一種化合物均勻噴射裝置的制造方法
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及一種化合物均勻噴射裝置。
【背景技術】
[0002]噴射裝置主要應用于各行業真空吸氣工藝:如物料吸收輸送、冷凝、蒸餾蒸發、濃縮、脫色除味、供氧除氧、干燥結晶過濾、化學吸收、尾(廢)氣體中和、真空抽水、真空造型等工藝。廣泛應用于輕工、化工、化學、制藥、真空冶煉、制糖、制鹽、味精、化纖、造紙、食品、塑料橡膠、陶瓷、大中型醫院及廠礦企業的真空站、真空制磚、建筑基坑降水、排水、石油、環保等行業。
[0003]噴射器由器體、器蓋、噴咀、噴咀座板、導向盤、擴壓管及單向閥等部件組成，噴咀采用多噴咀的結構形式，以便得到較大的水蒸氣接觸面積，有利于熱交換的進行，獲得較好的真空效果。噴咀座板加工精密，精度較高，以便噴射水流偏斜，降低抽射效能。整個裝置結構緊湊精密，強度亦較高，用于真空蒸發系統中，由于能把冷凝器的冷凝作用與真空栗的抽氣作用合并在一個設備中同時完成，大大地簡化了工藝流程，比之原來用真空栗與舊式冷凝器的裝置，可以節省去真空栗、冷凝器、分水器等設備，水力噴射器水力射噴器是一種具有抽真空、冷凝、排水等三種有效能的機械裝置。它是利用一定壓力的水流通對稱均布成一定傾斜度的噴咀噴出，聚合在一個焦點上。由于噴射水流速度很高，于是周圍形成負壓使殼體內產生真空，另外由于二次蒸汽與噴射水流直接接觸，進行熱交換，絕大部分的蒸汽冷凝成水，少量未被冷凝的蒸汽與不凝結的氣體亦由于與高速噴射的水流互相摩擦，混合與擠壓，通過擴壓管被排除，使殼體內形成更高的真空。目前現有的化合物噴射裝置結構復雜，噴射效果一般，造成噴射不均勻，安裝不方便。
【實用新型內容】
[0004]本實用新型要解決的技術問題是提供一種構緊湊，安裝方便，噴射壓力大，噴射效果好的化合物均勻噴射裝置。
[0005]為解決上述問題，本實用新型采用如下技術方案:
[0006]—種化合物均勻噴射裝置，包括擴散管、殼體、噴咀和止逆閥閥體，所述擴散管設在殼體下方，所述止逆閥閥體設在殼體一側，所述擴散管和止逆閥閥體分別與殼體無縫連接，所述止逆閥閥體內設置有閥板，所述噴咀設在殼體內，所述噴咀下方設置有導向盤，所述導向盤設有一個以上，所述噴咀通過導向盤與擴散管連通，所述噴咀外側設置有噴咀座，所述噴咀座上設置有護蓋，所述護蓋與噴咀座卡持連接。
[0007]作為優選，所述擴散管底部設置有法蘭，方便擴散管的安裝。
[0008]作為優選，所述擴散管呈錐形設置，能夠蒸汽流入的壓力。
[0009]作為優選，所述止逆閥閥體上設置有轉盤，方便操控。
[0010]作為優選，所述轉盤與閥板轉動連接，方便調節開閉。
[0011]本實用新型的有益效果為:設置的導向盤可以減慢蒸汽的流速，使蒸汽均勻地導入殼體內以免噴射水流偏斜，降低抽射效能，保持噴射均勻，護蓋能夠在不使用時，防護噴咀，止逆閥閥體能夠防止流體從殼體內逆流，保持噴射效率高，法蘭保持安裝方便可靠。
【附圖說明】
[0012]圖1為本實用新型一種化合物均勻噴射裝置的結構示意圖。
【具體實施方式】
[0013]如圖1所示，一種化合物均勻噴射裝置，包括擴散管1、殼體2、噴咀3和止逆閥閥體4，所述擴散管I設在殼體2下方，所述止逆閥閥體4設在殼體2 —側，所述擴散管I和止逆閥閥體4分別與殼體2無縫連接，所述止逆閥閥體4內設置有閥板5，所述噴咀3設在殼體2內，所述噴咀3下方設置有導向盤6，所述導向盤6設有一個以上，所述噴咀3通過導向盤6與擴散管I連通，所述噴咀3外側設置有噴咀座7，所述噴咀座7上設置有護蓋8，所述護蓋8與噴咀座7卡持連接。
[0014]所述擴散管I底部設置有法蘭9。
[0015]所述擴散管I呈錐形設置。
[0016]所述止逆閥閥體4上設置有轉盤10。
[0017]所述轉盤10與閥板5轉動連接。
[0018]在使用時，將擴散管I通過法蘭安裝到蒸汽機上，止逆閥閥體4與化合物管道連通，蒸汽經過導向盤6帶動止逆閥閥體4內的化合物流體經過噴咀3噴出。
[0019]本實用新型的有益效果為:設置的導向盤可以減慢蒸汽的流速，使蒸汽均勻地導入殼體內以免噴射水流偏斜，降低抽射效能，保持噴射均勻，護蓋能夠在不使用時，防護噴咀，止逆閥閥體能夠防止流體從殼體內逆流，保持噴射效率高，法蘭保持安裝方便可靠。
[0020]以上所述，僅為本實用新型的【具體實施方式】，但本實用新型的保護范圍并不局限于此，任何不經過創造性勞動想到的變化或替換，都應涵蓋在本實用新型的保護范圍之內。
【主權項】
1.一種化合物均勻噴射裝置，其特征在于:包括擴散管、殼體、噴咀和止逆閥閥體，所述擴散管設在殼體下方，所述止逆閥閥體設在殼體一側，所述擴散管和止逆閥閥體分別與殼體無縫連接，所述止逆閥閥體內設置有閥板，所述噴咀設在殼體內，所述噴咀下方設置有導向盤，所述導向盤設有一個以上，所述噴咀通過導向盤與擴散管連通，所述噴咀外側設置有噴咀座，所述噴咀座上設置有護蓋，所述護蓋與噴咀座卡持連接。2.根據權利要求1所述的化合物均勻噴射裝置，其特征在于:所述擴散管底部設置有法蘭。3.根據權利要求2所述的化合物均勻噴射裝置，其特征在于:所述擴散管呈錐形設置。4.根據權利要求3所述的化合物均勻噴射裝置，其特征在于:所述止逆閥閥體上設置有轉盤。5.根據權利要求4所述的化合物均勻噴射裝置，其特征在于:所述轉盤與閥板轉動連接。
【專利摘要】本實用新型公開一種化合物均勻噴射裝置，包括擴散管、殼體、噴咀和止逆閥閥體，所述擴散管設在殼體下方，所述止逆閥閥體設在殼體一側，所述擴散管和止逆閥閥體分別與殼體無縫連接，所述止逆閥閥體內設置有閥板，所述噴咀設在殼體內，所述噴咀下方設置有導向盤，所述導向盤設有一個以上，所述噴咀通過導向盤與擴散管連通，所述噴咀外側設置有噴咀座，所述噴咀座上設置有護蓋，所述護蓋與噴咀座卡持連接，該化合物均勻噴射裝置結構緊湊，安裝方便，噴射壓力大，噴射效果好。
【IPC分類】B05B7/04
【公開號】CN204892179
【申請號】CN201520682614
【發明人】曾秀儀
【申請人】廣州市威士環保科技有限公司
【公開日】2015年12月23日
【申請日】2015年9月7日