專利名稱：一種復合型鍍鉻添加劑的制作方法
技術領域：
本發明涉及鍍鉻技術領域，尤其涉及的是一種復合型鍍鉻添加劑。
背景技術：
鍍鉻工藝中，第一催化劑為氟離子或氟硅酸等，電流效率高，鍍層細致光亮，但對陽極和鍍層基體都有腐蝕，這樣溶液中雜質積累速度快，工藝難以控制，鍍槽容易老化報廢。改以鏈烷基磺酸或其鹽，最早被米蘭的Politecnico適用于鍍鉻工藝上，鍍層光亮，結晶細致，但腐蝕陽極和光亮范圍窄，深度能力欠佳，霍爾槽試片9cm，尤其使用鏈烷磺酸鹽， 鍍層防腐能力下降。中國專利CN89105414. 6、CN87102034公開的稀土添加劑，都是低溫低濃度鍍鉻工藝，但改到標準電鍍液中，很難控制工藝參數。以碘等鹵素為添加劑，電流效率提高，因為碘釋放劑對鍍層基體有活化作用，但高電流區鍍層結合力差，外觀暗灰，呈半光亮，光亮范圍窄。以羧酸和碘綜合利用為添加劑，鍍層脆，易崩裂。

發明內容
本發明針對現有技術的不足提供一種復合型鍍鉻添加劑。一種復合型鍍鉻添加劑，包括有機物和無機物，所述有機物采用烷鏈磺酸和/或烷鏈二磺酸，用量為l_20g/L標準鍍鉻液；或含氮有機化合物0. 01-0. lg/L ；無機物采用輕型稀土氟化物，輕型稀土氟化物用量為0. 001-0. 01g/L標準鍍鉻液，和/或VA族元素氧化物、氫氧化物、硫酸鹽之一，VA族元素氧化物或氫氧化物或硫酸鹽的用量為0. 01-0. lg/L標準鍍鉻液。所述的添加劑，所述有機物為甲烷磺酸或氨烷磺酸或二甲基磺酸或氨基磺酸或吡啶磺酸或甲酸。所述的添加劑，VA族元素氧化物或氫氧化物為砷，碲，鉍的氧化物或氫氧化物或硫酸鹽所述的添力卩劑，輕型稀土氟化物為鑭、鈰、鐠、釹的氟化物，所述的添加劑，標準鍍鉻鍍液中含有150-400克/升鉻酐和1. 5-4克/升的硫酸， 工作溫度30-75°C，電流密度15-100A/dm2。 所述的添加劑，標準鍍鉻鍍液中含有250克/升鉻酐和2. 3-2. 7克/升的硫酸，工作溫度50-70°C，電流密度15-100A/dm2。所述的添加劑，標準鍍鉻鍍液中含有300克/升鉻酐和3克/升的硫酸，工作溫度 40-60 "C。復合添加劑，有機烷鏈磺酸和烷鏈二磺酸一種或兩種，提高電流效率，鍍層沉積結晶細致，光亮度好。無機輕型稀土氟化物，提高電流效率，鍍層沉積結晶細致，對低電流區有活化作用，對基體表面氧化層有活化作用，從而提高均鍍能力和深度能力。使用VA族元素氧化物，抑制陽極腐蝕，提高電極極化電流，復配前兩種，工件和陽極表面不會造成腐蝕和
3鈍化。將所述有機物和無機物加于標準鍍鉻溶液中，不僅電流效率高，鍍層光亮度好，工藝光亮范圍寬，深鍍能力好，而且鍍層硬度高，電流效率高，陽極無腐蝕，工藝光亮范圍寬， 深鍍能力好，操作工藝簡單，成本低。
具體實施例方式以下結合具體實施例，對本發明進行詳細說明。實施例1復合型鍍鉻添加劑，包括有機物和無機物，所述有機物采用二甲烷磺酸，5g/L標準鍍鉻液；氨基磺酸，lg/L標準鍍鉻液；無機物采用氟化鑭，0. 06g/L標準鍍鉻液；氧化砷，0. lg/L標準鍍鉻液；標準鍍鉻鍍液中含有150克/升鉻酐和1. 5克/升的硫酸，工作溫度30°C，電流密度15A/dm2。電流效率25%，鍍層光亮細致，直角實驗全上。鍍層硬度高，維氏硬度900HV。實施例2，復合型鍍鉻添加劑，包括有機物和無機物，所述有機物采用二烷磺酸，4g/L標準鍍鉻液；甘氨酸，2g/L標準鍍鉻液；無機物采用氟化鈰，0. 04g/L標準鍍鉻液；氧化鉍，0. 05g/L標準鍍鉻液；標準鍍鉻鍍液中含有400克/升鉻酐和4克/升的硫酸，工作溫度75°C，電流密度50A/dm2。電流效率四％，鍍層光亮細致，直角實驗全上。鍍層硬度高，維氏硬度1380HV。應當理解的是，對本領域普通技術人員來說，可以根據上述說明加以改進或變換， 而所有這些改進和變換都應屬于本發明所附權利要求的保護范圍。
權利要求
1.一種復合型鍍鉻添加劑，其特征在于，包括有機物和無機物，所述有機物采用烷鏈磺酸和/或烷鏈二磺酸，用量為l-20g/L標準鍍鉻液；或含氮有機化合物0. 01-0. lg/L ；無機物采用輕型稀土氟化物，輕型稀土氟化物用量為0. 001-0. 01g/L標準鍍鉻液，和 /或VA族元素氧化物、氫氧化物、硫酸鹽之一，VA族元素氧化物或氫氧化物或硫酸鹽的用量為0. 01-0. lg/Ι標準鍍鉻液。
2.根據權利要求1所述的添加劑，其特征在于，所述有機物為甲酸或氨烷磺酸或二甲基磺酸或氨基磺酸或吡啶磺酸或甲烷磺酸。
3.根據權利要求1所述的添加劑，其特征在于，VA族元素氧化物或氫氧化物為砷，碲， 鉍的氧化物或氫氧化物或硫酸鹽。
4.根據權利要求1所述的添加劑，其特征在于，輕型稀土氟化物為鑭、鈰、鐠、釹的氟化物。
5.根據權利要求1-4任一所述的添加劑，其特征在于，標準鍍鉻鍍液中含有150-400克 /升鉻酐和1. 5-4克/升的硫酸，工作溫度30-75°C，電流密度15-100A/dm2。
6.根據權利要求1-4任一所述的添加劑，其特征在于，標準鍍鉻鍍液中含有250克/升鉻酐和2. 3-2. 7克/升的硫酸，工作溫度50-70°C，電流密度15_100A/dm2。
全文摘要
本發明公開了一種復合型鍍鉻添加劑，包括有機物和無機物，所述有機物采用烷鏈磺酸和/或烷鏈二磺酸，用量為1-20g/L標準鍍鉻液；或含氮有機化合物0.01-0.1g/L；無機物采用輕型稀土氟化物，輕型稀土氟化物用量為0.001-0.01g/L標準鍍鉻液，和/或VA族元素氧化物、氫氧化物、硫酸鹽之一，VA族元素氧化物或氫氧化物或硫酸鹽的用量為0.01-0.1g/L標準鍍鉻液。將所述有機物和無機物加于標準鍍鉻溶液中，不僅電流效率高，鍍層光亮度好，工藝光亮范圍寬，深鍍能力好，而且鍍層硬度高，電流效率高，陽極無腐蝕，工藝光亮范圍寬，深鍍能力好，操作工藝簡單，成本低。
文檔編號C25D3/04GK102560566SQ20121002471
公開日2012年7月11日 申請日期2012年2月6日 優先權日2012年2月6日
發明者梁鎮海, 牛新宇, 賈雅博, 趙鑫, 閆景芳, 閆瑞景 申請人:太原特益達科技有限公司