專利名稱：動態光散射用蛋白質晶體生長樣品池的制作方法
技術領域：
本實用新型提供一種晶體生長樣品池，特別是指一種動態光散射蛋白質晶體生長樣品池。
動態光散射可以檢測并特征表示上述聚集。從二十世紀八十年代初開始，陸續有許多科研工作者用動態光散射對批量法生長的蛋白質晶體生長過程進行了研究，但是幾乎所有用動態光散射研究蛋白質晶體生長的實驗都采用的是批量法培養蛋白質晶體，尚未見到有應用汽相擴散法的報道。雖然汽相擴散法和批量法都是培養蛋白質晶體常用的方法，但前者更為常用，實際使用比例高達80％-90％。我們設計了動態光散射用蛋白質晶體生長樣品池，它具有如下特點在此樣品池中既可用批量法也可用汽相擴散法生長蛋白質晶體；生長所需的蛋白質樣品量很少，只需幾十微升；可方便地調節汽相擴散速度。
本實用新型一種動態光散射用蛋白質晶體生長樣品池，其特征在于，其中包括一調節器，該調節器為圓筒體，在該筒體的底部固接一下底，在該下底的中心位置開有一方孔，在該調節器的上端形成一開口；一散射池，該散射池為方形柱體中空，該散射池的下方密封，上方為開口狀而形成一容器，該散射池的邊長小于調節器的直徑，該散射池的邊長與調節器下底的中心方孔的邊長相同，該散射池穿過調節器下底的中心方孔并與之固接；一上蓋，該上蓋螺接于調節器上端的開口。
其中散射池是由聚四氟乙烯制成。
其中調節器是由光學玻璃制成。
其中該散射池穿過調節器下底的中心方孔并與之固接的方式為粘接。
一散射池20，該散射池20為方形柱體中空，該散射池20的下方密封，上方為開口狀而形成一容器，該散射池20的邊長小于調節器10的直徑，該散射池20的邊長與調節器10下底11的中心方孔12的邊長相同，該散射池20穿過調節器10下底11的中心方孔12并與之粘接，該散射池20是由聚四氟乙烯制成。
一上蓋30，該上蓋30螺接于調節器10上端的開口13。
因該散射池20穿過調節器10下底11的中心方孔12并與之粘接，其粘接的位置是調節器10下底11與散射池20概略中間的位置，所以在調節器10內和散射池20上部之間形成有一環形的容室14。
本實用新型的工作過程為采用批量法生長蛋白質晶體時，主要采用降(或升)溫的方法，最終使蛋白質溶液達到過飽和狀態而結晶。用汽相擴散法生長蛋白質晶體時，主要通過將蛋白質溶液中的水分汽相擴散到沉淀劑中，最終使蛋白質溶液達到過飽和狀態而結晶。
采用本實用新型批量法生長蛋白質晶體時，在散射池20與調節器10所形成的容室14中不加入沉淀劑；而用汽相擴散法生長蛋白質晶體時，在散射池20與調節器10所形成的容室14中要加入沉淀劑。這樣就很方便地實現了在一個樣品池中既可用批量法也可用汽相擴散法生長蛋白質晶體。
在蓋子30密封性能良好的情況下，樣品池內部是一個完全封閉的體系。在散射池20內放入蛋白質水溶液，在容室14中放入沉淀劑，在蛋白質水溶液和沉淀劑之間，由于化學勢的不同，會發生水分的交換現象，即水分會通過汽相擴散從蛋白質溶液中擴散到沉淀劑中。沉淀劑吸附水分的能力越強(對于溶液指溶液的濃度越高)，則水分由蛋白質溶液中擴散到沉淀劑中的速度也就越快，即汽相擴散速度越快。通過改變沉淀劑溶液的濃度或改變固體沉淀劑粉末的種類，則可很容易地實現汽相擴散速度的調節。
其中所使用的沉淀劑為溶液或固體粉末。
本實用新型的優點是在此樣品池中既可用批量法也可用汽相擴散法生長蛋白質晶體，這樣可對二法生長蛋白質晶體的異同處進行研究；蛋白質樣品所需量很少，只需幾十微升，大大節約了摸索蛋白質晶體生長條件的成本；可以方便地調節汽相擴散的速度，滿足汽相擴散速度對晶體生長影響的需求。
權利要求1.一種動態光散射用蛋白質晶體生長樣品池，其特征在于，其中包括一調節器，該調節器為圓筒體，在該筒體的底部固接一下底，在該下底的中心位置開有一方孔，在該調節器的上端形成一開口；一散射池，該散射池為方形柱體中空，該散射池的下方密封，上方為開口狀而形成一容器，該散射池的邊長小于調節器的直徑，該散射池的邊長與調節器下底的中心方孔的邊長相同，該散射池穿過調節器下底的中心方孔并與之固接；一上蓋，該上蓋螺接于調節器上端的開口。
2.根據權利要求1所述的動態光散射用蛋白質晶體生長樣品池，其特征在于，其中散射池是由聚四氟乙烯制成。
3.根據權利要求1所述的動態光散射用蛋白質晶體生長樣品池，其特征在于，其中調節器是由光學玻璃制成。
4.根據權利要求1所述的動態光散射用蛋白質晶體生長樣品池，其特征在于，其中該散射池穿過調節器下底的中心方孔并與之固接的方式為粘接。
專利摘要一種動態光散射用蛋白質晶體生長樣品池,其中包括:一調節器,該調節器為圓筒體,在該筒體的底部固接一下底,在該下底的中心位置開行一方孔,在該調節器的上端形成一開口;一散射池,該散射池為方形柱體中空,該散射池的下方密封,上方為開口狀而形成一容器,該散射池的邊長小于調節器的直徑,該散射池的邊長與調節器下底的中心方孔的邊長相同,該散射池穿過調節器下底的中心方孔并與之固接;一上蓋,該上蓋螺接于調節器上端的開口。
文檔編號G01N21/47GK2519274SQ0220431
公開日2002年10月30日 申請日期2002年1月25日 優先權日2002年1月25日
發明者戴國亮, 孫祉偉 申請人:中國科學院力學研究所