(biao)識(shi)物(wu)(wu)質(zhi)(zhi)307的(de)一例，可(ke)例舉酶(mei)(例如，過氧化物(wu)(wu)酶(mei)、堿性磷酸酶(mei)、熒光(guang)(guang)素酶(mei))、化學發光(guang)(guang)物(wu)(wu)質(zhi)(zhi)、電(dian)化學發光(guang)(guang)物(wu)(wu)質(zhi)(zhi)、熒光(guang)(guang)物(wu)(wu)質(zhi)(zhi)等(deng)。可(ke)以(yi)檢測(ce)與所利用的(de)標(biao)(biao)識(shi)物(wu)(wu)質(zhi)(zhi)相(xiang)應的(de)信號(色素、發光(guang)(guang)、熒光(guang)(guang))。

在抗(kang)原(yuan)抗(kang)體(ti)反(fan)(fan)應(ying)(ying)中，需要分(fen)離(li)反(fan)(fan)應(ying)(ying)物(wu)(wu)和(he)未反(fan)(fan)應(ying)(ying)物(wu)(wu)的(de)B/F分(fen)離(li)(Bound/Free Separation)的(de)工(gong)序。在此所說的(de)“反(fan)(fan)應(ying)(ying)物(wu)(wu)”是(shi)復(fu)合(he)體(ti)310，“未反(fan)(fan)應(ying)(ying)物(wu)(wu)”例(li)如(ru)是(shi)檢驗(yan)標(biao)本(ben)中的(de)未反(fan)(fan)應(ying)(ying)物(wu)(wu)、非(fei)特異(yi)性地吸(xi)附(fu)于(yu)磁(ci)性顆粒等的(de)物(wu)(wu)質、不參(can)與該復(fu)合(he)體(ti)的(de)形成的(de)標(biao)識抗(kang)體(ti)308。

B/F分(fen)離(li)(li)(li)工序的(de)(de)詳細情況包括以下工序：使(shi)(shi)用(yong)磁(ci)(ci)體(ti)對磁(ci)(ci)性(xing)顆粒302進行捕捉，通過液(ye)體(ti)(檢驗標(biao)本(ben)溶(rong)液(ye)、試劑溶(rong)液(ye)、清(qing)洗液(ye)等)的(de)(de)除去(qu)以及磁(ci)(ci)性(xing)顆粒的(de)(de)清(qing)洗，來分(fen)離(li)(li)(li)反應物與(yu)未反應物，并且除去(qu)未反應物。為了達(da)成B/F分(fen)離(li)(li)(li)，需要在(zai)試樣分(fen)析(xi)裝(zhuang)置側(ce)或試樣分(fen)析(xi)基板側(ce)中(zhong)的(de)(de)任一(yi)側(ce)設置磁(ci)(ci)體(ti)。不(bu)僅是(shi)非競爭(zheng)法(fa)(fa)(fa)(fa)的(de)(de)測(ce)定法(fa)(fa)(fa)(fa)，在(zai)采用(yong)競爭(zheng)法(fa)(fa)(fa)(fa)的(de)(de)免疫測(ce)定法(fa)(fa)(fa)(fa)和/或采用(yong)雜(za)交的(de)(de)遺傳基因檢測(ce)法(fa)(fa)(fa)(fa)中(zhong)，也需要使(shi)(shi)用(yong)了磁(ci)(ci)體(ti)和磁(ci)(ci)性(xing)顆粒的(de)(de)B/F分(fen)離(li)(li)(li)。

一方(fang)(fang)面，近年來，能夠(gou)由1臺(tai)設(she)備應對多個分(fen)析法的(de)技術(shu)受到期(qi)望。例如，能夠(gou)應對需(xu)要(yao)(yao)B/F分(fen)離(li)的(de)分(fen)析法和不(bu)(bu)需(xu)要(yao)(yao)B/F分(fen)離(li)的(de)分(fen)析法雙方(fang)(fang)的(de)設(she)備很有用(yong)。作為更具體的(de)例子，能夠(gou)應對不(bu)(bu)需(xu)要(yao)(yao)使用(yong)了磁體的(de)B/F分(fen)離(li)的(de)酶比(bi)色法和/或免疫比(bi)濁法的(de)分(fen)析法和需(xu)要(yao)(yao)采用(yong)磁性(xing)顆粒的(de)B/F分(fen)離(li)的(de)分(fen)析法的(de)單一設(she)備很有用(yong)。但是，在(zai)該設(she)備中，對應于(yu)各分(fen)析法的(de)結(jie)構需(xu)要(yao)(yao)獨立。

另(ling)一(yi)方面，通過將磁(ci)體(ti)設(she)置于(yu)試(shi)樣分(fen)析(xi)(xi)基板側，能夠解決(jue)該問(wen)題。然而(er)，若將磁(ci)體(ti)設(she)置于(yu)近年來需求增(zeng)加的一(yi)次(ci)性(xing)使用型的試(shi)樣分(fen)析(xi)(xi)用基板，則在1次(ci)分(fen)析(xi)(xi)后磁(ci)體(ti)也同時(shi)丟棄，從而(er)造成很大的浪費。

本申請(qing)發明(ming)人針對解決這樣(yang)(yang)的(de)問題的(de)技術進行(xing)了深入研究。其結(jie)果，想(xiang)到(dao)了以下(xia)所(suo)說明(ming)的(de)新(xin)型(xing)的(de)試(shi)樣(yang)(yang)分(fen)析(xi)(xi)(xi)用(yong)(yong)基(ji)板(ban)和試(shi)樣(yang)(yang)分(fen)析(xi)(xi)(xi)裝置。如下(xia)，例(li)舉本申請(qing)的(de)一個技術方案的(de)試(shi)樣(yang)(yang)分(fen)析(xi)(xi)(xi)用(yong)(yong)基(ji)板(ban)和試(shi)樣(yang)(yang)分(fen)析(xi)(xi)(xi)裝置。

[項目1]

一種試(shi)樣分析用(yong)基(ji)板，用(yong)于使(shi)液體試(shi)樣中的分析物和配(pei)體產(chan)生結合(he)反應，該(gai)基(ji)板具備：

基體基板(ban)，其具有旋轉軸和預定(ding)的厚度；

腔室，其(qi)位于(yu)所述(shu)基體(ti)基板(ban)內，構成(cheng)為保持包含分析物和在磁性顆粒的表面固定化的配體(ti)的液體(ti)試樣；以(yi)及

至少1個磁體，其配置(zhi)于(yu)在所述腔室內捕捉所述磁性顆(ke)粒的位置(zhi)。

[項目2]

根據項目1所(suo)述的(de)試樣分析用基板，所(suo)述至少1個磁體設置(zhi)于接近(jin)所(suo)述腔室的(de)底面的(de)位(wei)置(zhi)。

[項目3]

根據(ju)項目1所(suo)述(shu)的試樣分析用基板(ban)，所(suo)述(shu)至少1個磁(ci)體設置(zhi)于接(jie)近所(suo)述(shu)基體基板(ban)的所(suo)述(shu)腔室的壁面的位置(zhi)，

所(suo)述壁面(mian)是具有因旋轉產生的離心力所(suo)作用的方向的法線(xian)的面(mian)。

[項目4]

根據(ju)項目1所(suo)述(shu)的(de)(de)試樣分析用基(ji)板，所(suo)述(shu)至少1個磁(ci)體(ti)(ti)設置于接(jie)近(jin)所(suo)述(shu)基(ji)體(ti)(ti)基(ji)板的(de)(de)所(suo)述(shu)腔室的(de)(de)壁面的(de)(de)位置，所(suo)述(shu)壁面是對(dui)抗因(yin)旋(xuan)轉產生的(de)(de)離心力(li)而支(zhi)撐(cheng)所(suo)述(shu)液體(ti)(ti)試樣的(de)(de)一(yi)側的(de)(de)面。

[項目5]

根(gen)據項目1所述的試樣分(fen)析用(yong)基板，所述至少1個磁體設置為(wei)能(neng)夠對于所述基體基板裝卸。

[項目6]

根據項目(mu)5所述的試樣分析用基(ji)板，所述基(ji)體基(ji)板具有上表面和下表面，所述至少1個(ge)磁體設置為能夠從所述上表面裝(zhuang)卸。

[項目7]

根據項目6所(suo)述的試(shi)樣分析(xi)用基板，所(suo)述基體(ti)基板在所(suo)述上(shang)表(biao)面具有(you)容(rong)納(na)所(suo)述至少(shao)1個磁體(ti)的容(rong)納(na)室。

[項目8]

根(gen)據項目6所(suo)述(shu)的試(shi)樣分析用基板，在所(suo)述(shu)至少1個(ge)磁體安裝于所(suo)述(shu)基體基板時，所(suo)述(shu)至少1個(ge)磁體從所(suo)述(shu)上表(biao)面(mian)突出。

[項目9]

根據項(xiang)目5所(suo)述(shu)(shu)的試樣(yang)分(fen)析(xi)用基(ji)(ji)板(ban)，所(suo)述(shu)(shu)至少(shao)1個磁(ci)(ci)體設置于磁(ci)(ci)體單元，所(suo)述(shu)(shu)磁(ci)(ci)體單元對于所(suo)述(shu)(shu)基(ji)(ji)體基(ji)(ji)板(ban)被裝卸，由(you)此所(suo)述(shu)(shu)至少(shao)1個磁(ci)(ci)體被裝卸。

[項目10]

根據項目9所(suo)述(shu)的(de)試樣分析用基(ji)板(ban)，所(suo)述(shu)磁體單元設(she)置為能夠(gou)從所(suo)述(shu)基(ji)體基(ji)板(ban)的(de)下表面(mian)裝卸。

[項目11]

根據項目(mu)9所(suo)述(shu)(shu)的試樣分析(xi)用(yong)基板(ban)(ban)，在所(suo)述(shu)(shu)磁體(ti)單元安裝于所(suo)述(shu)(shu)基體(ti)基板(ban)(ban)時，所(suo)述(shu)(shu)至少1個磁體(ti)配置(zhi)于接近所(suo)述(shu)(shu)腔室的位置(zhi)。

[項目12]

根據項(xiang)目9所(suo)述的(de)試樣分析用(yong)基板，所(suo)述基體(ti)基板具有容納室，該容納室在所(suo)述磁體(ti)單元安裝于所(suo)述基體(ti)基板時容納所(suo)述至(zhi)少1個磁體(ti)。

[項目13]

根據項目1～12中任(ren)一(yi)項所述(shu)的試樣分析用基板，所述(shu)至少(shao)1個磁體(ti)為多個。

[項目14]

根(gen)據(ju)項目1～13中任一項所(suo)(suo)述(shu)(shu)的試樣分(fen)析(xi)用(yong)基板，還具備平衡件(jian)，該平衡件(jian)用(yong)于在安裝了所(suo)(suo)述(shu)(shu)至少(shao)1個磁(ci)體時使(shi)所(suo)(suo)述(shu)(shu)基板的重(zhong)心與所(suo)(suo)述(shu)(shu)旋轉軸大致一致。

[項目15]

根據項目14所述的(de)試樣分析用基板(ban)，所述平衡件為非磁體。

[項目16]

根據項目14或(huo)15所述的試樣分析用基(ji)板，所述平衡(heng)件設置(zhi)為(wei)能夠裝卸。

[項目17]

根(gen)據項目14所(suo)述的試樣分(fen)析用基板，能夠對所(suo)述至少1個磁體和所(suo)述平衡件彼此進行物(wu)理識別。

[項目18]

一種試樣分析裝置，能(neng)夠使項目1～17中任一項所述的(de)試樣分析用(yong)基(ji)板旋轉(zhuan)，該裝置具備：

馬(ma)達，其用于使所述試樣分析用基板(ban)旋轉；

驅動電(dian)路，其驅動所述馬達；以及

檢(jian)測(ce)機(ji)構，其(qi)利用所述試樣分析(xi)用基(ji)板(ban)的重量、磁性特(te)性、光學特(te)性、與旋轉(zhuan)負荷(he)相對應的電流值(zhi)(zhi)或電壓(ya)值(zhi)(zhi)、旋轉(zhuan)加速度和穩定轉(zhuan)速中的至少1個，對是否(fou)安裝有所述至少1個磁體進(jin)行(xing)檢(jian)測(ce)。

[項目19]

根據項目18所(suo)述(shu)的試樣分(fen)析裝置，還具備信號(hao)(hao)生成(cheng)電路，該信號(hao)(hao)生成(cheng)電路在所(suo)述(shu)檢測機(ji)構(gou)檢測到未安裝所(suo)述(shu)至少1個磁體的情況下，生成(cheng)用于通知檢測結果的信號(hao)(hao)。

[項目20]

根(gen)據項目(mu)19所(suo)述的試樣分(fen)析裝置，所(suo)述信號(hao)生(sheng)成電路(lu)生(sheng)成用于(yu)輸(shu)出聲(sheng)音(yin)、光或影(ying)像的信號(hao)。

[項目21]

根據項目18所述的(de)試(shi)樣分析裝置，旋轉軸(zhou)相對于重力方向具(ju)有0度以上且90度以下的(de)角度。

[項目22]

一種(zhong)試樣分(fen)析用(yong)基板(ban)，用(yong)于使(shi)液(ye)體試樣中的(de)分(fen)析物和配體產(chan)生結合(he)反應，該基板(ban)具(ju)備：

基(ji)體基(ji)板，其具有(you)旋轉軸(zhou)和(he)預定(ding)的厚(hou)度；

第1腔(qiang)室(shi)，其位于(yu)所(suo)述(shu)基(ji)體基(ji)板內，具有第1空(kong)間(jian)，該第1空(kong)間(jian)用于(yu)保持包含(han)分(fen)析(xi)物和在磁(ci)性顆(ke)粒的表面固(gu)定化(hua)的配體的液體試樣；

第(di)2腔室，其位(wei)于(yu)(yu)所述(shu)基體(ti)基板(ban)內，配置(zhi)(zhi)于(yu)(yu)距(ju)所述(shu)旋(xuan)轉軸(zhou)的(de)距(ju)離比所述(shu)第(di)1腔室距(ju)所述(shu)旋(xuan)轉軸(zhou)的(de)距(ju)離遠的(de)位(wei)置(zhi)(zhi)，具有第(di)2空間(jian)，該第(di)2空間(jian)用于(yu)(yu)保持包含(han)分析物和在磁性顆粒的(de)表面(mian)固(gu)定化(hua)的(de)配體(ti)的(de)液體(ti)試樣；

第1流路，其將所(suo)述第1腔室與所(suo)述第2腔室相連；以及

至少1個(ge)磁(ci)體(ti)，其配置于在所述(shu)第(di)2腔室(shi)內捕捉所述(shu)第(di)2腔室(shi)中的(de)所述(shu)磁(ci)性顆(ke)粒的(de)位置。

[項目23]

根據(ju)項目22所(suo)述的試(shi)樣分析(xi)用基(ji)板(ban)，所(suo)述第(di)1流(liu)路(lu)是具有(you)通過(guo)毛(mao)細管現象來移送(song)液體的毛(mao)細管的流(liu)路(lu)。

[項目24]

根(gen)據項目23所述的(de)(de)(de)試樣(yang)(yang)分(fen)析用(yong)基板(ban)，所述第1流路，在所述毛細管充滿所述液(ye)體(ti)試樣(yang)(yang)的(de)(de)(de)情況下，在以所述旋轉(zhuan)軸為(wei)中心的(de)(de)(de)旋轉(zhuan)所產生(sheng)的(de)(de)(de)離心力變為(wei)比毛細管力大時，在所述第1腔室與所述第2腔室之間利用(yong)虹(hong)吸的(de)(de)(de)原理來移(yi)送所述液(ye)體(ti)試樣(yang)(yang)。

[項目25]

根(gen)據(ju)項目22所(suo)述(shu)的(de)(de)試樣(yang)分析用(yong)基板，所(suo)述(shu)第1流路(lu)是(shi)在將所(suo)述(shu)基板支撐為(wei)旋轉軸相(xiang)對于鉛(qian)垂方向處于比0度(du)大且90度(du)以下的(de)(de)范圍的(de)(de)情況下，能夠(gou)通(tong)過利用(yong)重(zhong)力來移送(song)所(suo)述(shu)液體試樣(yang)的(de)(de)流路(lu)。

[項目26]

根據(ju)項(xiang)目(mu)22～25中任一項(xiang)所(suo)述的試樣分析(xi)用基(ji)板(ban)，具備：

第(di)3腔(qiang)室(shi)，其位于所(suo)述(shu)(shu)基(ji)體基(ji)板內，構成為保(bao)持所(suo)述(shu)(shu)液體試樣，配(pei)置于距(ju)所(suo)述(shu)(shu)旋轉軸(zhou)的(de)距(ju)離比所(suo)述(shu)(shu)第(di)2腔(qiang)室(shi)距(ju)所(suo)述(shu)(shu)旋轉軸(zhou)的(de)距(ju)離遠的(de)位置；以及

第2流路，其(qi)將所述(shu)第2腔(qiang)室與(yu)所述(shu)第3腔(qiang)室相連。

[項目27]

根據項目26所述的試樣分析(xi)用(yong)基板，所述第(di)2流路(lu)是具有(you)通過毛細管(guan)現象來移送液體的毛細管(guan)的流路(lu)。

[項目28]

根據項(xiang)目27所(suo)述的(de)(de)(de)試(shi)樣分析用基板(ban)，所(suo)述第2流路，在所(suo)述毛細(xi)(xi)管(guan)充滿所(suo)述液體試(shi)樣的(de)(de)(de)情況(kuang)下，在以所(suo)述旋(xuan)轉(zhuan)軸為中心的(de)(de)(de)旋(xuan)轉(zhuan)所(suo)產生的(de)(de)(de)離心力變為比毛細(xi)(xi)管(guan)力大時(shi)，在所(suo)述第1腔(qiang)室與所(suo)述第2腔(qiang)室之間(jian)利用虹吸的(de)(de)(de)原理來移(yi)送所(suo)述液體試(shi)樣。

[項目29]

根據項(xiang)目22～28中任一項(xiang)所(suo)述(shu)(shu)的(de)試樣(yang)分析(xi)用基板(ban)，所(suo)述(shu)(shu)至(zhi)少1個(ge)磁(ci)體設置于接近所(suo)述(shu)(shu)第2腔室的(de)底面(mian)的(de)位置。

[項目30]

根據項目22～28中(zhong)任一項所(suo)(suo)述(shu)的(de)試樣分(fen)析用基板，所(suo)(suo)述(shu)至少1個磁(ci)體設置于接近所(suo)(suo)述(shu)第(di)2腔室的(de)壁(bi)面(mian)的(de)位置，所(suo)(suo)述(shu)壁(bi)面(mian)是具有(you)因旋轉(zhuan)產生的(de)離心力所(suo)(suo)作用的(de)方向(xiang)的(de)法線的(de)面(mian)。

[項目31]

根據項目22～28中任一項所述(shu)的(de)試樣(yang)分析用基板，所述(shu)至少1個磁(ci)體(ti)設置于接(jie)近所述(shu)第2腔室的(de)壁(bi)面(mian)的(de)位置，所述(shu)壁(bi)面(mian)是對抗因旋轉產(chan)生的(de)離心力(li)而支撐所述(shu)液體(ti)試樣(yang)的(de)一側的(de)面(mian)。

[項目32]

根據項目(mu)22～31中任一(yi)項所(suo)(suo)述的試樣分析用基板(ban)，所(suo)(suo)述至(zhi)少1個磁體(ti)設置為能(neng)夠對于所(suo)(suo)述基體(ti)基板(ban)裝卸。

以下，參照附(fu)圖(tu)，對本(ben)申請的實施(shi)方式的一個(ge)技術方案(an)的試樣分析用基板和試樣分析裝置進(jin)行說明(ming)。

(實施方式1)

圖(tu)(tu)1A表(biao)(biao)示試樣(yang)分(fen)析(xi)用(yong)基板(ban)10的(de)(de)(de)外觀。圖(tu)(tu)1B表(biao)(biao)示試樣(yang)分(fen)析(xi)用(yong)基板(ban)10的(de)(de)(de)截面(mian)(mian)(mian)。在以下的(de)(de)(de)說明中，圖(tu)(tu)1A所示的(de)(de)(de)一(yi)側(ce)的(de)(de)(de)試樣(yang)分(fen)析(xi)用(yong)基板(ban)10的(de)(de)(de)平(ping)面(mian)(mian)(mian)稱為(wei)“上表(biao)(biao)面(mian)(mian)(mian)”，其相反側(ce)的(de)(de)(de)平(ping)面(mian)(mian)(mian)稱為(wei)“下表(biao)(biao)面(mian)(mian)(mian)”，夾(jia)在上表(biao)(biao)面(mian)(mian)(mian)和下表(biao)(biao)面(mian)(mian)(mian)之間的(de)(de)(de)面(mian)(mian)(mian)稱為(wei)“側(ce)面(mian)(mian)(mian)”。

在(zai)實施(shi)方式(shi)中，上(shang)(shang)表(biao)面(mian)(mian)(mian)(mian)和下(xia)表(biao)面(mian)(mian)(mian)(mian)作為(wei)具(ju)有與(yu)旋轉軸(zhou)P平(ping)行(xing)(xing)的(de)方向的(de)法線的(de)平(ping)面(mian)(mian)(mian)(mian)而進(jin)行(xing)(xing)說明。即(ji)，上(shang)(shang)表(biao)面(mian)(mian)(mian)(mian)和下(xia)表(biao)面(mian)(mian)(mian)(mian)作為(wei)與(yu)旋轉軸(zhou)P垂直(zhi)、并(bing)且(qie)互相平(ping)行(xing)(xing)而進(jin)行(xing)(xing)說明。然而，上(shang)(shang)表(biao)面(mian)(mian)(mian)(mian)和下(xia)表(biao)面(mian)(mian)(mian)(mian)不一(yi)定需要在(zai)整個面(mian)(mian)(mian)(mian)都平(ping)行(xing)(xing)。也(ye)可以是局部的(de)/非整體(ti)的(de)平(ping)行(xing)(xing)的(de)情況(kuang)。另外，也(ye)可以是上(shang)(shang)表(biao)面(mian)(mian)(mian)(mian)和下(xia)表(biao)面(mian)(mian)(mian)(mian)中的(de)至少一(yi)方具(ju)有凹(ao)部或凸部的(de)形狀。簡單地，將(jiang)試樣分(fen)析用(yong)基板10的(de)一(yi)側(ce)和另一(yi)側(ce)稱為(wei)“上(shang)(shang)表(biao)面(mian)(mian)(mian)(mian)”和“下(xia)表(biao)面(mian)(mian)(mian)(mian)”。此外圖1B表(biao)示包括旋轉軸(zhou)P的(de)平(ping)面(mian)(mian)(mian)(mian)的(de)試樣分(fen)析用(yong)基板10的(de)截面(mian)(mian)(mian)(mian)。

試(shi)(shi)(shi)(shi)樣(yang)(yang)分(fen)(fen)(fen)(fen)(fen)析用(yong)(yong)(yong)基(ji)(ji)板10作為(wei)整體具有(you)圓(yuan)盤形狀。試(shi)(shi)(shi)(shi)樣(yang)(yang)分(fen)(fen)(fen)(fen)(fen)析用(yong)(yong)(yong)基(ji)(ji)板10，例如(ru)，以(yi)在其內(nei)部(bu)注入有(you)液(ye)(ye)體的(de)狀態(tai)，放(fang)置(zhi)于下(xia)述的(de)試(shi)(shi)(shi)(shi)樣(yang)(yang)分(fen)(fen)(fen)(fen)(fen)析裝(zhuang)置(zhi)。試(shi)(shi)(shi)(shi)樣(yang)(yang)分(fen)(fen)(fen)(fen)(fen)析裝(zhuang)置(zhi)使試(shi)(shi)(shi)(shi)樣(yang)(yang)分(fen)(fen)(fen)(fen)(fen)析用(yong)(yong)(yong)基(ji)(ji)板10旋轉，由此將試(shi)(shi)(shi)(shi)樣(yang)(yang)分(fen)(fen)(fen)(fen)(fen)析用(yong)(yong)(yong)基(ji)(ji)板內(nei)的(de)液(ye)(ye)體移送、分(fen)(fen)(fen)(fen)(fen)配、混合。然后(hou)試(shi)(shi)(shi)(shi)樣(yang)(yang)分(fen)(fen)(fen)(fen)(fen)析裝(zhuang)置(zhi)，例如(ru)使試(shi)(shi)(shi)(shi)樣(yang)(yang)分(fen)(fen)(fen)(fen)(fen)析用(yong)(yong)(yong)基(ji)(ji)板10的(de)旋轉停止，對(dui)混合后(hou)的(de)液(ye)(ye)體進行(xing)光學分(fen)(fen)(fen)(fen)(fen)析。圖1A所示的(de)試(shi)(shi)(shi)(shi)樣(yang)(yang)分(fen)(fen)(fen)(fen)(fen)析用(yong)(yong)(yong)基(ji)(ji)板10的(de)旋轉軸(zhou)P是試(shi)(shi)(shi)(shi)樣(yang)(yang)分(fen)(fen)(fen)(fen)(fen)析裝(zhuang)置(zhi)使試(shi)(shi)(shi)(shi)樣(yang)(yang)分(fen)(fen)(fen)(fen)(fen)析用(yong)(yong)(yong)基(ji)(ji)板10旋轉時的(de)旋轉中心。此外，試(shi)(shi)(shi)(shi)樣(yang)(yang)分(fen)(fen)(fen)(fen)(fen)析用(yong)(yong)(yong)基(ji)(ji)板10以(yi)旋轉軸(zhou)P相對(dui)于鉛垂方向成0度(du)以(yi)上(shang)90度(du)以(yi)下(xia)的(de)范圍被支(zhi)撐，并在該狀態(tai)下(xia)旋轉。

試樣分(fen)(fen)(fen)(fen)析用基板(ban)10內(nei)的(de)(de)液(ye)(ye)(ye)體(ti)的(de)(de)移送、分(fen)(fen)(fen)(fen)配(pei)、混合(he)，利用形成(cheng)于內(nei)部的(de)(de)各(ge)種(zhong)腔(qiang)(qiang)(qiang)室(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)和流(liu)(liu)路(lu)(lu)而(er)進行。例(li)如，在試樣分(fen)(fen)(fen)(fen)析用基板(ban)10內(nei)設(she)置有第(di)(di)(di)(di)(di)(di)1腔(qiang)(qiang)(qiang)室(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)、第(di)(di)(di)(di)(di)(di)2腔(qiang)(qiang)(qiang)室(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)以(yi)及(ji)(ji)連結(jie)兩腔(qiang)(qiang)(qiang)室(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)間(jian)的(de)(de)流(liu)(liu)路(lu)(lu)的(de)(de)情況(kuang)下(xia)，注(zhu)入到(dao)第(di)(di)(di)(di)(di)(di)1腔(qiang)(qiang)(qiang)室(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)的(de)(de)液(ye)(ye)(ye)體(ti)經(jing)由(you)流(liu)(liu)路(lu)(lu)向第(di)(di)(di)(di)(di)(di)2腔(qiang)(qiang)(qiang)室(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)移送。另(ling)外，例(li)如，在試樣分(fen)(fen)(fen)(fen)析用基板(ban)10內(nei)設(she)置有第(di)(di)(di)(di)(di)(di)1腔(qiang)(qiang)(qiang)室(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)、第(di)(di)(di)(di)(di)(di)2腔(qiang)(qiang)(qiang)室(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)、第(di)(di)(di)(di)(di)(di)3腔(qiang)(qiang)(qiang)室(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)、連結(jie)第(di)(di)(di)(di)(di)(di)1腔(qiang)(qiang)(qiang)室(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)與(yu)第(di)(di)(di)(di)(di)(di)2腔(qiang)(qiang)(qiang)室(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)間(jian)的(de)(de)第(di)(di)(di)(di)(di)(di)1流(liu)(liu)路(lu)(lu)、以(yi)及(ji)(ji)連結(jie)第(di)(di)(di)(di)(di)(di)1腔(qiang)(qiang)(qiang)室(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)與(yu)第(di)(di)(di)(di)(di)(di)3腔(qiang)(qiang)(qiang)室(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)間(jian)的(de)(de)第(di)(di)(di)(di)(di)(di)2流(liu)(liu)路(lu)(lu)的(de)(de)情況(kuang)下(xia)，注(zhu)入到(dao)第(di)(di)(di)(di)(di)(di)1腔(qiang)(qiang)(qiang)室(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)的(de)(de)液(ye)(ye)(ye)體(ti)，經(jing)由(you)第(di)(di)(di)(di)(di)(di)1流(liu)(liu)路(lu)(lu)和第(di)(di)(di)(di)(di)(di)2流(liu)(liu)路(lu)(lu)向第(di)(di)(di)(di)(di)(di)2腔(qiang)(qiang)(qiang)室(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)和第(di)(di)(di)(di)(di)(di)3腔(qiang)(qiang)(qiang)室(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)分(fen)(fen)(fen)(fen)配(pei)。另(ling)外，例(li)如，在試樣分(fen)(fen)(fen)(fen)析用基板(ban)10內(nei)設(she)置有第(di)(di)(di)(di)(di)(di)1腔(qiang)(qiang)(qiang)室(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)、第(di)(di)(di)(di)(di)(di)2腔(qiang)(qiang)(qiang)室(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)、第(di)(di)(di)(di)(di)(di)3腔(qiang)(qiang)(qiang)室(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)、連結(jie)第(di)(di)(di)(di)(di)(di)1腔(qiang)(qiang)(qiang)室(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)與(yu)第(di)(di)(di)(di)(di)(di)3腔(qiang)(qiang)(qiang)室(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)間(jian)的(de)(de)第(di)(di)(di)(di)(di)(di)1流(liu)(liu)路(lu)(lu)、以(yi)及(ji)(ji)連結(jie)第(di)(di)(di)(di)(di)(di)2腔(qiang)(qiang)(qiang)室(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)和第(di)(di)(di)(di)(di)(di)3腔(qiang)(qiang)(qiang)室(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)間(jian)的(de)(de)第(di)(di)(di)(di)(di)(di)2流(liu)(liu)路(lu)(lu)的(de)(de)情況(kuang)下(xia)，注(zhu)入到(dao)第(di)(di)(di)(di)(di)(di)1和第(di)(di)(di)(di)(di)(di)2腔(qiang)(qiang)(qiang)室(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)的(de)(de)液(ye)(ye)(ye)體(ti)分(fen)(fen)(fen)(fen)別經(jing)由(you)第(di)(di)(di)(di)(di)(di)1流(liu)(liu)路(lu)(lu)和第(di)(di)(di)(di)(di)(di)2流(liu)(liu)路(lu)(lu)向第(di)(di)(di)(di)(di)(di)3腔(qiang)(qiang)(qiang)室(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)移送，并在第(di)(di)(di)(di)(di)(di)3腔(qiang)(qiang)(qiang)室(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)內(nei)混合(he)。

經由流(liu)(liu)(liu)路(lu)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)腔室(shi)(shi)間的(de)(de)(de)(de)(de)(de)液(ye)(ye)體(ti)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)移(yi)(yi)送(song)(song)可以(yi)(yi)通過各種各樣(yang)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)方(fang)(fang)法(fa)達(da)成(cheng)(cheng)。例(li)如，將(jiang)試(shi)(shi)樣(yang)分(fen)(fen)(fen)(fen)析(xi)(xi)用(yong)基板(ban)10傾斜(xie)支(zhi)(zhi)撐(cheng)(cheng)為旋轉(zhuan)(zhuan)軸(zhou)P相對于(yu)(yu)鉛(qian)(qian)垂方(fang)(fang)向(xiang)成(cheng)(cheng)0度(du)(du)以(yi)(yi)上90度(du)(du)以(yi)(yi)下的(de)(de)(de)(de)(de)(de)范(fan)圍(wei)(wei)。而且，通過變更(geng)(geng)試(shi)(shi)樣(yang)分(fen)(fen)(fen)(fen)析(xi)(xi)用(yong)基板(ban)10的(de)(de)(de)(de)(de)(de)旋轉(zhuan)(zhuan)角(jiao)度(du)(du)位置，將(jiang)液(ye)(ye)體(ti)存(cun)在(zai)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)移(yi)(yi)送(song)(song)源的(de)(de)(de)(de)(de)(de)腔室(shi)(shi)配(pei)置于(yu)(yu)比移(yi)(yi)送(song)(song)目的(de)(de)(de)(de)(de)(de)地的(de)(de)(de)(de)(de)(de)腔室(shi)(shi)更(geng)(geng)高的(de)(de)(de)(de)(de)(de)位置。“高”是(shi)(shi)指在(zai)鉛(qian)(qian)垂方(fang)(fang)向(xiang)上處于(yu)(yu)更(geng)(geng)上面(mian)。由此，能夠(gou)利用(yong)重(zhong)力將(jiang)液(ye)(ye)體(ti)移(yi)(yi)送(song)(song)到(dao)其他的(de)(de)(de)(de)(de)(de)腔室(shi)(shi)。該情(qing)況(kuang)，連結(jie)腔室(shi)(shi)間的(de)(de)(de)(de)(de)(de)流(liu)(liu)(liu)路(lu)不(bu)是(shi)(shi)毛(mao)細(xi)(xi)(xi)管(guan)(guan)(guan)(guan)流(liu)(liu)(liu)路(lu)。另外(wai)，優(you)選將(jiang)試(shi)(shi)樣(yang)分(fen)(fen)(fen)(fen)析(xi)(xi)用(yong)基板(ban)10傾斜(xie)支(zhi)(zhi)撐(cheng)(cheng)為旋轉(zhuan)(zhuan)軸(zhou)P相對于(yu)(yu)鉛(qian)(qian)垂方(fang)(fang)向(xiang)成(cheng)(cheng)5度(du)(du)以(yi)(yi)上。另外(wai)，更(geng)(geng)加(jia)優(you)選將(jiang)試(shi)(shi)樣(yang)分(fen)(fen)(fen)(fen)析(xi)(xi)用(yong)基板(ban)10傾斜(xie)支(zhi)(zhi)撐(cheng)(cheng)為旋轉(zhuan)(zhuan)軸(zhou)P相對于(yu)(yu)鉛(qian)(qian)垂方(fang)(fang)向(xiang)成(cheng)(cheng)10度(du)(du)以(yi)(yi)上45度(du)(du)以(yi)(yi)下。進而，更(geng)(geng)優(you)選將(jiang)試(shi)(shi)樣(yang)分(fen)(fen)(fen)(fen)析(xi)(xi)用(yong)基板(ban)10傾斜(xie)支(zhi)(zhi)撐(cheng)(cheng)為旋轉(zhuan)(zhuan)軸(zhou)P相對于(yu)(yu)鉛(qian)(qian)垂方(fang)(fang)向(xiang)成(cheng)(cheng)20度(du)(du)以(yi)(yi)上30度(du)(du)以(yi)(yi)下的(de)(de)(de)(de)(de)(de)范(fan)圍(wei)(wei)。這是(shi)(shi)因(yin)為，在(zai)以(yi)(yi)小(xiao)于(yu)(yu)5度(du)(du)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)角(jiao)度(du)(du)傾斜(xie)支(zhi)(zhi)撐(cheng)(cheng)試(shi)(shi)樣(yang)分(fen)(fen)(fen)(fen)析(xi)(xi)用(yong)基板(ban)10時，存(cun)在(zai)試(shi)(shi)樣(yang)分(fen)(fen)(fen)(fen)析(xi)(xi)用(yong)基板(ban)10內(nei)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)液(ye)(ye)體(ti)受到(dao)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)重(zhong)力太小(xiao)而難以(yi)(yi)得到(dao)移(yi)(yi)送(song)(song)所需要(yao)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)驅動力的(de)(de)(de)(de)(de)(de)情(qing)況(kuang)。“毛(mao)細(xi)(xi)(xi)管(guan)(guan)(guan)(guan)流(liu)(liu)(liu)路(lu)”是(shi)(shi)指，能夠(gou)通過毛(mao)細(xi)(xi)(xi)管(guan)(guan)(guan)(guan)(capillary tube)現(xian)象將(jiang)液(ye)(ye)體(ti)充滿毛(mao)細(xi)(xi)(xi)管(guan)(guan)(guan)(guan)流(liu)(liu)(liu)路(lu)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)內(nei)部的(de)(de)(de)(de)(de)(de)具(ju)有(you)狹小(xiao)空間的(de)(de)(de)(de)(de)(de)流(liu)(liu)(liu)路(lu)。毛(mao)細(xi)(xi)(xi)管(guan)(guan)(guan)(guan)也稱為毛(mao)細(xi)(xi)(xi)管(guan)(guan)(guan)(guan)道(capillary channel)。例(li)如，與(yu)毛(mao)細(xi)(xi)(xi)管(guan)(guan)(guan)(guan)流(liu)(liu)(liu)路(lu)延伸(shen)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)方(fang)(fang)向(xiang)垂直的(de)(de)(de)(de)(de)(de)截面(mian)可以(yi)(yi)具(ju)有(you)0.1mm～5mm的(de)(de)(de)(de)(de)(de)寬度(du)(du)和(he)50μm～300μm的(de)(de)(de)(de)(de)(de)深度(du)(du)，也可以(yi)(yi)具(ju)有(you)50μm以(yi)(yi)上(優(you)選的(de)(de)(de)(de)(de)(de)是(shi)(shi)50μm～300μm)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)寬度(du)(du)和(he)0.1mm～5mm的(de)(de)(de)(de)(de)(de)深度(du)(du)、5mm以(yi)(yi)下的(de)(de)(de)(de)(de)(de)寬度(du)(du)和(he)50μm～300μm的(de)(de)(de)(de)(de)(de)深度(du)(du)。

針對(dui)毛(mao)(mao)(mao)細(xi)(xi)(xi)管(guan)(guan)(guan)(guan)(guan)流(liu)(liu)(liu)(liu)(liu)路(lu)(lu)(lu)的(de)(de)(de)(de)(de)液(ye)體(ti)的(de)(de)(de)(de)(de)移送，例示說明具有(you)非(fei)毛(mao)(mao)(mao)細(xi)(xi)(xi)管(guan)(guan)(guan)(guan)(guan)空(kong)間的(de)(de)(de)(de)(de)第(di)(di)(di)(di)1腔(qiang)(qiang)(qiang)(qiang)(qiang)室(shi)(shi)(shi)(shi)、第(di)(di)(di)(di)2腔(qiang)(qiang)(qiang)(qiang)(qiang)室(shi)(shi)(shi)(shi)以及連接(jie)第(di)(di)(di)(di)1腔(qiang)(qiang)(qiang)(qiang)(qiang)室(shi)(shi)(shi)(shi)和第(di)(di)(di)(di)2腔(qiang)(qiang)(qiang)(qiang)(qiang)室(shi)(shi)(shi)(shi)的(de)(de)(de)(de)(de)毛(mao)(mao)(mao)細(xi)(xi)(xi)管(guan)(guan)(guan)(guan)(guan)流(liu)(liu)(liu)(liu)(liu)路(lu)(lu)(lu)的(de)(de)(de)(de)(de)結構。第(di)(di)(di)(di)1腔(qiang)(qiang)(qiang)(qiang)(qiang)室(shi)(shi)(shi)(shi)所保(bao)持的(de)(de)(de)(de)(de)液(ye)體(ti)在(zai)(zai)(zai)(zai)與作為第(di)(di)(di)(di)1腔(qiang)(qiang)(qiang)(qiang)(qiang)室(shi)(shi)(shi)(shi)和毛(mao)(mao)(mao)細(xi)(xi)(xi)管(guan)(guan)(guan)(guan)(guan)流(liu)(liu)(liu)(liu)(liu)路(lu)(lu)(lu)的(de)(de)(de)(de)(de)連接(jie)部分(fen)的(de)(de)(de)(de)(de)開口(kou)接(jie)觸(chu)時，液(ye)體(ti)因毛(mao)(mao)(mao)細(xi)(xi)(xi)管(guan)(guan)(guan)(guan)(guan)力被(bei)吸(xi)引到毛(mao)(mao)(mao)細(xi)(xi)(xi)管(guan)(guan)(guan)(guan)(guan)流(liu)(liu)(liu)(liu)(liu)路(lu)(lu)(lu)內(nei)(nei)(nei)，并由(you)液(ye)體(ti)充(chong)滿該流(liu)(liu)(liu)(liu)(liu)路(lu)(lu)(lu)內(nei)(nei)(nei)部。在(zai)(zai)(zai)(zai)此(ci)，考慮以因試(shi)樣(yang)(yang)分(fen)析(xi)用(yong)基板(ban)100的(de)(de)(de)(de)(de)旋轉(zhuan)(zhuan)(zhuan)而毛(mao)(mao)(mao)細(xi)(xi)(xi)管(guan)(guan)(guan)(guan)(guan)流(liu)(liu)(liu)(liu)(liu)路(lu)(lu)(lu)內(nei)(nei)(nei)的(de)(de)(de)(de)(de)液(ye)體(ti)所受的(de)(de)(de)(de)(de)離心力為毛(mao)(mao)(mao)細(xi)(xi)(xi)管(guan)(guan)(guan)(guan)(guan)流(liu)(liu)(liu)(liu)(liu)路(lu)(lu)(lu)內(nei)(nei)(nei)的(de)(de)(de)(de)(de)液(ye)體(ti)所受的(de)(de)(de)(de)(de)毛(mao)(mao)(mao)細(xi)(xi)(xi)管(guan)(guan)(guan)(guan)(guan)力以下(xia)的(de)(de)(de)(de)(de)轉(zhuan)(zhuan)(zhuan)速，使試(shi)樣(yang)(yang)分(fen)析(xi)用(yong)基板(ban)100旋轉(zhuan)(zhuan)(zhuan)的(de)(de)(de)(de)(de)狀態(也包括試(shi)樣(yang)(yang)分(fen)析(xi)用(yong)基板(ban)100的(de)(de)(de)(de)(de)旋轉(zhuan)(zhuan)(zhuan)停止狀態。)。在(zai)(zai)(zai)(zai)該狀態下(xia)，毛(mao)(mao)(mao)細(xi)(xi)(xi)管(guan)(guan)(guan)(guan)(guan)流(liu)(liu)(liu)(liu)(liu)路(lu)(lu)(lu)內(nei)(nei)(nei)的(de)(de)(de)(de)(de)液(ye)體(ti)不向第(di)(di)(di)(di)2腔(qiang)(qiang)(qiang)(qiang)(qiang)室(shi)(shi)(shi)(shi)移送，而保(bao)留(liu)在(zai)(zai)(zai)(zai)毛(mao)(mao)(mao)細(xi)(xi)(xi)管(guan)(guan)(guan)(guan)(guan)空(kong)間內(nei)(nei)(nei)。為了這樣(yang)(yang)通過毛(mao)(mao)(mao)細(xi)(xi)(xi)管(guan)(guan)(guan)(guan)(guan)現(xian)象(xiang)在(zai)(zai)(zai)(zai)毛(mao)(mao)(mao)細(xi)(xi)(xi)管(guan)(guan)(guan)(guan)(guan)流(liu)(liu)(liu)(liu)(liu)路(lu)(lu)(lu)內(nei)(nei)(nei)部充(chong)滿液(ye)體(ti)，則(ze)在(zai)(zai)(zai)(zai)第(di)(di)(di)(di)2腔(qiang)(qiang)(qiang)(qiang)(qiang)室(shi)(shi)(shi)(shi)側、即毛(mao)(mao)(mao)細(xi)(xi)(xi)管(guan)(guan)(guan)(guan)(guan)流(liu)(liu)(liu)(liu)(liu)路(lu)(lu)(lu)的(de)(de)(de)(de)(de)出口(kou)側必(bi)須(xu)具備空(kong)氣(qi)孔(kong)(外(wai)部環(huan)境(jing)與腔(qiang)(qiang)(qiang)(qiang)(qiang)室(shi)(shi)(shi)(shi)的(de)(de)(de)(de)(de)空(kong)氣(qi)的(de)(de)(de)(de)(de)通道)。另外(wai)，為了在(zai)(zai)(zai)(zai)第(di)(di)(di)(di)1腔(qiang)(qiang)(qiang)(qiang)(qiang)室(shi)(shi)(shi)(shi)、第(di)(di)(di)(di)2腔(qiang)(qiang)(qiang)(qiang)(qiang)室(shi)(shi)(shi)(shi)以及毛(mao)(mao)(mao)細(xi)(xi)(xi)管(guan)(guan)(guan)(guan)(guan)流(liu)(liu)(liu)(liu)(liu)路(lu)(lu)(lu)等(deng)封閉(bi)的(de)(de)(de)(de)(de)空(kong)間內(nei)(nei)(nei)進(jin)行通過毛(mao)(mao)(mao)細(xi)(xi)(xi)管(guan)(guan)(guan)(guan)(guan)現(xian)象(xiang)的(de)(de)(de)(de)(de)液(ye)體(ti)的(de)(de)(de)(de)(de)移送，由(you)于各腔(qiang)(qiang)(qiang)(qiang)(qiang)室(shi)(shi)(shi)(shi)和流(liu)(liu)(liu)(liu)(liu)路(lu)(lu)(lu)內(nei)(nei)(nei)的(de)(de)(de)(de)(de)氣(qi)壓(ya)的(de)(de)(de)(de)(de)關系，在(zai)(zai)(zai)(zai)第(di)(di)(di)(di)1腔(qiang)(qiang)(qiang)(qiang)(qiang)室(shi)(shi)(shi)(shi)側，即毛(mao)(mao)(mao)細(xi)(xi)(xi)管(guan)(guan)(guan)(guan)(guan)流(liu)(liu)(liu)(liu)(liu)路(lu)(lu)(lu)的(de)(de)(de)(de)(de)入口(kou)側也必(bi)須(xu)設置空(kong)氣(qi)孔(kong)。

接著(zhu)，在毛細(xi)(xi)管(guan)(guan)流路被液體(ti)充滿的(de)(de)狀態(tai)下(xia)，以(yi)因試樣分析(xi)用基板100的(de)(de)旋(xuan)轉(zhuan)毛細(xi)(xi)管(guan)(guan)流路內的(de)(de)液體(ti)所受離心(xin)力大于(yu)(yu)毛細(xi)(xi)管(guan)(guan)流路內的(de)(de)液體(ti)所受的(de)(de)毛細(xi)(xi)管(guan)(guan)力的(de)(de)轉(zhuan)速(su)，使試樣分析(xi)用基板100旋(xuan)轉(zhuan)。若第(di)(di)2腔室(shi)(shi)配置于(yu)(yu)相對(dui)于(yu)(yu)旋(xuan)轉(zhuan)軸(zhou)P比(bi)第(di)(di)1腔室(shi)(shi)相對(dui)于(yu)(yu)旋(xuan)轉(zhuan)軸(zhou)P更(geng)遠的(de)(de)位置，則能夠將第(di)(di)1腔室(shi)(shi)中的(de)(de)液體(ti)向第(di)(di)2腔室(shi)(shi)移送。

此外，通過(guo)對毛細(xi)管流路內的壁面(mian)實施(shi)親(qin)水(shui)性處(chu)理(li)(li)，能(neng)(neng)夠(gou)提高毛細(xi)管力。親(qin)水(shui)性處(chu)理(li)(li)能(neng)(neng)夠(gou)在(zai)第1腔室4的壁面(mian)和/或(huo)各液體試樣的點樣口進(jin)行非(fei)離(li)子(zi)(zi)系(xi)(xi)、陽離(li)子(zi)(zi)系(xi)(xi)、陰離(li)子(zi)(zi)系(xi)(xi)或(huo)雙離(li)子(zi)(zi)系(xi)(xi)的界面(mian)活性劑的涂(tu)敷、電暈放電處(chu)理(li)(li)、在(zai)表面(mian)物理(li)(li)地設置(zhi)細(xi)微的凹凸等來(lai)進(jin)行(例如，參照日本特開2007-3361號公報)。

試樣(yang)分析用基板(ban)10的(de)形(xing)狀(zhuang)(zhuang)(zhuang)(zhuang)無(wu)需為(wei)圓盤狀(zhuang)(zhuang)(zhuang)(zhuang)。例如試樣(yang)分析用基板(ban)10的(de)形(xing)狀(zhuang)(zhuang)(zhuang)(zhuang)也可(ke)以是扇形(xing)狀(zhuang)(zhuang)(zhuang)(zhuang)，可(ke)以選(xuan)取(qu)正方(fang)形(xing)狀(zhuang)(zhuang)(zhuang)(zhuang)、長方(fang)形(xing)狀(zhuang)(zhuang)(zhuang)(zhuang)、菱形(xing)狀(zhuang)(zhuang)(zhuang)(zhuang)、六角形(xing)狀(zhuang)(zhuang)(zhuang)(zhuang)等各種(zhong)各樣(yang)的(de)形(xing)狀(zhuang)(zhuang)(zhuang)(zhuang)。

試樣分析用基(ji)(ji)板10具備：基(ji)(ji)體(ti)基(ji)(ji)板12、磁體(ti)16a、平衡件16b、磁體(ti)容納室18a、以及平衡件容納室18b。

基體基板12為具(ju)(ju)有(you)預定的厚度的部件，并且具(ju)(ju)有(you)上(shang)述的旋轉軸P。基體基板12優選使用例如丙烯酸(suan)、聚碳酸(suan)酯、聚苯乙(yi)烯等材質，且形(xing)成為透射(she)率在60％以上(shang)。

磁(ci)體(ti)16a設置為用于上述的B/F分離(li)。磁(ci)體(ti)16a只要是(shi)通常用于采用使用了磁(ci)顆粒的競爭法的免(mian)疫(yi)測定法的磁(ci)體(ti)即(ji)可，例如釹磁(ci)體(ti)、鐵氧體(ti)磁(ci)體(ti)。圖(tu)1B表示(shi)反應(ying)腔(qiang)室14。反應(ying)腔(qiang)室14為，至少在(zai)B/F分離(li)下(xia)，可利用磁(ci)體(ti)捕捉磁(ci)性(xing)顆粒的空間。

在(zai)(zai)本實施方式中(zhong)，磁體16a能(neng)夠在(zai)(zai)基體基板12的磁體容(rong)納室18a中(zhong)插拔(ba)。插拔(ba)從試樣(yang)分析用基板10的上(shang)表(biao)面(mian)進行(xing)。

磁體(ti)(ti)(ti)16a被(bei)插(cha)入接近反應腔室14的(de)壁(bi)面的(de)位置。該壁(bi)面是(shi)與離心力(li)所(suo)(suo)作(zuo)(zuo)用(yong)(yong)的(de)方向垂直(zhi)的(de)面。離心力(li)是(shi)，隨著試(shi)樣(yang)分(fen)析用(yong)(yong)基(ji)板(ban)10的(de)旋轉，包含磁性(xing)顆粒的(de)液(ye)體(ti)(ti)(ti)試(shi)樣(yang)所(suo)(suo)受的(de)在(zai)外周(zhou)方向上作(zuo)(zuo)用(yong)(yong)的(de)力(li)。設置有磁體(ti)(ti)(ti)16a的(de)一側的(de)反應腔室14的(de)壁(bi)面在(zai)試(shi)樣(yang)分(fen)析用(yong)(yong)基(ji)板(ban)10的(de)旋轉期間，對抗離心力(li)而支撐(cheng)液(ye)體(ti)(ti)(ti)試(shi)樣(yang)。

平(ping)衡件(jian)(jian)16b設(she)置為(wei)用(yong)于(yu)使試樣(yang)(yang)分(fen)析用(yong)基板10的重心在旋轉軸P上大(da)致一(yi)致。將磁體16a安(an)裝于(yu)試樣(yang)(yang)分(fen)析用(yong)基板10，由此(ci)試樣(yang)(yang)分(fen)析用(yong)基板10的重心從旋轉軸P偏離。因此(ci)，通過平(ping)衡件(jian)(jian)16b，來調整重心位置。此(ci)外，平(ping)衡件(jian)(jian)16b的形狀(zhuang)和(he)材質(zhi)沒有(you)特(te)別地限定。

“重(zhong)心(xin)大致一(yi)致”是表示也(ye)可以不(bu)(bu)嚴格一(yi)致。其理由為，因(yin)為在未導(dao)入試(shi)(shi)樣(yang)(yang)的(de)(de)試(shi)(shi)樣(yang)(yang)分析用(yong)基(ji)(ji)板10和已導(dao)入的(de)(de)試(shi)(shi)樣(yang)(yang)分析用(yong)基(ji)(ji)板10中(zhong)，本來重(zhong)心(xin)的(de)(de)位(wei)置就不(bu)(bu)同。而且(qie)因(yin)試(shi)(shi)樣(yang)(yang)的(de)(de)移送等也(ye)會改變重(zhong)心(xin)的(de)(de)位(wei)置。由此在未使(shi)用(yong)的(de)(de)試(shi)(shi)樣(yang)(yang)分析用(yong)基(ji)(ji)板10中(zhong)，重(zhong)心(xin)也(ye)可以不(bu)(bu)在旋轉軸P上嚴格一(yi)致。即，“大致一(yi)致”為下述的(de)(de)試(shi)(shi)樣(yang)(yang)分析裝置1能夠至少以預定的(de)(de)旋轉速(su)度使(shi)試(shi)(shi)樣(yang)(yang)分析用(yong)基(ji)(ji)板10旋轉的(de)(de)重(zhong)心(xin)的(de)(de)狀態，所述試(shi)(shi)樣(yang)(yang)分析用(yong)基(ji)(ji)板10保持各種液體、磁體16a和平衡(heng)件16b。

平(ping)衡(heng)件16b能夠在基體(ti)基板12的平(ping)衡(heng)件容納室(shi)18b中插(cha)(cha)拔(ba)。插(cha)(cha)拔(ba)從試(shi)樣分(fen)析用基板10的上(shang)表面(mian)進行(xing)。

在磁(ci)(ci)體(ti)16a與平(ping)(ping)衡件(jian)16b配置為(wei)(wei)關于旋轉(zhuan)軸(zhou)P對稱(cheng)的(de)(de)(de)情況下，只要磁(ci)(ci)體(ti)16a和平(ping)(ping)衡件(jian)16b具(ju)有(you)相同的(de)(de)(de)重量(liang)即可(ke)。另一(yi)方面(mian)，在磁(ci)(ci)體(ti)16a與平(ping)(ping)衡件(jian)16b配置為(wei)(wei)不關于旋轉(zhuan)軸(zhou)P對稱(cheng)的(de)(de)(de)情況下，需要根據彼此的(de)(de)(de)位置調整(zheng)磁(ci)(ci)體(ti)16a和平(ping)(ping)衡件(jian)16b的(de)(de)(de)各重量(liang)。具(ju)體(ti)的(de)(de)(de)重量(liang)能夠在試樣分析(xi)用基板10的(de)(de)(de)設計時預先(xian)特定。此外，磁(ci)(ci)體(ti)16a和平(ping)(ping)衡件(jian)16b各自的(de)(de)(de)數(shu)量(liang)，也(ye)可(ke)以不是(shi)1個(ge)，而(er)為(wei)(wei)多(duo)個(ge)。

使用(yong)者在(zai)將磁體16a和(he)(he)平(ping)衡(heng)(heng)件(jian)16b分別插(cha)入磁體容納室18a和(he)(he)平(ping)衡(heng)(heng)件(jian)容納室18b時，有可能(neng)插(cha)錯。為了防止這樣的(de)插(cha)錯，既可以使磁體16a和(he)(he)平(ping)衡(heng)(heng)件(jian)16b的(de)形狀彼此(ci)不同，也可以對磁體16a和(he)(he)平(ping)衡(heng)(heng)件(jian)16b中的(de)至少一方標記用(yong)于(yu)能(neng)夠識別另一方的(de)顏(yan)色(se)、記號、文字(zi)。

磁(ci)(ci)體容(rong)納室(shi)18a和(he)平(ping)(ping)衡(heng)件(jian)容(rong)納室(shi)18b為分(fen)別容(rong)納磁(ci)(ci)體16a和(he)平(ping)(ping)衡(heng)件(jian)16b的空(kong)間。磁(ci)(ci)體容(rong)納室(shi)18a和(he)平(ping)(ping)衡(heng)件(jian)容(rong)納室(shi)18b為，例如在基體基板12設置為適合磁(ci)(ci)體16a和(he)平(ping)(ping)衡(heng)件(jian)16b的形狀的凹部。

圖1C表示磁(ci)體16a和平衡(heng)件(jian)16b分別容(rong)納(na)于磁(ci)體容(rong)納(na)室(shi)18a和平衡(heng)件(jian)容(rong)納(na)室(shi)18b的狀態的試樣分析用基板10。

也可以是磁(ci)體(ti)16a和平(ping)衡(heng)件(jian)16b中的一方或雙方固定地設(she)置于(yu)基(ji)(ji)(ji)體(ti)基(ji)(ji)(ji)板12。例如也可以制造、使(shi)用、銷售磁(ci)體(ti)16a和平(ping)衡(heng)件(jian)16b雙方均固定于(yu)基(ji)(ji)(ji)體(ti)基(ji)(ji)(ji)板12的試樣分析用基(ji)(ji)(ji)板10。圖1C表示(shi)磁(ci)體(ti)16a固定地設(she)置于(yu)基(ji)(ji)(ji)體(ti)基(ji)(ji)(ji)板12時的試樣分析用基(ji)(ji)(ji)板10的截(jie)面。

進(jin)一步，在(zai)(zai)(zai)磁(ci)(ci)(ci)(ci)(ci)體(ti)16a固定(ding)地設置(zhi)于基體(ti)基板12的(de)(de)(de)情況下(xia)，磁(ci)(ci)(ci)(ci)(ci)體(ti)16a的(de)(de)(de)位(wei)置(zhi)可(ke)(ke)以根據設計(ji)適宜變更。基體(ti)基板12中的(de)(de)(de)磁(ci)(ci)(ci)(ci)(ci)體(ti)16a的(de)(de)(de)位(wei)置(zhi)只要(yao)能(neng)(neng)夠(gou)(gou)在(zai)(zai)(zai)反(fan)應(ying)腔室(shi)(shi)(shi)14內(nei)(nei)的(de)(de)(de)任一個(ge)壁(bi)面捕捉(zhuo)(zhuo)磁(ci)(ci)(ci)(ci)(ci)性顆(ke)粒(即，只要(yao)能(neng)(neng)夠(gou)(gou)在(zai)(zai)(zai)腔室(shi)(shi)(shi)內(nei)(nei)捕捉(zhuo)(zhuo)磁(ci)(ci)(ci)(ci)(ci)性顆(ke)粒)即可(ke)(ke)，沒有特(te)別地限定(ding)。例如也可(ke)(ke)以將磁(ci)(ci)(ci)(ci)(ci)體(ti)16a設置(zhi)于反(fan)應(ying)腔室(shi)(shi)(shi)14的(de)(de)(de)底(di)面。當然(ran)，也可(ke)(ke)以構(gou)成為在(zai)(zai)(zai)能(neng)(neng)夠(gou)(gou)插(cha)拔(ba)的(de)(de)(de)狀態(tai)下(xia)將磁(ci)(ci)(ci)(ci)(ci)體(ti)16a插(cha)入(ru)反(fan)應(ying)腔室(shi)(shi)(shi)14的(de)(de)(de)底(di)面。例如也可(ke)(ke)以將磁(ci)(ci)(ci)(ci)(ci)體(ti)16a設置(zhi)于反(fan)應(ying)腔室(shi)(shi)(shi)的(de)(de)(de)上表面。當然(ran)，也可(ke)(ke)以構(gou)成為在(zai)(zai)(zai)能(neng)(neng)夠(gou)(gou)插(cha)拔(ba)的(de)(de)(de)狀態(tai)下(xia)將磁(ci)(ci)(ci)(ci)(ci)體(ti)16a插(cha)入(ru)反(fan)應(ying)腔室(shi)(shi)(shi)14的(de)(de)(de)上表面。

圖2A和圖2B表示與(yu)試(shi)樣分(fen)析用基板10的磁體16a和平衡件16b相(xiang)關的變形例。

在(zai)圖(tu)1A～圖(tu)1C中，磁(ci)體(ti)16a和(he)(he)平衡件(jian)16b的(de)(de)上部容納于試樣分析(xi)(xi)用(yong)(yong)基板10的(de)(de)上表面(mian)內(nei)或(huo)與上表面(mian)同(tong)一(yi)水平的(de)(de)平面(mian)。在(zai)圖(tu)2A和(he)(he)圖(tu)2B的(de)(de)例中，磁(ci)體(ti)16a和(he)(he)平衡件(jian)16b的(de)(de)上部從(cong)試樣分析(xi)(xi)用(yong)(yong)基板10的(de)(de)上表面(mian)僅突出長(chang)度d(參(can)照(zhao)圖(tu)2B)。由此，磁(ci)體(ti)16a和(he)(he)平衡件(jian)16b的(de)(de)拆卸(xie)變得容易。特別是，將試樣分析(xi)(xi)用(yong)(yong)基板10從(cong)試樣分析(xi)(xi)裝(zhuang)置拆卸(xie)前，從(cong)固(gu)定于試樣分析(xi)(xi)裝(zhuang)置的(de)(de)試樣分析(xi)(xi)用(yong)(yong)基板10拔出磁(ci)體(ti)16a和(he)(he)平衡件(jian)16b變得容易。

圖(tu)3表示本實施方式的(de)(de)試樣分析裝置1的(de)(de)結(jie)構。

試樣(yang)(yang)分(fen)(fen)析(xi)(xi)裝(zhuang)置(zhi)1使裝(zhuang)填(放(fang)置(zhi))后的(de)試樣(yang)(yang)分(fen)(fen)析(xi)(xi)用基板10順時針(zhen)或逆時針(zhen)旋轉(zhuan)、擺動、并(bing)在(zai)預先(xian)決定的(de)位置(zhi)停止(zhi)。由此，試樣(yang)(yang)分(fen)(fen)析(xi)(xi)裝(zhuang)置(zhi)1能夠移(yi)送、混合、分(fen)(fen)析(xi)(xi)試樣(yang)(yang)分(fen)(fen)析(xi)(xi)用基板10內的(de)反應腔室14內的(de)液體。

試(shi)樣分(fen)析(xi)(xi)裝(zhuang)(zhuang)置1具有：馬(ma)達20、驅動電路(lu)22、操(cao)作部24、磁體檢測機構26、控(kong)制電路(lu)30、以及顯示裝(zhuang)(zhuang)置32。試(shi)樣分(fen)析(xi)(xi)用基板10，其下表面能(neng)夠在試(shi)樣分(fen)析(xi)(xi)裝(zhuang)(zhuang)置1上裝(zhuang)(zhuang)卸(xie)，不是(shi)構成(cheng)試(shi)樣分(fen)析(xi)(xi)裝(zhuang)(zhuang)置1的要(yao)素(su)。以下，對試(shi)樣分(fen)析(xi)(xi)裝(zhuang)(zhuang)置1的各(ge)構成(cheng)要(yao)素(su)的概要(yao)進行說(shuo)明。

馬(ma)達(da)20例如是具有永久磁體(ti)的旋(xuan)(xuan)(xuan)轉(zhuan)(zhuan)(zhuan)轉(zhuan)(zhuan)(zhuan)子和繞(rao)組(zu)的無刷(shua)馬(ma)達(da)。例如，旋(xuan)(xuan)(xuan)轉(zhuan)(zhuan)(zhuan)轉(zhuan)(zhuan)(zhuan)子為(wei)(wei)12極(ji)，繞(rao)組(zu)為(wei)(wei)3相(xiang)。在(zai)無刷(shua)馬(ma)達(da)20上設置(zhi)(zhi)有多個(ge)霍爾(er)元件。在(zai)試(shi)樣(yang)(yang)分(fen)(fen)析(xi)(xi)用基(ji)板10放置(zhi)(zhi)于(yu)試(shi)樣(yang)(yang)分(fen)(fen)析(xi)(xi)裝(zhuang)置(zhi)(zhi)1時(shi)，馬(ma)達(da)20的旋(xuan)(xuan)(xuan)轉(zhuan)(zhuan)(zhuan)軸(zhou)與試(shi)樣(yang)(yang)分(fen)(fen)析(xi)(xi)用基(ji)板10的旋(xuan)(xuan)(xuan)轉(zhuan)(zhuan)(zhuan)軸(zhou)P一致，由此，馬(ma)達(da)20能夠使試(shi)樣(yang)(yang)分(fen)(fen)析(xi)(xi)用基(ji)板10旋(xuan)(xuan)(xuan)轉(zhuan)(zhuan)(zhuan)。如上所(suo)述，通過(guo)調整將試(shi)樣(yang)(yang)分(fen)(fen)析(xi)(xi)用基(ji)板10安裝(zhuang)于(yu)試(shi)樣(yang)(yang)分(fen)(fen)析(xi)(xi)裝(zhuang)置(zhi)(zhi)1的角度，馬(ma)達(da)20以旋(xuan)(xuan)(xuan)轉(zhuan)(zhuan)(zhuan)軸(zhou)P相(xiang)對于(yu)鉛垂方(fang)向的傾(qing)斜成0度以上90度以下使試(shi)樣(yang)(yang)分(fen)(fen)析(xi)(xi)用基(ji)板10旋(xuan)(xuan)(xuan)轉(zhuan)(zhuan)(zhuan)。

此外，馬(ma)達(da)20也可(ke)以是(shi)有刷馬(ma)達(da)，還可(ke)以是(shi)步進馬(ma)達(da)。只要馬(ma)達(da)20的(de)運動作為使試樣分(fen)析用(yong)基板10旋轉的(de)運動而被傳遞即可(ke)。

驅動電(dian)路22主要(yao)具有逆變器(qi)電(dian)路和控制該逆變器(qi)電(dian)路的(de)工(gong)作(zuo)的(de)電(dian)路(均未圖示)。驅動電(dian)路22配合馬(ma)達20的(de)旋轉(zhuan)轉(zhuan)子的(de)旋轉(zhuan)而進(jin)行流向馬(ma)達20的(de)3相的(de)繞組的(de)電(dian)流的(de)切換(huan)，從而控制馬(ma)達20的(de)旋轉(zhuan)。

操作(zuo)部24，例如是觸摸(mo)板(ban)、鍵盤(pan)等輸入(ru)(ru)裝置，使用者用其(qi)對試樣分析裝置1的操作(zuo)進行需(xu)要的輸入(ru)(ru)。操作(zuo)部24也可(ke)以用于開始下述的磁體檢測處(chu)理(li)。

磁(ci)(ci)體(ti)檢測(ce)機構26在測(ce)定時對磁(ci)(ci)體(ti)16a是(shi)否設置于試樣分析用基板10進行檢測(ce)。根據檢測(ce)方(fang)法(fa)，磁(ci)(ci)體(ti)檢測(ce)機構26的具(ju)體(ti)的結構不同。在以下(xia)對多(duo)個結構進行說明。

控(kong)(kong)制(zhi)電路(lu)(lu)30，例如(ru)是設置(zhi)于試樣分析裝(zhuang)置(zhi)1的(de)(de)CPU。控(kong)(kong)制(zhi)電路(lu)(lu)30執行讀入RAM(未圖(tu)示(shi))的(de)(de)計算機(ji)(ji)程序(xu)，由此(ci)按照該(gai)計算機(ji)(ji)程序(xu)的(de)(de)步驟(zou)向其(qi)他的(de)(de)電路(lu)(lu)發(fa)送命令(ling)。接(jie)受該(gai)命令(ling)的(de)(de)各電路(lu)(lu)，如(ru)本說明書的(de)(de)以(yi)下所說明的(de)(de)那(nei)樣進行工作，從而實現各電路(lu)(lu)的(de)(de)功能。來自控(kong)(kong)制(zhi)電路(lu)(lu)30的(de)(de)命令(ling)，例如(ru)如(ru)圖(tu)3所示(shi)，發(fa)送至(zhi)驅動(dong)電路(lu)(lu)22、操作部24、磁體(ti)檢測機(ji)(ji)構26、以(yi)及顯示(shi)裝(zhuang)置(zhi)32等。計算機(ji)(ji)程序(xu)的(de)(de)步驟(zou)由附圖(tu)中的(de)(de)流程圖(tu)表示(shi)。

此外，讀(du)入計(ji)(ji)算(suan)機(ji)程序(xu)(xu)的(de)RAM，換言(yan)之，儲(chu)存(cun)(cun)計(ji)(ji)算(suan)機(ji)程序(xu)(xu)的(de)RAM既可以(yi)是(shi)(shi)(shi)易(yi)(yi)失(shi)(shi)(shi)性(xing)(xing)(xing)(xing)的(de)，也可以(yi)是(shi)(shi)(shi)非(fei)(fei)(fei)(fei)易(yi)(yi)失(shi)(shi)(shi)性(xing)(xing)(xing)(xing)的(de)。易(yi)(yi)失(shi)(shi)(shi)性(xing)(xing)(xing)(xing)RAM是(shi)(shi)(shi)停(ting)止供(gong)電則會丟失(shi)(shi)(shi)存(cun)(cun)儲(chu)的(de)信息(xi)的(de)RAM。例如(ru)，動(dong)態隨機(ji)存(cun)(cun)取存(cun)(cun)儲(chu)器(qi)(DRAM)為(wei)典型的(de)易(yi)(yi)失(shi)(shi)(shi)性(xing)(xing)(xing)(xing)RAM。非(fei)(fei)(fei)(fei)易(yi)(yi)失(shi)(shi)(shi)性(xing)(xing)(xing)(xing)RAM是(shi)(shi)(shi)即(ji)使停(ting)止供(gong)電也能夠(gou)保存(cun)(cun)信息(xi)的(de)RAM。例如(ru)，磁(ci)阻RAM(MRAM)、可變電阻式存(cun)(cun)儲(chu)器(qi)(ReRAM)、鐵電存(cun)(cun)儲(chu)器(qi)(FeRAM)為(wei)非(fei)(fei)(fei)(fei)易(yi)(yi)失(shi)(shi)(shi)性(xing)(xing)(xing)(xing)RAM的(de)例子。在本實施(shi)方式中，優選采用(yong)非(fei)(fei)(fei)(fei)易(yi)(yi)失(shi)(shi)(shi)性(xing)(xing)(xing)(xing)RAM。易(yi)(yi)失(shi)(shi)(shi)性(xing)(xing)(xing)(xing)RAM和非(fei)(fei)(fei)(fei)易(yi)(yi)失(shi)(shi)(shi)性(xing)(xing)(xing)(xing)RAM都(dou)是(shi)(shi)(shi)非(fei)(fei)(fei)(fei)暫時(shi)性(xing)(xing)(xing)(xing)的(de)(non-transitory)、計(ji)(ji)算(suan)機(ji)可讀(du)取的(de)記錄介(jie)(jie)質(zhi)(zhi)的(de)例子。另外，像硬盤(pan)那樣(yang)的(de)磁(ci)記錄介(jie)(jie)質(zhi)(zhi)和像光盤(pan)那樣(yang)的(de)光學記錄介(jie)(jie)質(zhi)(zhi)也是(shi)(shi)(shi)非(fei)(fei)(fei)(fei)暫時(shi)性(xing)(xing)(xing)(xing)的(de)、計(ji)(ji)算(suan)機(ji)可讀(du)取的(de)記錄介(jie)(jie)質(zhi)(zhi)的(de)例子。即(ji)本公(gong)開涉及(ji)的(de)計(ji)(ji)算(suan)機(ji)程序(xu)(xu)能夠(gou)存(cun)(cun)儲(chu)于(yu)將計(ji)(ji)算(suan)機(ji)程序(xu)(xu)作為(wei)電波信號(hao)傳輸的(de)、大(da)氣等介(jie)(jie)質(zhi)(zhi)(暫時(shi)性(xing)(xing)(xing)(xing)介(jie)(jie)質(zhi)(zhi))以(yi)外的(de)非(fei)(fei)(fei)(fei)暫時(shi)性(xing)(xing)(xing)(xing)的(de)各種計(ji)(ji)算(suan)機(ji)可讀(du)介(jie)(jie)質(zhi)(zhi)。

顯(xian)(xian)(xian)示(shi)裝(zhuang)置32，例(li)如(ru)是液晶顯(xian)(xian)(xian)示(shi)裝(zhuang)置，其接受(shou)由控制電路30輸(shu)出的(de)(de)影像(xiang)信(xin)號，并(bing)將該影像(xiang)信(xin)號顯(xian)(xian)(xian)示(shi)。若操作部(bu)24為(wei)觸摸板，則操作部(bu)24能夠設置為(wei)顯(xian)(xian)(xian)示(shi)裝(zhuang)置32的(de)(de)一部(bu)分(fen)。在本(ben)說明書(shu)中以(yi)顯(xian)(xian)(xian)示(shi)裝(zhuang)置32設置于試樣分(fen)析(xi)裝(zhuang)置1進行說明。然而該結構只(zhi)是一例(li)。顯(xian)(xian)(xian)示(shi)裝(zhuang)置32也(ye)可以(yi)是試樣分(fen)析(xi)裝(zhuang)置1的(de)(de)外(wai)部(bu)的(de)(de)裝(zhuang)置。

在本實施方式中，控制電路30具有信號生(sheng)成(cheng)電路28，另(ling)外顯(xian)示(shi)裝置(zhi)32具有揚聲(sheng)器34。

信號(hao)生成電路(lu)28在(zai)磁體(ti)檢測機構26的(de)(de)檢測結果表示(shi)(shi)(shi)為(wei)錯誤時，即表示(shi)(shi)(shi)未檢測到磁體(ti)時，生成用于使顯示(shi)(shi)(shi)裝(zhuang)置32或揚聲(sheng)(sheng)器34提示(shi)(shi)(shi)聲(sheng)(sheng)音(yin)、光、影像(xiang)(xiang)的(de)(de)信號(hao)(通知信號(hao))。聲(sheng)(sheng)音(yin)、光，例如是警告聲(sheng)(sheng)、警告燈。影像(xiang)(xiang)是“未安裝(zhuang)磁體(ti)”等消(xiao)息，被(bei)顯示(shi)(shi)(shi)于顯示(shi)(shi)(shi)裝(zhuang)置32。

在本說明書中，只要是使用者能(neng)夠在視覺上(shang)、聽覺上(shang)識別(bie)的信號，其形態(tai)任意。

以下，參照圖4說明(ming)試(shi)樣分(fen)析(xi)裝置(zhi)1的動(dong)作。

圖4為表示使用(yong)試(shi)樣分析裝置(zhi)1對試(shi)樣進行測定(ding)的步驟的一例。

步驟S1～S4為試樣(yang)分析裝置1的使用者的動作，步驟S5之后為試樣(yang)分析裝置1的動作。

使用(yong)(yong)(yong)者(zhe)在(zai)步驟S1中(zhong)，準(zhun)(zhun)備試(shi)樣(yang)分(fen)析(xi)用(yong)(yong)(yong)基(ji)板(ban)10和磁體(ti)16a。在(zai)步驟S2中(zhong)，使用(yong)(yong)(yong)者(zhe)將(jiang)磁體(ti)16a安裝于試(shi)樣(yang)分(fen)析(xi)用(yong)(yong)(yong)基(ji)板(ban)10。使用(yong)(yong)(yong)者(zhe)也可(ke)以根據需要在(zai)步驟S1中(zhong)準(zhun)(zhun)備平(ping)衡(heng)件16b，在(zai)步驟S2中(zhong)安裝該平(ping)衡(heng)件16b。通過安裝，能夠得到圖1C或圖2A和圖2B所示的試(shi)樣(yang)分(fen)析(xi)用(yong)(yong)(yong)基(ji)板(ban)10。

使用者在步驟S3中(zhong)，向試(shi)(shi)樣(yang)分(fen)(fen)析(xi)用基板10導入作(zuo)為檢(jian)驗標本(ben)的試(shi)(shi)樣(yang)，在步驟S4中(zhong)，將試(shi)(shi)樣(yang)分(fen)(fen)析(xi)用基板10放置于(yu)試(shi)(shi)樣(yang)分(fen)(fen)析(xi)裝置1。通過該操作(zuo)，試(shi)(shi)樣(yang)分(fen)(fen)析(xi)用基板10能夠旋(xuan)轉地固定于(yu)試(shi)(shi)樣(yang)分(fen)(fen)析(xi)裝置1。

在步(bu)驟S5中(zhong)，控制電路30使磁(ci)體檢測機構26執行磁(ci)體16a的檢測處理。

在(zai)(zai)(zai)步(bu)驟(zou)S6中，磁體(ti)(ti)檢測機(ji)構26對磁體(ti)(ti)16a的(de)(de)有無進(jin)行(xing)判定(ding)。判定(ding)處(chu)理(li)的(de)(de)詳(xiang)細情(qing)(qing)況(kuang)(kuang)后述。判定(ding)的(de)(de)結果(guo)，在(zai)(zai)(zai)磁體(ti)(ti)16a存在(zai)(zai)(zai)的(de)(de)情(qing)(qing)況(kuang)(kuang)下處(chu)理(li)進(jin)入步(bu)驟(zou)S7，在(zai)(zai)(zai)不存在(zai)(zai)(zai)的(de)(de)情(qing)(qing)況(kuang)(kuang)下處(chu)理(li)進(jin)入步(bu)驟(zou)S8。

在步(bu)驟(zou)S7中，控制電(dian)路30根據預先(xian)設定(ding)好的(de)步(bu)驟(zou)，進行(xing)試樣分析(xi)用基板10的(de)擺(bai)動、旋轉(zhuan)、停(ting)止等，并對試樣進行(xing)測(ce)定(ding)。在本說明(ming)書中省略(lve)測(ce)定(ding)的(de)具體(ti)的(de)內容(rong)的(de)說明(ming)。

在(zai)步驟S8中，在(zai)控制電路30接受表示磁體(ti)檢測機構26的(de)檢測結果為錯(cuo)(cuo)誤的(de)信(xin)號(hao)時，信(xin)號(hao)生成電路28生成通知信(xin)號(hao)。顯示裝置32基于(yu)通知信(xin)號(hao)顯示錯(cuo)(cuo)誤。

以(yi)下，對(dui)磁(ci)體(ti)檢(jian)測(ce)機(ji)構26的(de)具(ju)體(ti)例進行(xing)說(shuo)明。作為(wei)基(ji)于磁(ci)體(ti)檢(jian)測(ce)機(ji)構26的(de)檢(jian)測(ce)方法(fa)，在本說(shuo)明書中(zhong)，對(dui)利用試(shi)樣(yang)分析用基(ji)板10的(de)光學(xue)特(te)性、磁(ci)特(te)性、試(shi)樣(yang)分析用基(ji)板10的(de)重(zhong)量(liang)、與旋轉負荷相應(ying)的(de)電流(liu)值(zhi)或(huo)電壓值(zhi)、旋轉加速度(du)或(huo)穩定轉速的(de)例進行(xing)說(shuo)明。此外(wai)，這些檢(jian)測(ce)方法(fa)，也可(ke)以(yi)不是擇(ze)一(yi)的(de)。磁(ci)體(ti)檢(jian)測(ce)機(ji)構26通(tong)過至少1個方法(fa)對(dui)磁(ci)體(ti)16a進行(xing)檢(jian)測(ce)。

此(ci)外，在以(yi)下使用適(shi)宜框圖進行(xing)說(shuo)明，保留與磁體檢測相關(guan)聯的(de)構(gou)成(cheng)要素的(de)說(shuo)明，省略(lve)其他的(de)構(gou)成(cheng)要素的(de)說(shuo)明。

圖5是表(biao)示對(dui)磁(ci)體16a進行(xing)光(guang)學(xue)檢測的試樣分(fen)析裝(zhuang)置1的結構(gou)例。作為磁(ci)體檢測機構(gou)26，設置有(you)光(guang)檢測裝(zhuang)置26a和光(guang)源38。

光(guang)(guang)(guang)(guang)檢測(ce)裝置26a包括未圖(tu)示的(de)受光(guang)(guang)(guang)(guang)元(yuan)件(jian)、驅動電(dian)(dian)路(lu)(lu)和電(dian)(dian)壓(ya)變換(huan)電(dian)(dian)路(lu)(lu)。在(zai)光(guang)(guang)(guang)(guang)檢測(ce)裝置26a中(zhong)，在(zai)驅動電(dian)(dian)路(lu)(lu)的(de)控(kong)制(zhi)下，受光(guang)(guang)(guang)(guang)元(yuan)件(jian)通(tong)過光(guang)(guang)(guang)(guang)電(dian)(dian)變換(huan)生成電(dian)(dian)流值信(xin)號(hao)，并變換(huan)成電(dian)(dian)壓(ya)值信(xin)號(hao)。電(dian)(dian)壓(ya)變換(huan)電(dian)(dian)路(lu)(lu)將(jiang)電(dian)(dian)壓(ya)值信(xin)號(hao)向(xiang)控(kong)制(zhi)電(dian)(dian)路(lu)(lu)30輸出，利(li)用該信(xin)號(hao)控(kong)制(zhi)電(dian)(dian)路(lu)(lu)30對(dui)磁體(ti)有(you)無(wu)進行(xing)判(pan)定。此外也可以(yi)在(zai)光(guang)(guang)(guang)(guang)檢測(ce)裝置26a上設(she)置運算電(dian)(dian)路(lu)(lu)，并由光(guang)(guang)(guang)(guang)檢測(ce)裝置26a對(dui)磁體(ti)16a的(de)有(you)無(wu)進行(xing)判(pan)定。受光(guang)(guang)(guang)(guang)元(yuan)件(jian)配置于能(neng)夠(gou)接收(shou)由光(guang)(guang)(guang)(guang)源38輸出的(de)光(guang)(guang)(guang)(guang)的(de)位置。另(ling)外，光(guang)(guang)(guang)(guang)源38在(zai)試樣(yang)分析用基(ji)板10安裝于試樣(yang)分析裝置1，并使試樣(yang)分析用基(ji)板10旋轉(zhuan)的(de)情(qing)況下，配置于能(neng)夠(gou)將(jiang)光(guang)(guang)(guang)(guang)照(zhao)射到試樣(yang)分析用基(ji)板10內的(de)磁體(ti)的(de)位置。

圖6表示利用(yong)光學特性(xing)對(dui)磁體(ti)16a進(jin)行(xing)檢測的(de)方法的(de)步驟。

在(zai)步(bu)驟(zou)S11中(zhong)，使用(yong)者對操(cao)作(zuo)部24進行操(cao)作(zuo)，指示(shi)磁體(ti)的(de)檢測開始(shi)。例如(ru)作(zuo)為硬件，設(she)置(zhi)有磁體(ti)的(de)檢測開始(shi)按(an)鍵的(de)情況下，步(bu)驟(zou)S11對應受理該(gai)按(an)鍵的(de)按(an)下的(de)處理。

在步驟S12中，控制電路30使光檢測裝置26a和(he)光源(yuan)38起(qi)動(dong)。

在(zai)步驟S13中，馬達20使(shi)試樣(yang)分(fen)析用基板10旋轉。

在步驟S14中，光檢測裝置26a開(kai)始對來自(zi)光源38的(de)光的(de)檢測。

在步(bu)驟S15中，控制電路30基于(yu)由光(guang)檢測裝置(zhi)26a檢測到的光(guang)對(dui)信號進(jin)行處(chu)理，并對(dui)磁體16a是否存(cun)在進(jin)行判定(ding)。以下，參照圖(tu)7，說明該(gai)處(chu)理的詳細情況。

圖7表示(shi)光檢(jian)(jian)測裝(zhuang)(zhuang)置26a的輸(shu)(shu)出結(jie)果(guo)(guo)(guo)。在本例中(zhong)，表示(shi)安裝(zhuang)(zhuang)有磁體16a，并且(qie)使試樣分析(xi)用基板10旋轉一(yi)周時(shi)(shi)的輸(shu)(shu)出結(jie)果(guo)(guo)(guo)。橫軸(zhou)表示(shi)時(shi)(shi)間，縱(zong)軸(zhou)表示(shi)光檢(jian)(jian)測裝(zhuang)(zhuang)置26a的檢(jian)(jian)測結(jie)果(guo)(guo)(guo)(輸(shu)(shu)出)。

在(zai)旋轉開(kai)始時(shi)，使(shi)光透過基(ji)體(ti)基(ji)板12，由此(ci)來自(zi)光源38的(de)(de)光被光檢(jian)測(ce)裝置26a檢(jian)測(ce)。繼續(xu)旋轉，光照(zhao)射到磁體(ti)16a上。磁體(ti)16a的(de)(de)透射率(lv)為0，因此(ci)在(zai)磁體(ti)16a的(de)(de)通過期(qi)間，光檢(jian)測(ce)裝置26a檢(jian)測(ce)不(bu)到光。在(zai)圖7中，期(qi)間D相當(dang)于磁體(ti)16a的(de)(de)通過期(qi)間。接著通過磁體(ti)16a之后，光檢(jian)測(ce)裝置26a再次(ci)檢(jian)測(ce)到來自(zi)光源38的(de)(de)光。

從圖7的(de)檢測波形可以理(li)解(jie)，控制電(dian)路30設(she)定了閾值(zhi)T，若存在低于該(gai)值(zhi)的(de)期間D，則能夠判定為(wei)安裝有(you)磁體(ti)16a。另一方(fang)面，若未(wei)(wei)安裝磁體(ti)，則不存在低于閾值(zhi)T的(de)期間。在該(gai)情況下，控制電(dian)路30能夠判定為(wei)未(wei)(wei)安裝磁體(ti)16a。

此外，在(zai)使(shi)用透射率低的(de)材料(liao)形成平(ping)衡(heng)件(jian)16b的(de)情(qing)況下，優選磁體(ti)16a與平(ping)衡(heng)件(jian)16b處于(yu)不同(tong)的(de)半徑上的(de)位置(zhi)。這是用于(yu)防止安(an)裝有平(ping)衡(heng)件(jian)16b且未安(an)裝磁體(ti)16a的(de)情(qing)況下的(de)誤(wu)檢(jian)測(ce)。

此外(wai)，即使(shi)在試(shi)樣(yang)分(fen)析用基板(ban)(ban)10構成為磁(ci)體(ti)(ti)(ti)16a與(yu)平(ping)衡(heng)件(jian)(jian)16b設置于(yu)(yu)相同(tong)半(ban)徑位置的(de)(de)(de)情況下，也能(neng)夠(gou)根據磁(ci)體(ti)(ti)(ti)16a與(yu)平(ping)衡(heng)件(jian)(jian)16b的(de)(de)(de)形(xing)狀(zhuang)，判別雙方(fang)。具(ju)體(ti)(ti)(ti)而言，關(guan)于(yu)(yu)沿著旋(xuan)轉(zhuan)(zhuan)方(fang)向的(de)(de)(de)長(chang)度(du)，只要對(dui)磁(ci)體(ti)(ti)(ti)16a和(he)(he)平(ping)衡(heng)件(jian)(jian)16b設置有(you)差異即可。在安裝有(you)磁(ci)體(ti)(ti)(ti)16a和(he)(he)平(ping)衡(heng)件(jian)(jian)16b的(de)(de)(de)狀(zhuang)態(tai)下使(shi)試(shi)樣(yang)分(fen)析用基板(ban)(ban)10旋(xuan)轉(zhuan)(zhuan)一周，其輸出(chu)結果存在2個(ge)低于(yu)(yu)閾值T的(de)(de)(de)期(qi)間。若磁(ci)體(ti)(ti)(ti)16a與(yu)平(ping)衡(heng)件(jian)(jian)16b的(de)(de)(de)沿著旋(xuan)轉(zhuan)(zhuan)方(fang)向的(de)(de)(de)長(chang)度(du)不(bu)(bu)同(tong)，則低于(yu)(yu)閾值T的(de)(de)(de)期(qi)間的(de)(de)(de)長(chang)度(du)不(bu)(bu)同(tong)。由(you)此，若將磁(ci)體(ti)(ti)(ti)16a與(yu)平(ping)衡(heng)件(jian)(jian)16b的(de)(de)(de)形(xing)狀(zhuang)決定為沿著旋(xuan)轉(zhuan)(zhuan)方(fang)向呈不(bu)(bu)同(tong)的(de)(de)(de)長(chang)度(du)，則能(neng)夠(gou)辨別磁(ci)體(ti)(ti)(ti)16a與(yu)平(ping)衡(heng)件(jian)(jian)16b各自(zi)是否存在。

另外，關于來自光源(yuan)38的光，通過使平(ping)衡件(jian)(jian)16b的透射(she)率(lv)與磁(ci)體16a的透射(she)率(lv)不同(tong)，能(neng)夠分(fen)別(bie)辨別(bie)磁(ci)體16a與平(ping)衡件(jian)(jian)16b。例如，通過變更材質等(deng)，將針對(dui)來自光源(yuan)38的光的各(ge)透射(she)率(lv)如下(xia)設定(ding)。

磁體(ti)16a的透(tou)射(she)率＜平(ping)衡件16b的透(tou)射(she)率＜基(ji)體(ti)基(ji)板12的透(tou)射(she)率

該情(qing)況，例如(ru)，預先設定(ding)2個閾值(zhi)(T1、T2；T1＜T2)，輸出結果(guo)存在低于閾值(zhi)T1的期間則判(pan)(pan)定(ding)為在試樣分析用(yong)基板(ban)10內(nei)磁(ci)體16a存在，存在低于閾值(zhi)T2且高(gao)于閾值(zhi)T1的期間則判(pan)(pan)定(ding)為平衡(heng)件16b存在。即(ji)使是這樣的結構，也能夠(gou)判(pan)(pan)別磁(ci)體16a與平衡(heng)件16b各自存在與否(fou)。

圖8表(biao)示對磁(ci)體16a的(de)磁(ci)力的(de)有無進行(xing)檢測(ce)(ce)的(de)試樣(yang)分析裝置1的(de)結構(gou)(gou)例(li)。作為磁(ci)體檢測(ce)(ce)機構(gou)(gou)26，設(she)置有磁(ci)力檢測(ce)(ce)裝置26b。

磁力檢測裝置26b例(li)如包括根據磁力輸(shu)出電(dian)壓(ya)或對(dui)開(kai)關進行開(kai)閉的(de)(de)(de)元(yuan)件(jian)、驅動電(dian)路和電(dian)壓(ya)變換電(dian)路。作為輸(shu)出與磁力相應的(de)(de)(de)電(dian)壓(ya)的(de)(de)(de)元(yuan)件(jian)，可利用(yong)(yong)霍爾(er)元(yuan)件(jian)。另外，作為根據磁力對(dui)開(kai)關進行開(kai)閉的(de)(de)(de)元(yuan)件(jian)，可利用(yong)(yong)簧片開(kai)關。在(zai)以下，對(dui)使用(yong)(yong)霍爾(er)元(yuan)件(jian)的(de)(de)(de)例(li)進行說明。

磁力(li)檢測(ce)(ce)裝(zhuang)置(zhi)26b將由(you)霍爾元(yuan)件輸(shu)(shu)出的(de)(de)電壓信號向(xiang)控(kong)制(zhi)電路(lu)30輸(shu)(shu)出，并由(you)控(kong)制(zhi)電路(lu)30對磁體(ti)有無進(jin)行判(pan)定。此(ci)外也可以在磁力(li)檢測(ce)(ce)裝(zhuang)置(zhi)26b上設(she)置(zhi)運算電路(lu)，并由(you)光檢測(ce)(ce)裝(zhuang)置(zhi)26a對磁體(ti)16a的(de)(de)有無進(jin)行判(pan)定。

圖9表示利用(yong)磁(ci)特性(xing)對磁(ci)體16a進行檢(jian)測的方法的步驟。

在步驟S21中，使用者對操(cao)作(zuo)部(bu)24進行操(cao)作(zuo)，指示磁(ci)體(ti)的檢(jian)測(ce)開始。例如作(zuo)為硬(ying)件(jian)，在設置有磁(ci)體(ti)的檢(jian)測(ce)開始按鍵(jian)的情況下(xia)，步驟S21對應(ying)受理(li)該按鍵(jian)的按下(xia)的處理(li)。

在步驟S22中，控制電路30使磁力檢測裝置26b的霍(huo)爾元(yuan)件起(qi)動。

在步驟(zou)S23中，馬(ma)達(da)20使(shi)試樣分析(xi)用基(ji)板(ban)10旋轉。

在步驟(zou)S24中，磁(ci)力(li)檢測(ce)裝置26b的(de)霍爾(er)元件對磁(ci)進(jin)行檢測(ce)。霍爾(er)元件輸出與磁(ci)力(li)的(de)強度相(xiang)應的(de)電(dian)壓信號。

在步驟S25中(zhong)，控(kong)制電(dian)(dian)路(lu)30對由磁力檢(jian)測裝置(zhi)26b的(de)霍爾元件輸(shu)出的(de)電(dian)(dian)壓信號進(jin)行處理，并(bing)對磁體16a是否存在進(jin)行判定。以下，參照圖10，說明該處理的(de)詳細(xi)情(qing)況。

圖10表(biao)(biao)示(shi)磁(ci)力檢測裝(zhuang)(zhuang)置(zhi)26b的(de)(de)(de)(de)霍爾元件(jian)的(de)(de)(de)(de)輸(shu)出(chu)結(jie)果。在(zai)(zai)本例(li)中，表(biao)(biao)示(shi)安裝(zhuang)(zhuang)有磁(ci)體(ti)16a，并且使試樣分析(xi)用基(ji)板10旋轉一(yi)周時(shi)(shi)的(de)(de)(de)(de)輸(shu)出(chu)結(jie)果。橫軸表(biao)(biao)示(shi)時(shi)(shi)間，縱軸表(biao)(biao)示(shi)磁(ci)力檢測裝(zhuang)(zhuang)置(zhi)26b的(de)(de)(de)(de)檢測結(jie)果(輸(shu)出(chu))。此外，圖10表(biao)(biao)示(shi)在(zai)(zai)以下(xia)的(de)(de)(de)(de)條(tiao)件(jian)下(xia)的(de)(de)(de)(de)輸(shu)出(chu)結(jie)果。

·磁體(ti)16a從試樣(yang)分析用(yong)基板10的下表面向上(shang)表面按(an)順序配置有(you)S極(ji)、N極(ji)。

·磁力(li)檢測裝(zhuang)置26b從試(shi)樣分析用基板10的下表面對磁體16a的磁力(li)進行(xing)檢測。

·在(zai)磁(ci)力(li)檢測(ce)裝置26b的霍爾元件接近磁(ci)體16a的S極(ji)時，將輸出電壓設定為正。

在(zai)旋(xuan)轉開(kai)(kai)始(shi)時，在(zai)磁體16a與霍(huo)爾(er)(er)(er)元(yuan)件(jian)(jian)處于(yu)分開(kai)(kai)的(de)位置(zhi)的(de)情(qing)況下，霍(huo)爾(er)(er)(er)元(yuan)件(jian)(jian)僅輸出比較小的(de)電(dian)(dian)壓。接(jie)著若繼(ji)續旋(xuan)轉，則磁體16a接(jie)近霍(huo)爾(er)(er)(er)元(yuan)件(jian)(jian)，并在(zai)最(zui)接(jie)近后，磁體16a開(kai)(kai)始(shi)遠(yuan)離霍(huo)爾(er)(er)(er)元(yuan)件(jian)(jian)。在(zai)圖10中，期間D對應磁體16a接(jie)近霍(huo)爾(er)(er)(er)元(yuan)件(jian)(jian)，并在(zai)最(zui)接(jie)近后，開(kai)(kai)始(shi)遠(yuan)離的(de)情(qing)況。磁體16a通過后，磁體16a與霍(huo)爾(er)(er)(er)元(yuan)件(jian)(jian)分開(kai)(kai)，因此霍(huo)爾(er)(er)(er)元(yuan)件(jian)(jian)僅輸出比較小的(de)電(dian)(dian)壓。

從圖(tu)10的(de)檢(jian)測(ce)波形(xing)可以理解，控制(zhi)(zhi)電(dian)路30設(she)置有閾(yu)值T，若存在(zai)超出該值的(de)期(qi)間D，則能夠判定為安裝有磁體(ti)16a。另(ling)一方面，若未安裝磁體(ti)，則不(bu)存在(zai)超出閾(yu)值T的(de)期(qi)間。在(zai)該情況(kuang)下(xia)，控制(zhi)(zhi)電(dian)路30能夠判定為未安裝磁體(ti)16a。

此外，在(zai)磁(ci)(ci)力(li)檢測(ce)裝置26b的(de)(de)(de)(de)霍(huo)(huo)爾(er)元件的(de)(de)(de)(de)檢測(ce)靈敏度足夠高(gao)、和/或磁(ci)(ci)體16a的(de)(de)(de)(de)磁(ci)(ci)力(li)足夠強的(de)(de)(de)(de)情(qing)(qing)況下(xia)，不(bu)用(yong)馬達(da)20使(shi)試(shi)樣分析(xi)用(yong)基板10旋轉，僅通過將試(shi)樣分析(xi)用(yong)基板10放置于(yu)試(shi)樣分析(xi)裝置1也能夠進行檢測(ce)。在(zai)該情(qing)(qing)況下(xia)，無需步驟(zou)S23的(de)(de)(de)(de)處理。控制電路(lu)30只要在(zai)霍(huo)(huo)爾(er)元件的(de)(de)(de)(de)輸出(chu)超(chao)出(chu)預先設(she)定(ding)的(de)(de)(de)(de)閾值的(de)(de)(de)(de)情(qing)(qing)況下(xia)判定(ding)為安(an)裝有磁(ci)(ci)體16a，在(zai)未(wei)超(chao)出(chu)的(de)(de)(de)(de)情(qing)(qing)況下(xia)判定(ding)為未(wei)安(an)裝磁(ci)(ci)體16a即(ji)可。

圖11表示基于(yu)試(shi)(shi)樣分(fen)析用(yong)基板(ban)10的重量對磁(ci)體16a的有(you)無(wu)進行檢測的試(shi)(shi)樣分(fen)析裝置(zhi)1的結構例。作(zuo)為磁(ci)體檢測機(ji)構26，設置(zhi)有(you)重量計測電(dian)路42。此(ci)外，如下所述(shu)，由于(yu)工作(zuo)比較簡易(yi)，因此(ci)省略流程圖的說(shuo)明。但是(shi)除控制電(dian)路30工作(zuo)之外，該處(chu)理能夠通過按照下述(shu)的內容執行的程序來(lai)實現。

重量(liang)計測(ce)(ce)電(dian)路42，例如是用于測(ce)(ce)定物體的變(bian)(bian)形的作為力學(xue)傳感(gan)器的應(ying)(ying)(ying)變(bian)(bian)器。根據使用的應(ying)(ying)(ying)變(bian)(bian)器的種類，在(zai)設計時，能夠預(yu)先特定應(ying)(ying)(ying)變(bian)(bian)器感(gan)知的負(fu)荷(he)和變(bian)(bian)形量(liang)。

例(li)如，試樣分析用(yong)基板10的(de)重量設為(wei)(wei)(wei)14.0克(ke)(ke)，單(dan)個磁體(ti)16a設為(wei)(wei)(wei)0.7克(ke)(ke)。控(kong)制電路(lu)(lu)30能夠根據來自重量計測電路(lu)(lu)42的(de)變形(xing)量，對當前的(de)負(fu)荷(he)進行檢測。若(ruo)該負(fu)荷(he)顯(xian)示為(wei)(wei)(wei)14.7克(ke)(ke)，則控(kong)制電路(lu)(lu)30能夠判定(ding)(ding)為(wei)(wei)(wei)在(zai)試樣分析用(yong)基板10存(cun)在(zai)磁體(ti)16a。另一方面，若(ruo)負(fu)荷(he)顯(xian)示為(wei)(wei)(wei)14.0克(ke)(ke)，則控(kong)制電路(lu)(lu)30能夠判定(ding)(ding)為(wei)(wei)(wei)在(zai)試樣分析用(yong)基板10不存(cun)在(zai)磁體(ti)16a。

圖12表示根據伴隨試樣分析用基板10的(de)(de)(de)放置(zhi)的(de)(de)(de)馬達旋轉負(fu)荷(he)，對磁體16a的(de)(de)(de)有(you)無進(jin)行檢測(ce)的(de)(de)(de)試樣分析裝置(zhi)1的(de)(de)(de)結構例。作為磁體檢測(ce)機構26，在驅(qu)動電路(lu)22內設置(zhi)有(you)負(fu)荷(he)檢測(ce)電路(lu)26c。此(ci)外，如(ru)下所述，由(you)于工(gong)作比(bi)較簡易(yi)，因此(ci)省(sheng)略流程圖的(de)(de)(de)說明。但是除控制電路(lu)30工(gong)作之外，該處理能夠通過按照下述的(de)(de)(de)內容執(zhi)行的(de)(de)(de)程序來(lai)實現。

負(fu)(fu)荷(he)(he)檢(jian)測電路(lu)26c對馬(ma)達(da)20的(de)旋(xuan)(xuan)轉負(fu)(fu)荷(he)(he)進行檢(jian)測。旋(xuan)(xuan)轉負(fu)(fu)荷(he)(he)根(gen)據(ju)旋(xuan)(xuan)轉的(de)試樣分(fen)析(xi)用(yong)(yong)基(ji)板(ban)10的(de)重量而變化。本例的(de)工作原理(li)為(wei)利用(yong)(yong)使(shi)試樣分(fen)析(xi)用(yong)(yong)基(ji)板(ban)10旋(xuan)(xuan)轉的(de)馬(ma)達(da)20的(de)負(fu)(fu)荷(he)(he)因磁體16a的(de)重量而增大。即能夠根(gen)據(ju)負(fu)(fu)荷(he)(he)檢(jian)測電路(lu)26c所(suo)檢(jian)測到的(de)馬(ma)達(da)20的(de)負(fu)(fu)荷(he)(he)，判定磁體16a是否存在。

具(ju)體(ti)而言，由驅動(dong)電路22進(jin)行(xing)(xing)驅動(dong)的(de)(de)馬達20使(shi)試樣分析用(yong)基板10以一定的(de)(de)轉速(例如1000rpm)旋(xuan)轉，并由負(fu)荷(he)(he)檢測電路26c對負(fu)荷(he)(he)電流(liu)的(de)(de)值(zhi)進(jin)行(xing)(xing)計(ji)測。在(zai)設計(ji)時預先特定磁(ci)(ci)(ci)體(ti)16a存在(zai)的(de)(de)情況(kuang)下(xia)計(ji)測的(de)(de)負(fu)荷(he)(he)電流(liu)的(de)(de)值(zhi)X1和磁(ci)(ci)(ci)體(ti)16a不存在(zai)的(de)(de)情況(kuang)下(xia)計(ji)測的(de)(de)負(fu)荷(he)(he)電流(liu)的(de)(de)值(zhi)X2。在(zai)磁(ci)(ci)(ci)體(ti)16a存在(zai)的(de)(de)情況(kuang)下(xia)，負(fu)荷(he)(he)增加與磁(ci)(ci)(ci)體(ti)16a的(de)(de)重量相應的(de)(de)量。由此，上述的(de)(de)值(zhi)X1與X2，具(ju)有X1＞X2的(de)(de)關(guan)系。控(kong)制(zhi)電路30能夠根據(ju)由負(fu)荷(he)(he)檢測電路26c計(ji)測到的(de)(de)負(fu)荷(he)(he)電流(liu)的(de)(de)值(zhi)，對磁(ci)(ci)(ci)體(ti)16a是否存在(zai)進(jin)行(xing)(xing)判定。

此外，流過一定(ding)的負荷電流，馬(ma)達20使試(shi)樣(yang)分析用基板10旋轉，通過計測此時的轉速(su)，能夠對磁體16a的有無進行(xing)判定(ding)。

具體(ti)而言(yan)，由驅動電(dian)(dian)路(lu)(lu)22進行驅動的(de)(de)(de)(de)馬達(da)20，使試樣分析(xi)用基板10以一定(ding)的(de)(de)(de)(de)轉速(例如1000rpm)旋轉，并由負荷(he)檢測(ce)電(dian)(dian)路(lu)(lu)26c對此(ci)時(shi)的(de)(de)(de)(de)轉速進行計(ji)測(ce)。在設計(ji)時(shi)預先特定(ding)磁體(ti)16a存(cun)在的(de)(de)(de)(de)情況(kuang)下(xia)計(ji)測(ce)的(de)(de)(de)(de)轉速的(de)(de)(de)(de)值(zhi)(zhi)X3和磁體(ti)16a不存(cun)在的(de)(de)(de)(de)情況(kuang)下(xia)計(ji)測(ce)的(de)(de)(de)(de)轉速的(de)(de)(de)(de)值(zhi)(zhi)X4。在磁體(ti)16a存(cun)在的(de)(de)(de)(de)情況(kuang)下(xia)，負荷(he)增加與磁體(ti)16a的(de)(de)(de)(de)重量相(xiang)應的(de)(de)(de)(de)量。由此(ci)，上述的(de)(de)(de)(de)值(zhi)(zhi)X3與X4，具有(you)X3＜X4的(de)(de)(de)(de)關系。控制電(dian)(dian)路(lu)(lu)3能(neng)夠根據由負荷(he)檢測(ce)電(dian)(dian)路(lu)(lu)26c計(ji)測(ce)到(dao)的(de)(de)(de)(de)轉速的(de)(de)(de)(de)值(zhi)(zhi)，對磁體(ti)16a是(shi)否存(cun)在進行判(pan)定(ding)。

此(ci)(ci)外，也設(she)想在試樣(yang)分析(xi)用基板(ban)10上僅設(she)置磁(ci)(ci)體(ti)16a和平(ping)衡(heng)件16b中的(de)(de)一方(fang)的(de)(de)情況。這樣(yang)的(de)(de)試樣(yang)分析(xi)用基板(ban)10無法保持(chi)平(ping)衡(heng)，因此(ci)(ci)實際的(de)(de)轉(zhuan)速低(di)于(yu)設(she)想的(de)(de)轉(zhuan)速。由此(ci)(ci)，根據最終旋(xuan)轉(zhuan)穩(wen)定的(de)(de)時間點(dian)的(de)(de)轉(zhuan)速(穩(wen)定轉(zhuan)速)對磁(ci)(ci)體(ti)16a的(de)(de)有無進行檢測即可。控制電路30利(li)用通知信號告知使(shi)用者磁(ci)(ci)體(ti)16a的(de)(de)有無、磁(ci)(ci)體(ti)16a或平(ping)衡(heng)件16b中的(de)(de)一方(fang)不存在。

在馬達20使無(wu)法(fa)保持平(ping)衡的(de)(de)試樣分析用基(ji)板10旋轉并且計(ji)測(ce)負(fu)荷電流(liu)的(de)(de)值(zhi)(zhi)的(de)(de)情況(kuang)下，實(shi)際的(de)(de)電流(liu)值(zhi)(zhi)與設想(xiang)的(de)(de)電流(liu)值(zhi)(zhi)不(bu)同(tong)。由(you)此，也可以利用此時的(de)(de)電流(liu)值(zhi)(zhi)，控(kong)制電路(lu)30利用通(tong)知(zhi)信號告知(zhi)使用者磁(ci)體16a或(huo)平(ping)衡件16b不(bu)存在。

在(zai)(zai)上(shang)述的(de)例子(zi)中，說明(ming)為計(ji)測(ce)(ce)(ce)負荷電(dian)流的(de)值，但也(ye)可(ke)(ke)以(yi)計(ji)測(ce)(ce)(ce)驅動(dong)電(dian)壓。另外(wai)，根據(ju)磁(ci)(ci)體16a(包括(kuo)平衡件16b)的(de)有(you)無(wu)(wu)，提升轉速(su)(su)(su)(su)時的(de)加(jia)(jia)(jia)速(su)(su)(su)(su)度(du)(du)的(de)值也(ye)不同。磁(ci)(ci)體16a存在(zai)(zai)的(de)試樣(yang)分析(xi)用基板10的(de)加(jia)(jia)(jia)速(su)(su)(su)(su)度(du)(du)小(xiao)于磁(ci)(ci)體16a不存在(zai)(zai)的(de)試樣(yang)分析(xi)用基板10的(de)加(jia)(jia)(jia)速(su)(su)(su)(su)度(du)(du)。而且，任一加(jia)(jia)(jia)速(su)(su)(su)(su)度(du)(du)的(de)值都(dou)能(neng)夠(gou)在(zai)(zai)設(she)計(ji)上(shang)特定(ding)。也(ye)可(ke)(ke)以(yi)利用這樣(yang)的(de)加(jia)(jia)(jia)速(su)(su)(su)(su)度(du)(du)對(dui)磁(ci)(ci)體16a的(de)有(you)無(wu)(wu)進(jin)行檢(jian)測(ce)(ce)(ce)。此外(wai)，可(ke)(ke)以(yi)考慮各種各樣(yang)的(de)加(jia)(jia)(jia)速(su)(su)(su)(su)度(du)(du)的(de)檢(jian)測(ce)(ce)(ce)方法。例如(ru)，在(zai)(zai)馬達(da)20上(shang)設(she)置有(you)霍爾元件的(de)情況下，驅動(dong)電(dian)路22只要基于霍爾元件的(de)輸出值，就能(neng)夠(gou)求(qiu)得馬達(da)20的(de)旋(xuan)轉轉子(zi)的(de)加(jia)(jia)(jia)速(su)(su)(su)(su)度(du)(du)，即試樣(yang)分析(xi)用基板10的(de)旋(xuan)轉加(jia)(jia)(jia)速(su)(su)(su)(su)度(du)(du)的(de)值。

接著，參照(zhao)圖(tu)(tu)13A～圖(tu)(tu)13C、圖(tu)(tu)14A、圖(tu)(tu)14B、圖(tu)(tu)15A和(he)圖(tu)(tu)15B，對試樣分析用基(ji)板10的變(bian)形(xing)例(li)進行說(shuo)明。

圖13A表示變形(xing)例的試樣分析用(yong)基板110的外觀。到此為(wei)止所(suo)說明的試樣分析用(yong)基板10構(gou)成為(wei)，磁體(ti)16a、平衡件16b等能夠作(zuo)為(wei)部件從基體(ti)基板12拆卸。

試樣分析用基板110由2個(ge)部(bu)件組合而構成。

圖(tu)13B表示試樣(yang)分析(xi)用基(ji)板110的基(ji)體(ti)基(ji)板110a，圖(tu)13C表示試樣(yang)分析(xi)用基(ji)板110的磁(ci)體(ti)單元(yuan)110b。試樣(yang)分析(xi)用基(ji)板110由基(ji)體(ti)基(ji)板110a與磁(ci)體(ti)單元(yuan)110b嵌合而構成。

如圖13B所示，基體基板(ban)110a具有(you)磁體容納室18a和平衡件容納室18b。而且在基體基板(ban)110a設置有(you)多個固定(ding)用孔18c。此(ci)外(wai)孔18c的數量(liang)任意。

另一方面，如圖(tu)13C所示(shi)，在(zai)磁體(ti)(ti)單(dan)元(yuan)110b上設(she)置有(you)磁體(ti)(ti)16a和(he)平衡(heng)件(jian)16b，并且進一步設(she)置有(you)固定(ding)用突起16c。在(zai)本變形例中，磁體(ti)(ti)16a和(he)平衡(heng)件(jian)16b固定(ding)于磁體(ti)(ti)單(dan)元(yuan)110b。

圖(tu)14A和圖(tu)14B是基(ji)(ji)體基(ji)(ji)板110a的(de)俯視(shi)圖(tu)和剖(pou)視(shi)圖(tu)。

圖15A和圖15B是(shi)磁體單元(yuan)110b的俯視(shi)圖和側視(shi)圖。

將磁體16a和平(ping)衡(heng)件16b插入(ru)磁體容納(na)室(shi)18a和平(ping)衡(heng)件容納(na)室(shi)18b，并且進一步將固(gu)定用(yong)突起16c插入(ru)固(gu)定用(yong)孔18c，由此試樣分析用(yong)基板110關于(yu)旋(xuan)轉方向是固(gu)定的。

此(ci)外，在圖13A～15B的(de)例中，磁體(ti)單元(yuan)110b設(she)置為能夠(gou)(gou)從基(ji)體(ti)基(ji)板(ban)110a的(de)下表面裝(zhuang)卸，但(dan)這只是(shi)一例。也(ye)可以是(shi)例如，磁體(ti)單元(yuan)110b能夠(gou)(gou)從基(ji)體(ti)基(ji)板(ban)110a的(de)上(shang)表面裝(zhuang)卸。

而(er)且，也可以是磁體(ti)(ti)(ti)單元110b能夠從基(ji)(ji)體(ti)(ti)(ti)基(ji)(ji)板(ban)110a的(de)側面(mian)裝卸(xie)。例如使(shi)磁體(ti)(ti)(ti)單元110b和基(ji)(ji)體(ti)(ti)(ti)基(ji)(ji)板(ban)110a構成為，由與(yu)旋轉軸平行(xing)的(de)平面(mian)將(jiang)(jiang)試樣分析用基(ji)(ji)板(ban)10切斷(duan)后的(de)一(yi)方(fang)與(yu)另(ling)一(yi)方(fang)。此時(shi)，將(jiang)(jiang)上述具有(you)磁體(ti)(ti)(ti)16a的(de)一(yi)側簡單地(di)稱為磁體(ti)(ti)(ti)單元110b、將(jiang)(jiang)具有(you)磁體(ti)(ti)(ti)容納(na)室18a的(de)一(yi)側稱為基(ji)(ji)體(ti)(ti)(ti)基(ji)(ji)板(ban)110a。根據(ju)這樣的(de)例示性的(de)結(jie)構，磁體(ti)(ti)(ti)單元110b能夠從基(ji)(ji)體(ti)(ti)(ti)基(ji)(ji)板(ban)110a的(de)側面(mian)裝卸(xie)。

(實施方式2)

圖(tu)(tu)16是本實(shi)施方式的(de)試樣分析用基板200的(de)俯視圖(tu)(tu)(或仰(yang)視圖(tu)(tu))的(de)一例。此(ci)外(wai)“上表面”、“下表面”的(de)定(ding)義和(he)在實(shi)施方式1中(zhong)與圖(tu)(tu)1A相關(guan)聯所說(shuo)明的(de)相同。

試樣分析用(yong)基板200具有(you)(you)旋轉軸P、磁體16a、具有(you)(you)第(di)1空(kong)間(jian)的第(di)1腔室(shi)201、具有(you)(you)第(di)2空(kong)間(jian)的第(di)2腔室(shi)202以及具有(you)(you)第(di)3空(kong)間(jian)的第(di)3腔室(shi)203。此外(wai)，在圖16中，省略平衡(heng)件(jian)16b的結構。

試樣分析用基(ji)板200具有(you)將(jiang)第(di)1腔室(shi)(shi)201與第(di)2腔室(shi)(shi)202連接的第(di)1流(liu)路(lu)205、以及將(jiang)第(di)2腔室(shi)(shi)202與第(di)3腔室(shi)(shi)203連接的第(di)2流(liu)路(lu)206。在此所(suo)述的“連接”是指能(neng)夠移送液(ye)體(ti)試樣地進行連接。

對(dui)第1腔(qiang)室(shi)(shi)201、第2腔(qiang)室(shi)(shi)202和(he)第3腔(qiang)室(shi)(shi)203的形狀以及試樣分析(xi)用基板200內的配(pei)置進行(xing)說(shuo)明。

首先，對(dui)第(di)(di)1腔(qiang)室(shi)201進行說明。在本(ben)實施方式中(zhong)，第(di)(di)1腔(qiang)室(shi)201的(de)(de)(de)(de)形(xing)狀任意。優選第(di)(di)1腔(qiang)室(shi)201與第(di)(di)1流路205的(de)(de)(de)(de)連(lian)接(jie)部分基本(ben)上是(shi)，位于(yu)與第(di)(di)1腔(qiang)室(shi)201的(de)(de)(de)(de)旋(xuan)轉軸(zhou)平行的(de)(de)(de)(de)方向的(de)(de)(de)(de)壁(bi)面(mian)中(zhong)距旋(xuan)轉軸(zhou)最(zui)(zui)遠的(de)(de)(de)(de)(最(zui)(zui)外(wai)周壁(bi)面(mian))壁(bi)面(mian)或與最(zui)(zui)外(wai)周壁(bi)面(mian)相鄰的(de)(de)(de)(de)側壁(bi)中(zhong)包括(kuo)第(di)(di)1腔(qiang)室(shi)201與第(di)(di)1流路205的(de)(de)(de)(de)連(lian)接(jie)部分的(de)(de)(de)(de)位置。理由是(shi)因為：能夠防止在將第(di)(di)1腔(qiang)室(shi)201中(zhong)的(de)(de)(de)(de)液體向第(di)(di)2腔(qiang)室(shi)202移(yi)送時，在第(di)(di)1腔(qiang)室(shi)201中(zhong)產生液體殘留(liu)。然而，請留(liu)意，上述的(de)(de)(de)(de)結(jie)構是(shi)根據第(di)(di)1腔(qiang)室(shi)201的(de)(de)(de)(de)形(xing)狀而得(de)到(dao)的(de)(de)(de)(de)。

另外(wai)，如下所(suo)述的(de)(de)第1流(liu)路(lu)(lu)205是(shi)毛細管流(liu)路(lu)(lu)，因此第1腔(qiang)(qiang)(qiang)(qiang)室201需(xu)要具備空(kong)(kong)氣(qi)孔。在(zai)圖16中例示了設(she)置于第1腔(qiang)(qiang)(qiang)(qiang)室201的(de)(de)空(kong)(kong)氣(qi)孔H1。在(zai)圖16中，相同形狀(zhuang)的(de)(de)“○”表示空(kong)(kong)氣(qi)孔。空(kong)(kong)氣(qi)孔的(de)(de)位置任意，只要在(zai)向(xiang)腔(qiang)(qiang)(qiang)(qiang)室中倒(dao)入(ru)液(ye)體時，空(kong)(kong)氣(qi)孔不會(hui)被液(ye)體填(tian)埋即可(ke)。可(ke)以是(shi)靠近(jin)旋(xuan)轉(zhuan)軸的(de)(de)側面部(bu)(bu)分或(huo)靠近(jin)側壁的(de)(de)側面部(bu)(bu)分的(de)(de)旋(xuan)轉(zhuan)軸的(de)(de)一側。在(zai)接下來所(suo)說明的(de)(de)第2腔(qiang)(qiang)(qiang)(qiang)室202和(he)第3腔(qiang)(qiang)(qiang)(qiang)室203設(she)置的(de)(de)“○”也同樣。

接(jie)(jie)著，對第(di)2腔(qiang)室202進行說明。在本(ben)實施方式中(zhong)，第(di)2腔(qiang)室202的(de)(de)形狀也任(ren)意(yi)。優選第(di)2腔(qiang)室202與(yu)第(di)1流路205的(de)(de)連接(jie)(jie)部分(fen)基本(ben)上(shang)是(shi)，位(wei)于與(yu)第(di)2腔(qiang)室201的(de)(de)旋(xuan)轉軸平行的(de)(de)方向的(de)(de)壁(bi)面中(zhong)距旋(xuan)轉軸最近的(de)(de)(最內周(zhou)壁(bi)面)壁(bi)面或與(yu)最內周(zhou)壁(bi)面相(xiang)鄰的(de)(de)側(ce)壁(bi)(可以的(de)(de)話(hua)，其中(zhong)的(de)(de)內周(zhou)側(ce))。然(ran)而，請(qing)留意(yi)，上(shang)述的(de)(de)結構是(shi)根據第(di)1腔(qiang)室202的(de)(de)形狀而得到的(de)(de)。

在第(di)1流路205和第(di)2流路206為毛(mao)細(xi)管流路的情(qing)況(kuang)下，需要具(ju)備空(kong)氣孔(至少1個)。在圖16中例示(shi)了設置于第(di)2腔室202的空(kong)氣孔H2。

第2腔(qiang)室(shi)202的(de)位(wei)置需要相對于(yu)(yu)旋(xuan)轉軸P配置于(yu)(yu)比第1腔(qiang)室(shi)201相對于(yu)(yu)旋(xuan)轉軸P更遠的(de)位(wei)置。

最(zui)(zui)后，對(dui)第(di)3腔(qiang)室(shi)(shi)203進行說明。第(di)3腔(qiang)室(shi)(shi)203的(de)(de)(de)結構基本按照第(di)2腔(qiang)室(shi)(shi)202的(de)(de)(de)結構。即，第(di)3腔(qiang)室(shi)(shi)203的(de)(de)(de)形(xing)狀任意，需要設(she)置(zhi)(zhi)(zhi)空氣(qi)孔。另(ling)外，優選第(di)3腔(qiang)室(shi)(shi)203與(yu)第(di)2流(liu)路206的(de)(de)(de)連接部(bu)分(fen)基本上是(shi)，位(wei)(wei)于與(yu)第(di)3腔(qiang)室(shi)(shi)203的(de)(de)(de)旋(xuan)(xuan)轉軸(zhou)平行的(de)(de)(de)方(fang)向的(de)(de)(de)壁面(mian)中距旋(xuan)(xuan)轉軸(zhou)最(zui)(zui)近(最(zui)(zui)內(nei)周壁面(mian))的(de)(de)(de)壁面(mian)或與(yu)最(zui)(zui)內(nei)周壁面(mian)相(xiang)鄰(lin)的(de)(de)(de)側壁(可(ke)以(yi)的(de)(de)(de)話，其中的(de)(de)(de)內(nei)周側)。然而，第(di)3腔(qiang)室(shi)(shi)203的(de)(de)(de)位(wei)(wei)置(zhi)(zhi)(zhi)需要相(xiang)對(dui)于旋(xuan)(xuan)轉軸(zhou)P配置(zhi)(zhi)(zhi)于比第(di)2腔(qiang)室(shi)(shi)202相(xiang)對(dui)于旋(xuan)(xuan)轉軸(zhou)P更遠的(de)(de)(de)位(wei)(wei)置(zhi)(zhi)(zhi)。

接著，對第1流(liu)路(lu)205和第2流(liu)路(lu)206進(jin)行說明。

第(di)1流路205沿(yan)著從(cong)(cong)第(di)1腔(qiang)室(shi)201朝(chao)向(xiang)第(di)2腔(qiang)室(shi)202的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)方向(xiang)，并且具有(you)第(di)1彎曲部205a和(he)第(di)2彎曲部205b。第(di)1彎曲部205a具有(you)向(xiang)旋(xuan)(xuan)(xuan)轉(zhuan)(zhuan)軸(zhou)P的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)相(xiang)反側(ce)(ce)(ce)凸(tu)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)形(xing)狀，第(di)2彎曲部205b具有(you)向(xiang)旋(xuan)(xuan)(xuan)轉(zhuan)(zhuan)軸(zhou)P側(ce)(ce)(ce)凸(tu)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)形(xing)狀。第(di)1彎曲部205a位(wei)(wei)于(yu)(yu)第(di)1流路205所(suo)(suo)連接的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)2個腔(qiang)室(shi)(201、202)中的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)位(wei)(wei)于(yu)(yu)靠(kao)近(jin)旋(xuan)(xuan)(xuan)轉(zhuan)(zhuan)軸(zhou)P的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)一(yi)(yi)側(ce)(ce)(ce)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)位(wei)(wei)置(zhi)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)第(di)1腔(qiang)室(shi)201與第(di)2彎曲部205b之間。在第(di)1流路205所(suo)(suo)連接的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)2個腔(qiang)室(shi)(201、202)中，在將(jiang)旋(xuan)(xuan)(xuan)轉(zhuan)(zhuan)軸(zhou)P與位(wei)(wei)于(yu)(yu)距(ju)旋(xuan)(xuan)(xuan)轉(zhuan)(zhuan)軸(zhou)P遠的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)腔(qiang)室(shi)202的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)最靠(kao)近(jin)旋(xuan)(xuan)(xuan)轉(zhuan)(zhuan)軸(zhou)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)側(ce)(ce)(ce)面(mian)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)距(ju)離(li)設(she)(she)為(wei)R1，并且將(jiang)從(cong)(cong)旋(xuan)(xuan)(xuan)轉(zhuan)(zhuan)軸(zhou)P到第(di)1彎曲部205a的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)位(wei)(wei)于(yu)(yu)距(ju)旋(xuan)(xuan)(xuan)轉(zhuan)(zhuan)軸(zhou)P最遠的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)一(yi)(yi)側(ce)(ce)(ce)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)點為(wei)止的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)距(ju)離(li)設(she)(she)為(wei)R2的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)情(qing)(qing)況下，優選滿(man)(man)足(zu)R1＞R2。另外，在由位(wei)(wei)于(yu)(yu)更靠(kao)近(jin)旋(xuan)(xuan)(xuan)轉(zhuan)(zhuan)軸(zhou)P的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)位(wei)(wei)置(zhi)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)腔(qiang)室(shi)201所(suo)(suo)保持(chi)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)液體，由于(yu)(yu)離(li)心(xin)力而偏向(xiang)腔(qiang)室(shi)201的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)側(ce)(ce)(ce)面(mian)地被保持(chi)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)情(qing)(qing)況下，將(jiang)從(cong)(cong)旋(xuan)(xuan)(xuan)轉(zhuan)(zhuan)軸(zhou)P到液體的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)液面(mian)為(wei)止的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)距(ju)離(li)設(she)(she)為(wei)R4，并且將(jiang)從(cong)(cong)旋(xuan)(xuan)(xuan)轉(zhuan)(zhuan)軸(zhou)P到第(di)2彎曲部205b的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)位(wei)(wei)于(yu)(yu)最靠(kao)近(jin)旋(xuan)(xuan)(xuan)轉(zhuan)(zhuan)軸(zhou)P的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)一(yi)(yi)側(ce)(ce)(ce)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)點為(wei)止的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)距(ju)離(li)設(she)(she)為(wei)R3的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)情(qing)(qing)況下，優選滿(man)(man)足(zu)R4＞R3。

在(zai)馬達(da)20使(shi)試樣分(fen)(fen)(fen)析(xi)用(yong)基板(ban)(ban)200以(yi)某個(ge)轉(zhuan)速(su)旋(xuan)(xuan)(xuan)轉(zhuan)時，液(ye)(ye)(ye)(ye)體(ti)試樣從第(di)(di)(di)1腔室(shi)(shi)201經(jing)(jing)由(you)第(di)(di)(di)1流(liu)(liu)路(lu)(lu)(lu)205向第(di)(di)(di)2腔室(shi)(shi)202移送(song)。而且，在(zai)維持(chi)該(gai)旋(xuan)(xuan)(xuan)轉(zhuan)狀(zhuang)態的(de)(de)(de)(de)狀(zhuang)態下，第(di)(di)(di)2腔室(shi)(shi)202中(zhong)的(de)(de)(de)(de)液(ye)(ye)(ye)(ye)體(ti)試樣不(bu)向第(di)(di)(di)3腔室(shi)(shi)203移送(song)。在(zai)此所(suo)述的(de)(de)(de)(de)“轉(zhuan)速(su)”為：在(zai)假定為對第(di)(di)(di)1流(liu)(liu)路(lu)(lu)(lu)205和第(di)(di)(di)2流(liu)(liu)路(lu)(lu)(lu)206的(de)(de)(de)(de)液(ye)(ye)(ye)(ye)體(ti)的(de)(de)(de)(de)毛(mao)(mao)細(xi)(xi)管力(li)(li)(li)相(xiang)(xiang)同的(de)(de)(de)(de)情況(kuang)(kuang)下，與(yu)第(di)(di)(di)2流(liu)(liu)路(lu)(lu)(lu)206中(zhong)的(de)(de)(de)(de)液(ye)(ye)(ye)(ye)體(ti)所(suo)受到(dao)的(de)(de)(de)(de)毛(mao)(mao)細(xi)(xi)管力(li)(li)(li)相(xiang)(xiang)比(bi)，因(yin)試樣分(fen)(fen)(fen)析(xi)用(yong)基板(ban)(ban)100的(de)(de)(de)(de)旋(xuan)(xuan)(xuan)轉(zhuan)而液(ye)(ye)(ye)(ye)體(ti)所(suo)受到(dao)的(de)(de)(de)(de)離心(xin)力(li)(li)(li)大的(de)(de)(de)(de)轉(zhuan)速(su)。在(zai)馬達(da)20使(shi)試樣分(fen)(fen)(fen)析(xi)用(yong)基板(ban)(ban)100以(yi)該(gai)轉(zhuan)速(su)旋(xuan)(xuan)(xuan)轉(zhuan)，由(you)此液(ye)(ye)(ye)(ye)體(ti)試樣從第(di)(di)(di)1腔室(shi)(shi)201經(jing)(jing)由(you)第(di)(di)(di)1流(liu)(liu)路(lu)(lu)(lu)205向第(di)(di)(di)2腔室(shi)(shi)202移送(song)的(de)(de)(de)(de)情況(kuang)(kuang)下，第(di)(di)(di)2腔室(shi)(shi)中(zhong)的(de)(de)(de)(de)液(ye)(ye)(ye)(ye)體(ti)試樣的(de)(de)(de)(de)一部分(fen)(fen)(fen)，充滿第(di)(di)(di)2流(liu)(liu)路(lu)(lu)(lu)206的(de)(de)(de)(de)一部分(fen)(fen)(fen)。即，移送(song)到(dao)第(di)(di)(di)2腔室(shi)(shi)202的(de)(de)(de)(de)液(ye)(ye)(ye)(ye)體(ti)試樣因(yin)第(di)(di)(di)2流(liu)(liu)路(lu)(lu)(lu)206的(de)(de)(de)(de)毛(mao)(mao)細(xi)(xi)管力(li)(li)(li)而被吸入(ru)到(dao)第(di)(di)(di)2流(liu)(liu)路(lu)(lu)(lu)206中(zhong)，與(yu)該(gai)毛(mao)(mao)細(xi)(xi)管力(li)(li)(li)相(xiang)(xiang)比(bi)，因(yin)試樣分(fen)(fen)(fen)析(xi)用(yong)基板(ban)(ban)100的(de)(de)(de)(de)旋(xuan)(xuan)(xuan)轉(zhuan)所(suo)受到(dao)的(de)(de)(de)(de)離心(xin)力(li)(li)(li)大。因(yin)此，第(di)(di)(di)2流(liu)(liu)路(lu)(lu)(lu)206中(zhong)的(de)(de)(de)(de)液(ye)(ye)(ye)(ye)體(ti)試樣，只能(neng)充滿到(dao)與(yu)第(di)(di)(di)2腔室(shi)(shi)202中(zhong)的(de)(de)(de)(de)液(ye)(ye)(ye)(ye)體(ti)試樣的(de)(de)(de)(de)液(ye)(ye)(ye)(ye)面(mian)的(de)(de)(de)(de)高度(du)(距旋(xuan)(xuan)(xuan)轉(zhuan)軸P的(de)(de)(de)(de)距離)相(xiang)(xiang)同的(de)(de)(de)(de)高度(du)。

而且，通過(guo)馬達20使試樣分析用(yong)基板(ban)200旋轉(zhuan)并且調整其轉(zhuan)速，使第(di)2流路206的(de)(de)液(ye)體(ti)試樣所(suo)受(shou)到(dao)的(de)(de)離心力(li)小于第(di)2流路206的(de)(de)液(ye)體(ti)試樣所(suo)受(shou)到(dao)的(de)(de)毛細管力(li)(也包(bao)括旋轉(zhuan)停止狀態(tai))。

通過毛細管(guan)現(xian)(xian)象(xiang)，第(di)(di)(di)(di)(di)(di)(di)2流(liu)(liu)路206被(bei)第(di)(di)(di)(di)(di)(di)(di)2腔(qiang)室202中的(de)(de)(de)(de)(de)液(ye)體(ti)(ti)(ti)的(de)(de)(de)(de)(de)一(yi)部分(fen)(fen)充滿(man)。而且，在(zai)(zai)從第(di)(di)(di)(di)(di)(di)(di)2流(liu)(liu)路206由液(ye)體(ti)(ti)(ti)充滿(man)的(de)(de)(de)(de)(de)狀態，馬(ma)達20使試(shi)樣分(fen)(fen)析用(yong)(yong)基(ji)板200旋(xuan)(xuan)轉時(shi)，在(zai)(zai)某(mou)個時(shi)間點，離(li)心力(li)大于(yu)(yu)(yu)(yu)毛細管(guan)力(li)。這樣，第(di)(di)(di)(di)(di)(di)(di)2流(liu)(liu)路206將(jiang)第(di)(di)(di)(di)(di)(di)(di)2腔(qiang)室202中的(de)(de)(de)(de)(de)液(ye)體(ti)(ti)(ti)向(xiang)第(di)(di)(di)(di)(di)(di)(di)3腔(qiang)室203排出。其(qi)結(jie)果，利(li)用(yong)(yong)虹吸(xi)的(de)(de)(de)(de)(de)原理，第(di)(di)(di)(di)(di)(di)(di)2腔(qiang)室202的(de)(de)(de)(de)(de)液(ye)體(ti)(ti)(ti)試(shi)樣經由第(di)(di)(di)(di)(di)(di)(di)2流(liu)(liu)路206向(xiang)第(di)(di)(di)(di)(di)(di)(di)3腔(qiang)室203移(yi)(yi)(yi)送(song)。此外(wai)，如上所(suo)述(shu)，第(di)(di)(di)(di)(di)(di)(di)3腔(qiang)室203相對于(yu)(yu)(yu)(yu)旋(xuan)(xuan)轉軸(zhou)P配置(zhi)(zhi)于(yu)(yu)(yu)(yu)比(bi)第(di)(di)(di)(di)(di)(di)(di)2腔(qiang)室202相對于(yu)(yu)(yu)(yu)旋(xuan)(xuan)轉軸(zhou)P更遠的(de)(de)(de)(de)(de)位(wei)置(zhi)(zhi)。即(ji)，也可以說(shuo)，關(guan)于(yu)(yu)(yu)(yu)離(li)心力(li)作(zuo)用(yong)(yong)的(de)(de)(de)(de)(de)方向(xiang)，第(di)(di)(di)(di)(di)(di)(di)3腔(qiang)室203處于(yu)(yu)(yu)(yu)比(bi)第(di)(di)(di)(di)(di)(di)(di)2腔(qiang)室202更低的(de)(de)(de)(de)(de)(遠離(li)的(de)(de)(de)(de)(de))位(wei)置(zhi)(zhi)。將(jiang)利(li)用(yong)(yong)上述(shu)的(de)(de)(de)(de)(de)原理液(ye)體(ti)(ti)(ti)在(zai)(zai)流(liu)(liu)路中移(yi)(yi)(yi)動稱為毛細管(guan)現(xian)(xian)象(xiang)和虹吸(xi)的(de)(de)(de)(de)(de)原理。即(ji)，在(zai)(zai)此所(suo)述(shu)的(de)(de)(de)(de)(de)“虹吸(xi)的(de)(de)(de)(de)(de)原理”是，在(zai)(zai)因試(shi)樣分(fen)(fen)析用(yong)(yong)基(ji)板100的(de)(de)(de)(de)(de)旋(xuan)(xuan)轉液(ye)體(ti)(ti)(ti)所(suo)受到(dao)的(de)(de)(de)(de)(de)離(li)心力(li)與流(liu)(liu)路的(de)(de)(de)(de)(de)毛細管(guan)力(li)的(de)(de)(de)(de)(de)平衡下進行移(yi)(yi)(yi)送(song)液(ye)體(ti)(ti)(ti)控制。由于(yu)(yu)(yu)(yu)具備毛細管(guan)道(dao)和虹吸(xi)的(de)(de)(de)(de)(de)結(jie)構，從而流(liu)(liu)路能夠(gou)將(jiang)液(ye)體(ti)(ti)(ti)向(xiang)腔(qiang)室移(yi)(yi)(yi)送(song)。

現在，考(kao)慮使(shi)用(yong)試樣(yang)分析(xi)用(yong)基板200，按(an)圖17所示的(de)步驟進(jin)行(xing)使(shi)用(yong)了(le)磁性顆粒的(de)免疫(yi)測定的(de)例子。

第1腔室(shi)201是(shi)使磁(ci)性顆(ke)粒固定(ding)化抗(kang)(kang)體305、抗(kang)(kang)原(yuan)306和(he)標(biao)識抗(kang)(kang)體308反應(ying)(ying)并最終形成復合(he)體310的(de)反應(ying)(ying)場所。因此，也可以(yi)將包(bao)含(han)磁(ci)性顆(ke)粒固定(ding)化抗(kang)(kang)體305的(de)液(ye)(ye)體、包(bao)含(han)抗(kang)(kang)原(yuan)306的(de)檢驗標(biao)本溶液(ye)(ye)和(he)包(bao)含(han)標(biao)識抗(kang)(kang)體308的(de)液(ye)(ye)體分(fen)別分(fen)注于第1腔室(shi)201，來形成復合(he)體310。

另外，進而也能夠(gou)使(shi)用另外的(de)腔(qiang)室和流(liu)(liu)路(lu)，按照圖17所示的(de)步驟進行免疫測定。例(li)如，在試樣分析用基板200形成另外3個腔(qiang)室和流(liu)(liu)路(lu)，并且(qie)由其中的(de)3個腔(qiang)室分別保持包含磁性顆粒固(gu)定化抗(kang)體(ti)305的(de)溶液(ye)、包含抗(kang)原306的(de)檢驗標本溶液(ye)和包含標識抗(kang)體(ti)308的(de)溶液(ye)。這(zhe)3個腔(qiang)室各自通過各自的(de)流(liu)(liu)路(lu)與第(di)1腔(qiang)室201相連。而且(qie)，使(shi)各液(ye)體(ti)分別從這(zhe)3個腔(qiang)室經由各流(liu)(liu)路(lu)向第(di)1腔(qiang)室201移送，來形成復合體(ti)310。

另外(wai)，也可(ke)以(yi)通過使(shi)磁性顆粒固定化抗(kang)體305和/或標(biao)識(shi)抗(kang)體308干(gan)燥(以(yi)下稱為“干(gan)化試劑(ji)”)，使(shi)該(gai)干(gan)化試劑(ji)在(zai)第1腔室201被(bei)保持，并由包(bao)(bao)含抗(kang)原(yuan)(yuan)306的液體使(shi)其溶解(jie)，來(lai)形(xing)成復合(he)體310。在(zai)該(gai)情況下，既(ji)可(ke)以(yi)將包(bao)(bao)含抗(kang)原(yuan)(yuan)306的液體分注于第1腔室201，也可(ke)以(yi)從另外(wai)形(xing)成的腔室經由流路向第1腔室201移送。

另(ling)外(wai)，也可(ke)以通過在測定時由預定的溶液(ye)(ye)溶解另(ling)外(wai)形成(cheng)的腔室(shi)所保持的干化試劑，并(bing)將包(bao)含(han)抗原(yuan)306的液(ye)(ye)體經(jing)由各(ge)自的流路(lu)向第1腔室(shi)201移送(song)，并(bing)在第1腔室(shi)201中混合(he)，從而形成(cheng)復合(he)體310。

再次參照圖16。

在第(di)2腔(qiang)室(shi)202中進行B/F分離(li)。包(bao)含第(di)1腔(qiang)室(shi)201中的(de)復(fu)合(he)體310的(de)液(ye)體經由第(di)1流路205向(xiang)第(di)2腔(qiang)室(shi)202移送(song)。包(bao)含復(fu)合(he)體310的(de)磁性顆粒302因磁體16a的(de)磁力(li)，在第(di)2腔(qiang)室(shi)202的(de)壁面被(bei)捕(bu)捉。

第(di)(di)(di)3腔(qiang)(qiang)室(shi)203保(bao)持在第(di)(di)(di)2腔(qiang)(qiang)室(shi)202中變(bian)為不需要的液(ye)體(ti)。不需要的液(ye)體(ti)經由(you)第(di)(di)(di)2流路206從第(di)(di)(di)2腔(qiang)(qiang)室(shi)202向(xiang)第(di)(di)(di)3腔(qiang)(qiang)室(shi)203排出。

在(zai)圖16的(de)(de)例(li)中，磁(ci)體(ti)(ti)(ti)16a配置(zhi)于(yu)接近第2腔室(shi)(shi)202的(de)(de)壁面(mian)的(de)(de)位置(zhi)。該壁面(mian)是與離心力作(zuo)用(yong)的(de)(de)方向垂直(zhi)的(de)(de)面(mian)。離心力是，隨著試(shi)樣分(fen)析(xi)用(yong)基板200的(de)(de)旋(xuan)轉(zhuan)，包含磁(ci)性顆粒302的(de)(de)液(ye)體(ti)(ti)(ti)試(shi)樣所受的(de)(de)向外周方向作(zuo)用(yong)的(de)(de)力。在(zai)試(shi)樣分(fen)析(xi)用(yong)基板200的(de)(de)旋(xuan)轉(zhuan)期間，設置(zhi)有磁(ci)體(ti)(ti)(ti)16a的(de)(de)一側的(de)(de)反應腔室(shi)(shi)14的(de)(de)壁面(mian)對抗離心力而支撐液(ye)體(ti)(ti)(ti)試(shi)樣。此外，只要能夠在(zai)第2腔室(shi)(shi)202的(de)(de)壁面(mian)捕捉磁(ci)性顆粒，則磁(ci)體(ti)(ti)(ti)16a所設置(zhi)的(de)(de)位置(zhi)任意。

此外，在(zai)第(di)1腔(qiang)(qiang)(qiang)室201至第(di)3腔(qiang)(qiang)(qiang)室203的(de)(de)(de)(de)(de)(de)路(lu)(lu)徑中(zhong)，想(xiang)要在(zai)第(di)2腔(qiang)(qiang)(qiang)室202中(zhong)進行嚴密的(de)(de)(de)(de)(de)(de)移(yi)送(song)液(ye)體(ti)(ti)(ti)控(kong)制(zhi)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)情(qing)況下，上(shang)(shang)述(shu)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)第(di)2流路(lu)(lu)206需要具(ju)有(you)虹(hong)吸的(de)(de)(de)(de)(de)(de)結構(gou)，但(dan)第(di)1流路(lu)(lu)205不一(yi)定(ding)是(shi)(shi)具(ju)有(you)虹(hong)吸的(de)(de)(de)(de)(de)(de)結構(gou)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)流路(lu)(lu)。利(li)(li)用(yong)(yong)(yong)毛細(xi)管道和虹(hong)吸的(de)(de)(de)(de)(de)(de)結構(gou)，液(ye)體(ti)(ti)(ti)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)移(yi)送(song)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)控(kong)制(zhi)變得容易。圖16是(shi)(shi)利(li)(li)用(yong)(yong)(yong)虹(hong)吸的(de)(de)(de)(de)(de)(de)原(yuan)理的(de)(de)(de)(de)(de)(de)結構(gou)例。使用(yong)(yong)(yong)圖16的(de)(de)(de)(de)(de)(de)第(di)2腔(qiang)(qiang)(qiang)室202至第(di)3腔(qiang)(qiang)(qiang)室203的(de)(de)(de)(de)(de)(de)液(ye)體(ti)(ti)(ti)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)移(yi)送(song)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)例對(dui)毛細(xi)管現(xian)象和虹(hong)吸的(de)(de)(de)(de)(de)(de)原(yuan)理進行說(shuo)明。首先，在(zai)馬達(da)20使試樣(yang)分(fen)析(xi)用(yong)(yong)(yong)基(ji)板200高速(su)旋(xuan)(xuan)轉時，液(ye)體(ti)(ti)(ti)試樣(yang)從第(di)1腔(qiang)(qiang)(qiang)室201向第(di)2腔(qiang)(qiang)(qiang)室202移(yi)送(song)。在(zai)此所述(shu)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)“高速(su)旋(xuan)(xuan)轉”是(shi)(shi)，對(dui)試樣(yang)分(fen)析(xi)用(yong)(yong)(yong)基(ji)板200內的(de)(de)(de)(de)(de)(de)液(ye)體(ti)(ti)(ti)施(shi)加(jia)大(da)小為預(yu)先確(que)定(ding)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)大(da)小以(yi)上(shang)(shang)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)離(li)(li)心力(li)(li)(li)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)旋(xuan)(xuan)轉速(su)度。“施(shi)加(jia)大(da)小為預(yu)先確(que)定(ding)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)大(da)小以(yi)上(shang)(shang)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)離(li)(li)心力(li)(li)(li)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)旋(xuan)(xuan)轉速(su)度”是(shi)(shi)，通過試樣(yang)分(fen)析(xi)用(yong)(yong)(yong)基(ji)板200的(de)(de)(de)(de)(de)(de)旋(xuan)(xuan)轉產生離(li)(li)心力(li)(li)(li)，由此反應液(ye)等液(ye)體(ti)(ti)(ti)不會因重力(li)(li)(li)而移(yi)動的(de)(de)(de)(de)(de)(de)、能夠施(shi)加(jia)比各毛細(xi)管道的(de)(de)(de)(de)(de)(de)毛細(xi)管力(li)(li)(li)大(da)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)離(li)(li)心力(li)(li)(li)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)旋(xuan)(xuan)轉速(su)度。以(yi)下，在(zai)本說(shuo)明書中(zhong)相同。

如上所述，在(zai)維持高速(su)旋轉(zhuan)狀(zhuang)態(tai)的(de)(de)(de)狀(zhuang)態(tai)下，第(di)(di)2腔室202中的(de)(de)(de)液(ye)(ye)體試(shi)樣不(bu)會經由第(di)(di)2流路(lu)206向第(di)(di)3腔室203移送(song)。另一方面(mian)，在(zai)以施加(jia)比毛細管道的(de)(de)(de)毛細管力小的(de)(de)(de)離心力的(de)(de)(de)轉(zhuan)速(su)使(shi)試(shi)樣分析用基板200進行旋轉(zhuan)(也包括(kuo)停(ting)止狀(zhuang)態(tai))的(de)(de)(de)狀(zhuang)態(tai)下，第(di)(di)2腔室202中的(de)(de)(de)液(ye)(ye)體的(de)(de)(de)一部分通過(guo)毛細管現(xian)象充滿第(di)(di)2流路(lu)206。在(zai)由液(ye)(ye)體充滿第(di)(di)2流路(lu)206的(de)(de)(de)狀(zhuang)態(tai)下馬(ma)達(da)20使(shi)試(shi)樣分析用基板200旋轉(zhuan)時(shi)，在(zai)離心力超過(guo)毛細管力的(de)(de)(de)時(shi)間(jian)點，第(di)(di)2腔室202中的(de)(de)(de)液(ye)(ye)體開始(shi)向第(di)(di)3腔室203移送(song)。其結果(guo)，只(zhi)要(yao)馬(ma)達(da)20維持該轉(zhuan)速(su)以上的(de)(de)(de)轉(zhuan)速(su)，利用的(de)(de)(de)虹吸(xi)的(de)(de)(de)原理(li)，第(di)(di)2腔室202的(de)(de)(de)液(ye)(ye)體試(shi)樣即可連續地向第(di)(di)3腔室203移送(song)。

如上所述，第1流(liu)路(lu)205和第2流(liu)路(lu)206優選為通過毛細管現象吸(xi)引并移送液體的毛細管流(liu)路(lu)。

然而，第(di)(di)1流(liu)路205和(he)第(di)(di)2流(liu)路206無需為利用毛細(xi)管現(xian)象的(de)(de)流(liu)路。在該情(qing)(qing)況下，對從第(di)(di)1腔(qiang)室(shi)201經由(you)第(di)(di)2腔(qiang)室(shi)202向第(di)(di)3腔(qiang)室(shi)203移送液(ye)體時(shi)，控制(zhi)第(di)(di)2腔(qiang)室(shi)202和(he)第(di)(di)3腔(qiang)室(shi)203之間(jian)的(de)(de)液(ye)體的(de)(de)移送的(de)(de)情(qing)(qing)況進行(xing)說明。

例如，第(di)1流(liu)路205，在調整(zheng)試(shi)(shi)(shi)樣(yang)(yang)(yang)分(fen)(fen)析(xi)用(yong)(yong)基(ji)(ji)板(ban)(ban)200的(de)(de)(de)(de)(de)旋(xuan)轉角(jiao)度(du)(du)(du)(du)位(wei)置(zhi)而使作(zuo)(zuo)為(wei)(wei)(wei)移(yi)(yi)送(song)(song)源的(de)(de)(de)(de)(de)第(di)1腔(qiang)室(shi)(shi)201與(yu)作(zuo)(zuo)為(wei)(wei)(wei)移(yi)(yi)送(song)(song)目的(de)(de)(de)(de)(de)地的(de)(de)(de)(de)(de)第(di)2腔(qiang)室(shi)(shi)202產(chan)生高(gao)低(di)差，利用(yong)(yong)重(zhong)力(li)(li)對(dui)液體(ti)試(shi)(shi)(shi)樣(yang)(yang)(yang)進(jin)行移(yi)(yi)送(song)(song)的(de)(de)(de)(de)(de)情(qing)(qing)況(kuang)下(xia)(xia)，將試(shi)(shi)(shi)樣(yang)(yang)(yang)分(fen)(fen)析(xi)用(yong)(yong)基(ji)(ji)板(ban)(ban)200支(zhi)撐(cheng)為(wei)(wei)(wei)旋(xuan)轉軸P相對(dui)于鉛垂方向成(cheng)(cheng)0度(du)(du)(du)(du)以(yi)(yi)上且90度(du)(du)(du)(du)以(yi)(yi)下(xia)(xia)的(de)(de)(de)(de)(de)范圍。第(di)1腔(qiang)室(shi)(shi)201具(ju)有能(neng)(neng)夠(gou)在某(mou)個旋(xuan)轉角(jiao)度(du)(du)(du)(du)位(wei)置(zhi)將液體(ti)保(bao)持(chi)在第(di)1腔(qiang)室(shi)(shi)201中的(de)(de)(de)(de)(de)形狀。進(jin)一步，第(di)1腔(qiang)室(shi)(shi)201具(ju)有，在試(shi)(shi)(shi)樣(yang)(yang)(yang)分(fen)(fen)析(xi)用(yong)(yong)基(ji)(ji)板(ban)(ban)200的(de)(de)(de)(de)(de)旋(xuan)轉角(jiao)度(du)(du)(du)(du)變更(geng)的(de)(de)(de)(de)(de)情(qing)(qing)況(kuang)下(xia)(xia)，第(di)1腔(qiang)室(shi)(shi)201所保(bao)持(chi)的(de)(de)(de)(de)(de)液體(ti)能(neng)(neng)夠(gou)經由(you)第(di)1流(liu)路205向第(di)2腔(qiang)室(shi)(shi)202流(liu)出的(de)(de)(de)(de)(de)形狀。作(zuo)(zuo)為(wei)(wei)(wei)具(ju)體(ti)例，優(you)選第(di)1腔(qiang)室(shi)(shi)201的(de)(de)(de)(de)(de)最外(wai)(wai)周壁面(mian)(距(ju)旋(xuan)轉軸P最遠的(de)(de)(de)(de)(de)壁面(mian))的(de)(de)(de)(de)(de)形狀形成(cheng)(cheng)為(wei)(wei)(wei)凹形狀，以(yi)(yi)使得(de)在以(yi)(yi)預定(ding)的(de)(de)(de)(de)(de)角(jiao)度(du)(du)(du)(du)保(bao)持(chi)試(shi)(shi)(shi)樣(yang)(yang)(yang)分(fen)(fen)析(xi)用(yong)(yong)基(ji)(ji)板(ban)(ban)200的(de)(de)(de)(de)(de)情(qing)(qing)況(kuang)下(xia)(xia)，能(neng)(neng)夠(gou)由(you)該最外(wai)(wai)周壁面(mian)保(bao)持(chi)液體(ti)試(shi)(shi)(shi)樣(yang)(yang)(yang)。另外(wai)(wai)，在該情(qing)(qing)況(kuang)下(xia)(xia)，第(di)2流(liu)路206可(ke)以(yi)(yi)是毛細管流(liu)路(包(bao)括(kuo)虹吸結構)，也可(ke)以(yi)(yi)是能(neng)(neng)夠(gou)利用(yong)(yong)重(zhong)力(li)(li)進(jin)行液體(ti)試(shi)(shi)(shi)樣(yang)(yang)(yang)的(de)(de)(de)(de)(de)移(yi)(yi)送(song)(song)的(de)(de)(de)(de)(de)流(liu)路。但是，在第(di)2流(liu)路206為(wei)(wei)(wei)能(neng)(neng)夠(gou)利用(yong)(yong)重(zhong)力(li)(li)進(jin)行液體(ti)試(shi)(shi)(shi)樣(yang)(yang)(yang)的(de)(de)(de)(de)(de)移(yi)(yi)送(song)(song)的(de)(de)(de)(de)(de)流(liu)路的(de)(de)(de)(de)(de)情(qing)(qing)況(kuang)下(xia)(xia)，優(you)選第(di)2腔(qiang)室(shi)(shi)202的(de)(de)(de)(de)(de)最外(wai)(wai)周壁面(mian)如所述的(de)(de)(de)(de)(de)第(di)1腔(qiang)室(shi)(shi)202一樣(yang)(yang)(yang)，形成(cheng)(cheng)凹形狀。

另一(yi)方(fang)面，也考(kao)慮(lv)在(zai)(zai)第2腔(qiang)室(shi)202中進行復(fu)合(he)(he)體(ti)(ti)310的(de)(de)(de)(de)形(xing)(xing)成(cheng)(cheng)反應(ying)(ying)(ying)和B/F分(fen)離(li)的(de)(de)(de)(de)結構。然而，本(ben)實施方(fang)式所示的(de)(de)(de)(de)試樣分(fen)析(xi)用基板(ban)200假定(ding)為復(fu)合(he)(he)體(ti)(ti)310的(de)(de)(de)(de)形(xing)(xing)成(cheng)(cheng)反應(ying)(ying)(ying)不在(zai)(zai)第2腔(qiang)室(shi)202，而在(zai)(zai)第1腔(qiang)室(shi)201進行。其理由是因為，若在(zai)(zai)第2腔(qiang)室(shi)202進行復(fu)合(he)(he)體(ti)(ti)310的(de)(de)(de)(de)形(xing)(xing)成(cheng)(cheng)反應(ying)(ying)(ying)，則(ze)會(hui)(hui)在(zai)(zai)磁性顆粒被磁體(ti)(ti)16a在(zai)(zai)第2腔(qiang)室(shi)202的(de)(de)(de)(de)壁(bi)面捕(bu)捉的(de)(de)(de)(de)狀態(tai)(tai)下進行復(fu)合(he)(he)體(ti)(ti)310的(de)(de)(de)(de)形(xing)(xing)成(cheng)(cheng)反應(ying)(ying)(ying)。即(ji)，若在(zai)(zai)第2腔(qiang)室(shi)202進行復(fu)合(he)(he)體(ti)(ti)310的(de)(de)(de)(de)形(xing)(xing)成(cheng)(cheng)反應(ying)(ying)(ying)，則(ze)會(hui)(hui)在(zai)(zai)磁性顆粒的(de)(de)(de)(de)位(wei)置大(da)致固定(ding)的(de)(de)(de)(de)狀態(tai)(tai)下進行復(fu)合(he)(he)體(ti)(ti)310的(de)(de)(de)(de)形(xing)(xing)成(cheng)(cheng)反應(ying)(ying)(ying)，從(cong)而反應(ying)(ying)(ying)效率變差，并且復(fu)合(he)(he)體(ti)(ti)形(xing)(xing)成(cheng)(cheng)反應(ying)(ying)(ying)需要時間。

另(ling)外，也考慮在(zai)進行免疫測定(ding)(ding)時，在(zai)復(fu)合體(ti)(ti)(ti)310的(de)(de)形成(cheng)反(fan)應結束后，將(jiang)未圖示的(de)(de)腔室(shi)(shi)所(suo)保(bao)持(chi)的(de)(de)發(fa)光基(ji)質或(huo)(huo)顯(xian)色(se)(se)基(ji)質向(xiang)第(di)2腔室(shi)(shi)202移(yi)送(song)，并(bing)使其發(fa)光或(huo)(huo)產生顯(xian)色(se)(se)反(fan)應。另(ling)外，也存(cun)在(zai)如下(xia)情況：為了有效地抑制(zhi)(zhi)對(dui)非(fei)特(te)異的(de)(de)磁性顆粒302的(de)(de)吸(xi)附，在(zai)復(fu)合體(ti)(ti)(ti)310的(de)(de)形成(cheng)反(fan)應結束后，將(jiang)未圖示的(de)(de)腔室(shi)(shi)所(suo)保(bao)持(chi)的(de)(de)清洗液(ye)向(xiang)第(di)2腔室(shi)(shi)202移(yi)送(song)，并(bing)清洗(以(yi)及排出)磁性顆粒302。要使這樣(yang)的(de)(de)步驟在(zai)試樣(yang)分(fen)析(xi)用(yong)基(ji)板(ban)(ban)200內完成(cheng)，則必須經由另(ling)外具備的(de)(de)各腔室(shi)(shi)和(he)流路，在(zai)預定(ding)(ding)的(de)(de)定(ding)(ding)時下(xia)將(jiang)各液(ye)體(ti)(ti)(ti)向(xiang)包含(han)磁性顆粒302的(de)(de)第(di)2腔室(shi)(shi)202移(yi)送(song)。而且，需要試樣(yang)分(fen)析(xi)用(yong)基(ji)板(ban)(ban)200的(de)(de)復(fu)雜的(de)(de)旋轉(zhuan)控制(zhi)(zhi)。例(li)如，也存(cun)在(zai)如下(xia)情況：通(tong)過試樣(yang)分(fen)析(xi)用(yong)基(ji)板(ban)(ban)200的(de)(de)旋轉(zhuan)控制(zhi)(zhi)，發(fa)光基(ji)質或(huo)(huo)顯(xian)色(se)(se)基(ji)質的(de)(de)一部(bu)分(fen)和(he)/或(huo)(huo)清洗液(ye)的(de)(de)一部(bu)分(fen)在(zai)復(fu)合體(ti)(ti)(ti)310的(de)(de)形成(cheng)反(fan)應期間(jian)等，在(zai)意(yi)料之外的(de)(de)定(ding)(ding)時下(xia)向(xiang)包含(han)磁性顆粒302的(de)(de)腔室(shi)(shi)(例(li)如，第(di)2腔室(shi)(shi)202)中(zhong)移(yi)送(song)。

由(you)于這樣的(de)(de)(de)理(li)由(you)，因此在(zai)本實(shi)施(shi)方式的(de)(de)(de)試樣分析用基板(ban)200中，將形(xing)成復合體310的(de)(de)(de)腔室(shi)(shi)和進行B/F分離的(de)(de)(de)腔室(shi)(shi)分別設置。

根(gen)據(ju)以上(shang)的(de)(de)說明，參照圖18A～圖18C，對在本實施(shi)方式的(de)(de)試樣(yang)分(fen)析用基板(ban)200內進行的(de)(de)液體(ti)試樣(yang)的(de)(de)移送步驟的(de)(de)一例(li)進行說明。此外，在以下中(zhong)，僅說明復(fu)合體(ti)310的(de)(de)形(xing)成和除去(qu)不需要(yao)的(de)(de)液體(ti)的(de)(de)動作，例(li)如，對于根(gen)據(ju)發光或顯色進行檢(jian)測(ce)的(de)(de)結(jie)構(gou)，省略說明。另(ling)外，在此說明的(de)(de)第(di)1流(liu)路(lu)205和第(di)2流(liu)路(lu)206為(wei)毛細管流(liu)路(lu)，均設為(wei)利用上(shang)述的(de)(de)虹吸的(de)(de)原理(li)移送液體(ti)。

圖18A表示液體試(shi)樣(yang)導入(ru)第1腔室201的試(shi)樣(yang)分(fen)析用基板200。在(zai)圖18A中，液體試(shi)樣(yang)由(you)第1腔室201內的陰影(ying)表示。

首(shou)先，將(jiang)試(shi)樣(yang)(yang)(yang)分(fen)析(xi)用基板(ban)(ban)200放置(zhi)(zhi)于試(shi)樣(yang)(yang)(yang)分(fen)析(xi)裝(zhuang)置(zhi)(zhi)1，并(bing)(bing)且(qie)將(jiang)磁(ci)性顆(ke)粒固(gu)定化抗體(ti)(ti)(ti)305、抗原和標識抗體(ti)(ti)(ti)導入(ru)第(di)1腔(qiang)室(shi)(shi)201。可(ke)以(yi)考慮(lv)各(ge)(ge)種各(ge)(ge)樣(yang)(yang)(yang)的(de)(de)導入(ru)方(fang)法(fa)。例如(ru)，既可(ke)以(yi)由(you)操(cao)作者(zhe)將(jiang)各(ge)(ge)液體(ti)(ti)(ti)直接分(fen)注于第(di)1腔(qiang)室(shi)(shi)201，也可(ke)以(yi)將(jiang)液體(ti)(ti)(ti)分(fen)別分(fen)注于各(ge)(ge)腔(qiang)室(shi)(shi)201～203，通過試(shi)樣(yang)(yang)(yang)分(fen)析(xi)裝(zhuang)置(zhi)(zhi)1的(de)(de)旋轉控制將(jiang)各(ge)(ge)液體(ti)(ti)(ti)向第(di)1腔(qiang)室(shi)(shi)201移送(song)。無論采(cai)用哪種注入(ru)方(fang)法(fa)，最終(zhong)都會在(zai)(zai)第(di)1腔(qiang)室(shi)(shi)201中，進行復合體(ti)(ti)(ti)310的(de)(de)形成(cheng)。此外(wai)，試(shi)樣(yang)(yang)(yang)分(fen)析(xi)裝(zhuang)置(zhi)(zhi)1也可(ke)以(yi)在(zai)(zai)試(shi)樣(yang)(yang)(yang)分(fen)析(xi)用基板(ban)(ban)200停止的(de)(de)狀態(tai)下(xia)，形成(cheng)復合體(ti)(ti)(ti)310。然而，為了提高反應效率并(bing)(bing)且(qie)縮(suo)短(duan)反應時間(jian)，也可(ke)以(yi)使(shi)試(shi)樣(yang)(yang)(yang)分(fen)析(xi)用基板(ban)(ban)200在(zai)(zai)預定的(de)(de)角度范圍內擺動。

在試(shi)樣分析用基板200停止的狀態下，第(di)1腔室201中的液(ye)體試(shi)樣(包含磁性(xing)顆粒302。)通過毛(mao)細(xi)管(guan)現象被吸引到第(di)1流路205內，并充滿第(di)1流路205。

接著，試(shi)樣分析(xi)(xi)裝(zhuang)置1使試(shi)樣分析(xi)(xi)用基板200高速旋(xuan)轉(zhuan)。其結(jie)果，第(di)(di)1腔室(shi)201內的液(ye)體(ti)試(shi)樣受到離心(xin)力，并且經由第(di)(di)1流路205向(xiang)第(di)(di)2腔室(shi)202移送。圖18B表(biao)示液(ye)體(ti)試(shi)樣從第(di)(di)1腔室(shi)201向(xiang)第(di)(di)2腔室(shi)202移送后的試(shi)樣分析(xi)(xi)用基板200。

在試(shi)樣分析用(yong)基板(ban)200的(de)(de)(de)(de)(de)高速旋轉期間，向第(di)2腔(qiang)(qiang)(qiang)室(shi)(shi)202移送(song)的(de)(de)(de)(de)(de)液(ye)體試(shi)樣不會經由第(di)2流(liu)路206向第(di)3腔(qiang)(qiang)(qiang)室(shi)(shi)203移送(song)。另(ling)外，液(ye)體試(shi)樣中的(de)(de)(de)(de)(de)磁(ci)(ci)性(xing)顆粒302大致由磁(ci)(ci)體16a的(de)(de)(de)(de)(de)磁(ci)(ci)力，在第(di)2腔(qiang)(qiang)(qiang)室(shi)(shi)202的(de)(de)(de)(de)(de)壁面(mian)被(bei)捕捉。另(ling)一(yi)方(fang)面(mian)，在使試(shi)樣分析用(yong)基板(ban)200的(de)(de)(de)(de)(de)旋轉停止時，第(di)2腔(qiang)(qiang)(qiang)室(shi)(shi)202中的(de)(de)(de)(de)(de)液(ye)體(實際不包含(han)磁(ci)(ci)性(xing)顆粒302。)通過毛細管現象被(bei)吸引到(dao)第(di)2流(liu)路206內，并充滿(man)第(di)2流(liu)路206。

此后，試(shi)(shi)樣分析(xi)(xi)(xi)裝置1使(shi)試(shi)(shi)樣分析(xi)(xi)(xi)用(yong)基板200高速旋轉。由(you)此，試(shi)(shi)樣分析(xi)(xi)(xi)用(yong)基板200的(de)第2腔(qiang)室202內的(de)液體(ti)試(shi)(shi)樣受到離心(xin)力(li)，并經(jing)由(you)第2流路(lu)206向第3腔(qiang)室203移送。另一(yi)方面，磁性顆粒302保持由(you)第2腔(qiang)室202保持的(de)狀(zhuang)態。圖18C表示液體(ti)試(shi)(shi)樣等向第3腔(qiang)室203移送后的(de)試(shi)(shi)樣分析(xi)(xi)(xi)用(yong)基板200。

此外，在本實施方式中，對磁體16a配置(zhi)于試樣(yang)分(fen)析(xi)(xi)用基(ji)板200的(de)例子進行說明(ming)。然而(er)，也可以考慮其(qi)他(ta)的(de)例。例如，也可以不將磁體設置(zhi)于試樣(yang)分(fen)析(xi)(xi)用基(ji)板，而(er)設置(zhi)于試樣(yang)分(fen)析(xi)(xi)裝置(zhi)。

圖(tu)19表示變形例(li)的試樣(yang)(yang)分(fen)(fen)析(xi)裝(zhuang)(zhuang)置(zhi)100的結構(gou)。對(dui)圖(tu)3所(suo)示的試樣(yang)(yang)分(fen)(fen)析(xi)裝(zhuang)(zhuang)置(zhi)1與圖(tu)5或圖(tu)8所(suo)示的試樣(yang)(yang)分(fen)(fen)析(xi)裝(zhuang)(zhuang)置(zhi)相同的構(gou)成要素標注相同的參照標號，并省略(lve)說明。

試(shi)樣分(fen)(fen)(fen)析裝(zhuang)置(zhi)100具有(you)與軸承40機(ji)械結合(he)的(de)(de)臂(bei)41，所述(shu)軸承40具有(you)旋轉(zhuan)軸P，在臂(bei)41的(de)(de)端部(bu)設(she)置(zhi)有(you)磁(ci)體(ti)(ti)16d。與該結構相對應而使用(yong)的(de)(de)試(shi)樣分(fen)(fen)(fen)析用(yong)基(ji)板(ban)210，例(li)如只(zhi)要具有(you)可(ke)供磁(ci)體(ti)(ti)插(cha)入(ru)的(de)(de)磁(ci)體(ti)(ti)容納室(shi)18a即可(ke)。磁(ci)體(ti)(ti)容納室(shi)18a的(de)(de)開口部(bu)既(ji)可(ke)以設(she)置(zhi)于(yu)試(shi)樣分(fen)(fen)(fen)析用(yong)基(ji)板(ban)210的(de)(de)上表面(mian)，也可(ke)以設(she)置(zhi)于(yu)下表面(mian)。另外，開口部(bu)也可(ke)以是貫通試(shi)樣分(fen)(fen)(fen)析用(yong)基(ji)板(ban)210的(de)(de)上表面(mian)和(he)下表面(mian)的(de)(de)孔。可(ke)調(diao)整磁(ci)體(ti)(ti)16d能(neng)夠插(cha)入(ru)磁(ci)體(ti)(ti)容納室(shi)18a(圖1B)的(de)(de)位置(zhi)和(he)大(da)小。磁(ci)體(ti)(ti)容納室(shi)18a將(jiang)設(she)置(zhi)于(yu)試(shi)樣分(fen)(fen)(fen)析裝(zhuang)置(zhi)100的(de)(de)磁(ci)體(ti)(ti)16d容納，并(bing)且作為馬達(da)20使試(shi)樣分(fen)(fen)(fen)析用(yong)基(ji)板(ban)210旋轉(zhuan)時的(de)(de)鎖定機(ji)構和(he)/或轉(zhuan)矩(ju)的(de)(de)傳遞機(ji)構而發揮功能(neng)。

試樣(yang)(yang)分(fen)析用(yong)基板(ban)210的內部的結構可以與(yu)到此(ci)為止所說明的試樣(yang)(yang)分(fen)析用(yong)基板(ban)10和(he)試樣(yang)(yang)分(fen)析用(yong)基板(ban)200相同。即(ji)，試樣(yang)(yang)分(fen)析用(yong)基板(ban)210也只要具備例如第(di)1腔室201、第(di)2腔室202以及第(di)1流路205即(ji)可。

此外，上述的(de)(de)試樣(yang)分(fen)(fen)析裝(zhuang)置100不具備磁(ci)體(ti)檢測機構26(圖3)。因為在(zai)試樣(yang)分(fen)(fen)析用基(ji)板210放置時磁(ci)體(ti)16d必定(ding)插入其中，因此沒(mei)有(you)必要對磁(ci)體(ti)的(de)(de)有(you)無進行檢測。此外，關于平衡件也(ye)一樣(yang)，既可(ke)以不在(zai)試樣(yang)分(fen)(fen)析用基(ji)板210上設(she)置，也(ye)可(ke)以不在(zai)試樣(yang)分(fen)(fen)析裝(zhuang)置100側(ce)設(she)置。

產業上的可利用性

本公開適用(yong)于對檢驗標本的(de)特定成分(fen)進(jin)行分(fen)析的(de)試樣(yang)分(fen)析用(yong)基板和試樣(yang)分(fen)析裝置。

標號的說明

1試樣分(fen)析裝(zhuang)(zhuang)置；10、110、200試樣分(fen)析用(yong)基板；12、110a基體(ti)基板；14反應腔(qiang)室；16a磁體(ti)；16b平衡件(jian)；16c固定用(yong)突起；18a磁體(ti)容納室；18b平衡件(jian)容納室；18c固定用(yong)孔；20馬達(da)；22驅動電(dian)路(lu)；24操作(zuo)部(bu)；26磁體(ti)檢(jian)測(ce)(ce)機構；26a光(guang)檢(jian)測(ce)(ce)裝(zhuang)(zhuang)置；26b磁力檢(jian)測(ce)(ce)裝(zhuang)(zhuang)置；26c負荷(he)檢(jian)測(ce)(ce)電(dian)路(lu)；28信(xin)號生成電(dian)路(lu)；30控(kong)制(zhi)電(dian)路(lu)；32顯示裝(zhuang)(zhuang)置；34揚聲(sheng)器；38光(guang)源；42重量計測(ce)(ce)電(dian)路(lu)；110b磁體(ti)單元；201第(di)(di)1腔(qiang)室；202第(di)(di)2腔(qiang)室；203第(di)(di)3腔(qiang)室；205第(di)(di)1流路(lu)；205a第(di)(di)1彎曲(qu)部(bu)；205b第(di)(di)2彎曲(qu)部(bu)；206第(di)(di)2流路(lu)；302磁性顆粒(li)；304一級抗體(ti)；305磁性顆粒(li)固定化抗體(ti)；306抗原；307標識物質(zhi)；308標識抗體(ti)；310復合體(ti)。