本發(fa)明(ming)涉及(ji)金屬箔生產，特別涉及(ji)一種金屬箔生產裝置。

背景技術：

1、銅(tong)(tong)箔指(zhi)銅(tong)(tong)的(de)(de)極(ji)薄材料，將(jiang)厚度為(wei)200μm以(yi)下的(de)(de)銅(tong)(tong)及(ji)銅(tong)(tong)合金片(pian)，根(gen)據生(sheng)產(chan)(chan)工藝的(de)(de)不同，工業用銅(tong)(tong)箔可(ke)分為(wei)壓延銅(tong)(tong)箔和(he)電(dian)解銅(tong)(tong)箔。相(xiang)比(bi)于技術復雜、應用規模(mo)較小(xiao)的(de)(de)壓延銅(tong)(tong)箔，電(dian)解銅(tong)(tong)箔的(de)(de)生(sheng)產(chan)(chan)成本較低、應用規模(mo)龐大，是(shi)銅(tong)(tong)箔的(de)(de)主要生(sheng)產(chan)(chan)方(fang)式。電(dian)解銅(tong)(tong)箔根(gen)據應用領域不同，可(ke)以(yi)分為(wei)鋰電(dian)銅(tong)(tong)箔和(he)電(dian)子電(dian)路(lu)銅(tong)(tong)箔。

2、其中(zhong)，鋰(li)電(dian)銅箔(bo)一般(ban)采用輥式連續(xu)電(dian)解法生產(chan)，其生產(chan)中(zhong)，受到(dao)陰極輥表面(mian)工況、電(dian)解液流態以及(ji)添加劑產(chan)生的(de)(de)泡沫等(deng)(deng)影響，容易(yi)出現暗(an)斑(ban)等(deng)(deng)表面(mian)缺陷，需要通過打磨(mo)等(deng)(deng)后(hou)處理(li)方式去除，然(ran)而后(hou)處理(li)難度(du)較大，會(hui)造成資(zi)源浪費，降低生產(chan)效能(neng)，特別是對(dui)10μm以下的(de)(de)較薄銅箔(bo)，再(zai)處理(li)容易(yi)造成銅箔(bo)的(de)(de)損傷(shang)，且未能(neng)有效去除的(de)(de)暗(an)斑(ban)類缺陷會(hui)影響鋰(li)電(dian)銅箔(bo)產(chan)品(pin)的(de)(de)質量，進而影響鋰(li)電(dian)池(chi)的(de)(de)電(dian)池(chi)容量、能(neng)量密(mi)度(du)、放電(dian)效率等(deng)(deng)電(dian)池(chi)性能(neng)，不利于鋰(li)電(dian)產(chan)業的(de)(de)良性發展。

技術實現思路

1、基于此(ci)，本發明的(de)目的(de)是提供一(yi)種金屬箔生(sheng)產(chan)裝置，以解(jie)決現有技(ji)術中(zhong)金屬箔電解(jie)法生(sheng)產(chan)中(zhong)容易出現暗斑(ban)類表面缺陷(xian)的(de)問題。

2、本發明提供一種金(jin)屬箔生產裝置，其包(bao)括：機臺(tai)、設置于所(suo)述機臺(tai)上的(de)電解槽(cao)和陰極輥(gun)，以及設置于所(suo)述電解槽(cao)底面(mian)的(de)陽極板(ban)，其中，

3、所(suo)述(shu)電(dian)(dian)解(jie)(jie)槽(cao)為弧形槽(cao)，所(suo)述(shu)陰極輥至少部分布置于所(suo)述(shu)電(dian)(dian)解(jie)(jie)槽(cao)中，且所(suo)述(shu)電(dian)(dian)解(jie)(jie)槽(cao)的底(di)面與所(suo)述(shu)陰極輥的表(biao)面平行，所(suo)述(shu)陽極板貼附于所(suo)述(shu)電(dian)(dian)解(jie)(jie)槽(cao)的底(di)面，所(suo)述(shu)電(dian)(dian)解(jie)(jie)槽(cao)的底(di)部設置有進液口；

4、所(suo)述陽極板的覆蓋范圍小于(yu)所(suo)述電解(jie)槽的覆蓋范圍，以(yi)在(zai)所(suo)述電解(jie)槽兩端的出液位置形(xing)成兩過渡區；

5、所(suo)(suo)述過渡區設(she)置(zhi)有屏(ping)蔽板(ban)，所(suo)(suo)述屏(ping)蔽板(ban)間(jian)隔靠(kao)近所(suo)(suo)述陰極(ji)輥表面設(she)置(zhi)，且間(jian)距小(xiao)于(yu)第一(yi)預設(she)距離(li)、大(da)于(yu)零(ling)，所(suo)(suo)述屏(ping)蔽板(ban)為導(dao)電(dian)(dian)材質，且外層(ceng)包覆有絕緣層(ceng)，在(zai)工(gong)作狀態下，所(suo)(suo)述屏(ping)蔽板(ban)的(de)電(dian)(dian)勢低(di)于(yu)或等于(yu)所(suo)(suo)述陰極(ji)輥的(de)電(dian)(dian)勢。

6、可選地，所(suo)(suo)述陽極板(ban)上還設(she)置有輔助場(chang)板(ban)，所(suo)(suo)述輔助場(chang)板(ban)為導電材質，且(qie)外層(ceng)包覆有絕緣(yuan)層(ceng)，用于在連接第一電源時(shi)，在所(suo)(suo)述輔助場(chang)板(ban)至所(suo)(suo)述陰極輥(gun)之間形(xing)成一指(zhi)向所(suo)(suo)述陰極輥(gun)的輔助電場(chang)；

7、所述(shu)輔助(zhu)場(chang)板包括多(duo)個(ge)場(chang)板單元，所述(shu)場(chang)板單元為長條(tiao)形，且并列間隔布置，布置方(fang)向與(yu)所述(shu)電解(jie)槽的延伸(shen)方(fang)向一(yi)致。

8、可(ke)選地，還(huan)包括網格板，所(suo)述(shu)網格板與所(suo)述(shu)屏(ping)蔽板的層結構相同，且彼(bi)此(ci)電連接，所(suo)述(shu)網格板由所(suo)述(shu)屏(ping)蔽板延伸出，并延伸至(zhi)包圍(wei)所(suo)述(shu)陽(yang)極板的末端設置。

9、可選地，所(suo)述輔助場板(ban)還包括網(wang)格板(ban)單元(yuan)，所(suo)述網(wang)格板(ban)單元(yuan)設置(zhi)于(yu)所(suo)述電解槽的(de)進(jin)液(ye)口處。

10、可選地，所(suo)述網(wang)格板單元的孔隙(xi)率大于或(huo)等于80％。

11、可選地，所述陽極板接入的工作電流為脈沖(chong)電流。

12、可選地，所(suo)述輔助場板(ban)貼覆設置于(yu)所(suo)述陽極板(ban)上，或(huo)與所(suo)述陽極板(ban)平行間隔設置，且間距小(xiao)于(yu)或(huo)等于(yu)5毫米。

13、可(ke)選地，所(suo)述輔助場板的電(dian)源(yuan)接(jie)入(ru)點與所(suo)述陽極板的電(dian)源(yuan)接(jie)入(ru)點交(jiao)錯分布。

14、可選(xuan)地，所述屏蔽板的(de)頂(ding)邊高度高于(yu)(yu)或等于(yu)(yu)所述電(dian)解槽的(de)出液線高度。

15、可選地，所(suo)(suo)述屏蔽板上還(huan)設置有出(chu)液(ye)(ye)口(kou)，所(suo)(suo)述出(chu)液(ye)(ye)口(kou)的(de)設置位(wei)置與所(suo)(suo)述出(chu)液(ye)(ye)線(xian)的(de)高度一致，以保持(chi)所(suo)(suo)述屏蔽板與所(suo)(suo)述陰極輥之間(jian)的(de)電解(jie)液(ye)(ye)的(de)流通性。

16、本發明提供的(de)(de)(de)(de)(de)金(jin)(jin)屬(shu)(shu)箔生產裝置(zhi)(zhi)包括：機(ji)(ji)臺、設置(zhi)(zhi)于(yu)(yu)(yu)機(ji)(ji)臺上的(de)(de)(de)(de)(de)電(dian)(dian)解(jie)(jie)(jie)槽(cao)(cao)(cao)(cao)和陰極(ji)輥(gun)(gun)，以及設置(zhi)(zhi)于(yu)(yu)(yu)電(dian)(dian)解(jie)(jie)(jie)槽(cao)(cao)(cao)(cao)底(di)面(mian)的(de)(de)(de)(de)(de)陽(yang)極(ji)板(ban)(ban)(ban)，其中，電(dian)(dian)解(jie)(jie)(jie)槽(cao)(cao)(cao)(cao)為(wei)弧形槽(cao)(cao)(cao)(cao)，陰極(ji)輥(gun)(gun)至(zhi)少部(bu)分(fen)布置(zhi)(zhi)于(yu)(yu)(yu)電(dian)(dian)解(jie)(jie)(jie)槽(cao)(cao)(cao)(cao)中，且電(dian)(dian)解(jie)(jie)(jie)槽(cao)(cao)(cao)(cao)的(de)(de)(de)(de)(de)底(di)面(mian)與(yu)陰極(ji)輥(gun)(gun)的(de)(de)(de)(de)(de)表面(mian)平行，陽(yang)極(ji)板(ban)(ban)(ban)貼附于(yu)(yu)(yu)電(dian)(dian)解(jie)(jie)(jie)槽(cao)(cao)(cao)(cao)的(de)(de)(de)(de)(de)底(di)面(mian)，電(dian)(dian)解(jie)(jie)(jie)槽(cao)(cao)(cao)(cao)的(de)(de)(de)(de)(de)底(di)部(bu)設置(zhi)(zhi)有進液(ye)(ye)口(kou)；陽(yang)極(ji)板(ban)(ban)(ban)的(de)(de)(de)(de)(de)覆(fu)蓋范圍小于(yu)(yu)(yu)電(dian)(dian)解(jie)(jie)(jie)槽(cao)(cao)(cao)(cao)的(de)(de)(de)(de)(de)覆(fu)蓋范圍，以在(zai)電(dian)(dian)解(jie)(jie)(jie)槽(cao)(cao)(cao)(cao)兩(liang)端的(de)(de)(de)(de)(de)出(chu)(chu)(chu)液(ye)(ye)位(wei)置(zhi)(zhi)形成(cheng)兩(liang)過(guo)渡(du)區(qu)(qu)(qu)；過(guo)渡(du)區(qu)(qu)(qu)設置(zhi)(zhi)有屏(ping)蔽(bi)(bi)板(ban)(ban)(ban)，屏(ping)蔽(bi)(bi)板(ban)(ban)(ban)間隔(ge)靠近陰極(ji)輥(gun)(gun)表面(mian)設置(zhi)(zhi)，屏(ping)蔽(bi)(bi)板(ban)(ban)(ban)為(wei)導(dao)電(dian)(dian)材質，且外層包覆(fu)有絕緣層，在(zai)工作狀態下，屏(ping)蔽(bi)(bi)板(ban)(ban)(ban)的(de)(de)(de)(de)(de)電(dian)(dian)勢(shi)低于(yu)(yu)(yu)或等于(yu)(yu)(yu)陰極(ji)輥(gun)(gun)的(de)(de)(de)(de)(de)電(dian)(dian)勢(shi)，可(ke)隔(ge)斷屏(ping)蔽(bi)(bi)板(ban)(ban)(ban)覆(fu)蓋區(qu)(qu)(qu)域的(de)(de)(de)(de)(de)電(dian)(dian)場，使得該陰極(ji)輥(gun)(gun)與(yu)電(dian)(dian)解(jie)(jie)(jie)液(ye)(ye)的(de)(de)(de)(de)(de)分(fen)界線區(qu)(qu)(qu)域不(bu)滿足電(dian)(dian)解(jie)(jie)(jie)條件而不(bu)參與(yu)電(dian)(dian)解(jie)(jie)(jie)，避免(mian)分(fen)界線位(wei)置(zhi)(zhi)出(chu)(chu)(chu)現(xian)(xian)的(de)(de)(de)(de)(de)不(bu)規(gui)則泡沫(mo)、以及分(fen)界線受(shou)液(ye)(ye)面(mian)波動影(ying)響而不(bu)規(gui)則變化(hua)，導(dao)致在(zai)分(fen)界線位(wei)置(zhi)(zhi)沉積的(de)(de)(de)(de)(de)金(jin)(jin)屬(shu)(shu)層均勻度(du)不(bu)可(ke)控(kong)而出(chu)(chu)(chu)現(xian)(xian)暗(an)斑類表面(mian)缺(que)陷的(de)(de)(de)(de)(de)問題。本發明提供的(de)(de)(de)(de)(de)金(jin)(jin)屬(shu)(shu)箔生產裝置(zhi)(zhi)通(tong)過(guo)屏(ping)蔽(bi)(bi)板(ban)(ban)(ban)將實際電(dian)(dian)解(jie)(jie)(jie)區(qu)(qu)(qu)域限制在(zai)電(dian)(dian)解(jie)(jie)(jie)液(ye)(ye)完全浸潤的(de)(de)(de)(de)(de)內部(bu)區(qu)(qu)(qu)域，可(ke)有效(xiao)避免(mian)陰極(ji)輥(gun)(gun)與(yu)電(dian)(dian)解(jie)(jie)(jie)液(ye)(ye)的(de)(de)(de)(de)(de)分(fen)界線位(wei)置(zhi)(zhi)參與(yu)電(dian)(dian)解(jie)(jie)(jie)，降低產出(chu)(chu)(chu)的(de)(de)(de)(de)(de)金(jin)(jin)屬(shu)(shu)箔出(chu)(chu)(chu)現(xian)(xian)暗(an)斑類表面(mian)缺(que)陷的(de)(de)(de)(de)(de)風險，提高(gao)金(jin)(jin)屬(shu)(shu)箔質量(liang)，提高(gao)生產效(xiao)能。

技術特征：

1.一種金屬(shu)箔(bo)生產裝置(zhi)，其特征(zheng)在于(yu)，包括：機(ji)臺(tai)、設(she)置(zhi)于(yu)所述機(ji)臺(tai)上的電解槽和陰極輥，以及設(she)置(zhi)于(yu)所述電解槽底(di)面的陽極板(ban)，其中，

2.根據權利要求1所(suo)述(shu)的金屬箔生產裝(zhuang)置，其特征在于(yu)，

3.根(gen)據權(quan)利要求1所(suo)述(shu)的金屬箔(bo)生產裝置(zhi)，其特征在(zai)于，還包(bao)括網(wang)格板(ban)(ban)，所(suo)述(shu)網(wang)格板(ban)(ban)與(yu)所(suo)述(shu)屏(ping)蔽板(ban)(ban)的層(ceng)結構相同，且彼此(ci)電連接，所(suo)述(shu)網(wang)格板(ban)(ban)由所(suo)述(shu)屏(ping)蔽板(ban)(ban)延(yan)伸出，并延(yan)伸至包(bao)圍(wei)所(suo)述(shu)陽極板(ban)(ban)的末端設置(zhi)。

4.根據權利要求2所(suo)(suo)(suo)述(shu)的(de)金屬箔(bo)生產裝(zhuang)置，其特征在(zai)于(yu)，所(suo)(suo)(suo)述(shu)輔助場板(ban)還包括(kuo)網格板(ban)單元(yuan)，所(suo)(suo)(suo)述(shu)網格板(ban)單元(yuan)設置于(yu)所(suo)(suo)(suo)述(shu)電解(jie)槽的(de)進液口處。

5.根據權利要求4所(suo)述的金屬箔生產裝置，其特征在于(yu)，所(suo)述網格板單元的孔隙率大于(yu)或等于(yu)80％。

6.根據權利要求2所(suo)述的金屬箔生產(chan)裝置，其(qi)特征在于(yu)，所(suo)述陽極板(ban)接入(ru)的工作電流為脈沖電流。

7.根據權利要求2所(suo)述的(de)金屬箔生產裝(zhuang)置，其特征(zheng)在(zai)于(yu)(yu)，所(suo)述輔助場板(ban)貼(tie)覆設置于(yu)(yu)所(suo)述陽極(ji)板(ban)上(shang)，或(huo)與所(suo)述陽極(ji)板(ban)平行間隔設置，且間距小于(yu)(yu)或(huo)等于(yu)(yu)5毫米。

8.根據權利要求2所(suo)述的(de)金(jin)屬箔生產裝置，其特征在于，所(suo)述輔(fu)助(zhu)場板的(de)電(dian)(dian)源(yuan)接(jie)入(ru)點與所(suo)述陽極板的(de)電(dian)(dian)源(yuan)接(jie)入(ru)點交錯分布。

9.根據權(quan)利要求1所述(shu)(shu)的(de)(de)金屬板生產裝置，其特征在于，所述(shu)(shu)屏(ping)蔽板的(de)(de)頂邊高度高于或等于所述(shu)(shu)電解槽的(de)(de)出(chu)液線高度。

10.根據權利要求(qiu)9所(suo)(suo)述(shu)(shu)的金(jin)屬板生產裝置(zhi)，其特征在于，所(suo)(suo)述(shu)(shu)屏(ping)蔽(bi)(bi)板上(shang)還設置(zhi)有出(chu)液(ye)(ye)(ye)口，所(suo)(suo)述(shu)(shu)出(chu)液(ye)(ye)(ye)口的設置(zhi)位(wei)置(zhi)與所(suo)(suo)述(shu)(shu)出(chu)液(ye)(ye)(ye)線的高度一致，以保持(chi)所(suo)(suo)述(shu)(shu)屏(ping)蔽(bi)(bi)板與所(suo)(suo)述(shu)(shu)陰極輥之間的電(dian)解液(ye)(ye)(ye)的流通性。

技術總結
本發明提供一種金屬箔生產裝置，其陽極板的覆蓋范圍小于電解槽的覆蓋范圍，以在電解槽兩端的出液位置形成兩過渡區，在該過渡區設置有屏蔽板，屏蔽板間隔靠近陰極輥表面設置，屏蔽板為導電材質，且外層包覆有絕緣層，在工作狀態下，屏蔽板的電勢低于或等于陰極輥的電勢，可隔斷屏蔽板覆蓋區域的電場，使得該陰極輥與電解液的分界線區域不參與電解。本發明提供的金屬箔生產裝置通過屏蔽板將實際電解區域限制在電解液完全浸潤的內部區域，可有效避免陰極輥與電解液的分界線位置參與電解，降低產出的金屬箔出現暗斑類表面缺陷的風險，提高金屬箔質量，提高生產效能。

技術研發人員：王錦輝,羅志超,毛佳俊,謝添
受保護的技術使用者：江西江銅華東銅箔有限公司
技術研發日：
技術公布日：2024/9/19