專利名稱：渦旋壓縮機的渦旋盤的制作方法
技術領域：
本發明涉及流體變容式機械裝置，是一種渦旋壓縮機的渦旋盤，適用于排氣量相對較大且氣體所需的壓縮比相對較小的場合。
背景技術：
現有技術中較常見的渦旋壓縮機是單頭渦旋型線齒，這種渦旋壓縮機在處理排氣量相對較大且氣體所需的壓縮比相對較小的場合下，存在著以下的缺點1)動靜渦旋盤的尺寸較大，整機的外形尺寸增加；2)渦旋盤的心部利用率較低，渦旋盤所受的軸向力較大；3)曲軸的回轉半徑增加，動靜渦旋的相對運動線速度增加，動、靜渦旋齒的摩擦力增加，摩擦產生的熱量增大，效率損失增大。

發明內容
本發明的目的是提供一種渦旋壓縮機的渦旋盤，在保持渦旋盤外形尺寸和主軸轉速不變的工況下，增大了進氣量，增加了渦旋盤中心部分的空間利用率，降低了曲軸的回轉半徑，減小了動、靜渦旋盤相對運動的線速度。
本發明為渦旋壓縮機的渦旋盤，由動渦旋盤和靜渦旋盤組成，渦旋線齒分別伸出動渦旋盤和靜渦旋盤的盤面，并且分別與所在的動渦旋盤和靜渦旋盤盤面垂直，在動渦旋盤和靜渦旋盤上分別有兩條各自獨立的渦旋線齒，動渦旋盤與靜渦旋盤安裝在一起，形成四條相互嚙合的渦旋線齒，每一周限定成四個獨立的月牙形氣體壓縮腔，氣體從進氣口分成兩路進入吸氣腔進行壓縮，最后匯總，由同一排氣孔排出機外。本發明分別在動渦旋盤、靜渦旋盤上相對180°的位置建立兩條渦旋線齒。
本發明的有益之處為在相同的渦旋盤外形尺寸和相同的主軸轉速下，增大了進氣量，增加了渦旋盤中心部分的空間利用率，降低了曲軸的回轉半徑，減小了動、靜渦旋盤相對運動的線速度，使得動渦旋盤受力均勻，減小了整機的振動。


圖1為本發明的渦旋盤的渦旋線齒的結構圖，動渦旋盤與靜渦旋盤的渦旋線齒的結構相同，圖2為動渦旋盤與靜渦旋盤的渦旋線齒嚙合示意圖。
具體實施例方式
如圖1所示，渦旋線齒分別伸出動渦旋盤和靜渦旋盤的盤面，并且分別與所在的動渦旋盤和靜渦旋盤盤面垂直，在動渦旋盤和靜渦旋盤上分別有兩條各自獨立的渦旋線齒。如圖2所示，在壓縮機工作時，四條渦旋線齒相互嚙合，每一周形成四個獨立的月牙形壓縮腔，氣體從進氣口分成兩路進入吸氣腔進行壓縮，最后匯總，由同一排氣孔排出機外。如圖1所示，在動渦旋盤和靜渦旋盤上相對180°的位置建立兩條渦旋型線齒，相對于單渦旋型線齒，漸開線的基圓半徑增加，漸開線的發生角減小，進氣腔增加為2個，單個腔的容積變化增大，對氣體的壓縮速度加快，相鄰的壓縮腔的壓差增大。
與以往的單頭渦旋線齒的渦旋壓縮機相比，本發明的主要優點是1)進氣量增大，在相同的渦旋盤外形尺寸和相同的渦旋齒壁厚下，進氣量是原來的1.6～2倍；2)曲軸回轉半徑減小，在相同的進氣量和外形尺寸下，曲軸半徑是原來的0.5～0.7倍；3)轉速低，在相同的進氣量和外形尺寸下，轉速是原來的0.6～0.8倍；4)動靜渦旋線齒的相對運動線速度小，在相同的進氣量和外形尺寸下，線速度是原來的0.4～0.6倍。
權利要求
1.渦旋壓縮機的渦旋盤，由動渦旋盤和靜渦旋盤組成，渦旋線齒分別伸出動渦旋盤和靜渦旋盤的盤面，并且分別與所在的動渦旋盤和靜渦旋盤盤面垂直，本發明的特征在于在動渦旋盤和靜渦旋盤上分別有兩條各自獨立的渦旋線齒，動渦旋盤與靜渦旋盤安裝在一起，形成四條相互嚙合的渦旋線齒，每一周限定成四個獨立的月牙形氣體壓縮腔，氣體從進氣口分成兩路進入吸氣腔進行壓縮，最后匯總，由同一排氣孔排出機外。
2.根據權利要求1所述的渦旋壓縮機的渦旋盤，其特征在于分別在動渦旋盤、靜渦旋盤上相對180°的位置建立兩條渦旋線齒。
全文摘要
渦旋壓縮機的渦旋盤，在動、靜渦旋盤上分別有兩條各自獨立的渦旋線齒。四條渦旋線齒相互嚙合形成四個獨立的月牙形壓縮腔，氣體從進氣口分成四路進入四個進氣腔進行壓縮，最后匯總，由同一排氣孔排出機外。本發明在相同的渦旋盤外形尺寸和相同的主軸轉速下，增大了進氣量，增加了渦旋盤中心部分的空間利用率，降低了曲軸的回轉半徑，減小了動、靜渦旋盤相對運動的線速度，使得動渦旋盤受力均勻，減小了整機的振動。
文檔編號F04C29/00GK1570389SQ20041002612
公開日2005年1月26日 申請日期2004年4月28日 優先權日2004年4月28日
發明者劉振全, 李超, 王君, 趙嫚, 彭斌, 劉興旺, 劉濤, 陳明義, 杜桂榮 申請人:蘭州理工大學