一種納米銀涂布裝置的制造方法
【專利摘要】本發明公開了一種納米銀涂布裝置，包括兩對軋輥，每對軋輥包括兩個對向滾動的軋輥，其特征在于：所述納米銀涂布裝置為可控制流速和噴灑半徑的納米銀涂布裝置，其包括儲液罐、上端與所述儲液罐連通的出液管、與所述出液管下端連通的噴頭，所述出液管的中部設置有控制流速的小泵。所述出液管上還設置有閥門。所述閥門設于所述小泵和所述儲液罐之間。所述噴頭可以以所述出液管的下端部為支點朝任意方向擺動或旋轉。本發明具有的有益效果：可有效控制納米銀溶液的使用量、噴灑半徑、噴灑范圍和流速，能保證噴灑過程的均一性和可控性。最終可將納米銀含量控制在1～20mg/g中的任意定點值，例如5mg/g。
【專利說明】
一種納米銀涂布裝置
技術領域
[0001]本發明涉及顯示器件涂布技術領域，具體涉及一種納米銀涂布裝置。
【背景技術】
[0002]目前，在顯示器件制造的光刻構圖工藝中，常涉及在基板表面涂布光刻膠、曝光、顯影這一過程，而這個過程需要使用涂布裝置。
[0003]在申請號為201410124086.9的中國專利中，公開了一種涂布裝置及其預吐控制方法，涉及顯示器件的涂布技術領域，可以提高涂布起始階段的涂布穩定性及均勻性，減少涂布不良。該涂布裝置包括供膠裝置、與所述供膠裝置連接的加壓栗，所述加壓栗上連接有輸出管路，所述輸出管路包括第一輸出支路和第二輸出支路；其中，所述第一輸出支路連接所述加壓栗與涂布噴頭；所述第一輸出支路上設置有涂布閥門和涂布壓力計；所述第二輸出支路上設置有預吐閥門、預吐壓力計、以及預吐壓力調節閥。用于涂布裝置的制備。
[0004]又如在申請號為201320551529.3的中國專利中，公開了一種雙面涂布機，包括機架，機架設有上料輥，所述的機架還設有導向輥、兩個涂布機構和兩根支撐輥；涂布機構包括涂布輥和模頭，模頭的涂布口對準涂布輥的輥面；兩根涂布輥與兩根支撐輥相互間隔；通過上料輥把薄膜卷固定住后、薄膜由上料輥和導向輥傳送給兩個涂布機構；兩個涂布機構的模頭將膠料涂在兩個涂布機構的涂布輥上，兩個涂布機構的涂布輥將膠料涂在薄膜上；兩根涂布輥與兩根支撐輥相互間隔，將薄膜撐緊，確保了薄膜不會在涂布過程中起皺、折疊；涂布輥與薄膜直接接觸，防止了模頭直接接觸薄膜割傷薄膜，在實現一次性雙面涂布的同時，確保了模頭不掛傷薄膜。
[0005]但是如上的現有涂布技術，只能適用于流動性較差的液體，不能用于涂布流動性好的水溶液。
[0006]如果使用乳車技術利，雖然能浸漬后乳干，但是乳干時的輥壓力難以控制，不能保證涂布的液體殘留完全符合要求。

【發明內容】

[0007]本發明的目的是為了提供一種可控制涂布量的納米銀涂布裝置，可有效提升涂布的均勻性。
[0008]為了達到本發明的目的，技術方案如下:
[0009]—種納米銀涂布裝置，包括兩對乳輥，每對乳輥包括兩個對向滾動的乳輥，其特征在于:所述納米銀涂布裝置為可控制流速和噴灑半徑的納米銀涂布裝置，其包括儲液罐、上端與所述儲液罐連通的出液管、與所述出液管下端連通的噴頭，所述出液管的中部設置有控制流速的小栗。
[0010]優選地，所述出液管上還設置有閥門。
[0011 ] 優選地，所述閥門設于所述小栗和所述儲液罐之間。
[0012]優選地，所述噴頭可以以所述出液管的下端部為支點朝任意方向擺動或旋轉。
[0013]優選地，所述噴頭為下端開口直徑大于上端開口直徑的結構。
[0014]優選地，所述噴頭的截面為三角形、梯形或者圓臺形中的任意一種。
[0015]本發明具有的有益效果:
[0016]可有效控制納米銀溶液的使用量、噴灑半徑、噴灑范圍和流速，能保證噴灑過程的均一"性和可控性。最終可將納米銀含量控制在I?20mg/g中的任意定點值，例如5mg/g。
【附圖說明】
[0017]圖1為本發明納米銀涂布裝置的結構示意圖。
【具體實施方式】
[0018]下面結合實施例對本發明作進一步描述，但本發明的保護范圍不僅僅局限于實施例。
[0019]如圖1所示，一種納米銀涂布裝置，包括兩對乳輥1，每對乳輥包括兩個對向滾動的乳輥I，布料6在兩對乳輥I中穿過，兩對乳輥I分別為主動乳輥和被動乳輥，主動乳輥和被動乳輥的轉動作用下，布料6 —邊往前輸送一邊完成納米銀涂布過程。
[0020]本發明實施例所述的納米銀涂布裝置為可控制流速和噴灑半徑的納米銀涂布裝置，其還包括儲存納米銀溶液的儲液罐2、上端與儲液罐2連通的出液管7、與出液管7下端連通的噴頭5，出液管7的中部設置有小栗4，小栗4用于精確控制出液管7內納米銀溶液的流速。出液管7上還設置有閥門3，且閥門3設于小栗4和儲液罐2之間，閥門3起到開和關的作用。儲液罐2內可設置用于攪拌的攪拌裝置。
[0021]噴頭5可以以出液管7的下端部為支點朝任意方向擺動或旋轉，例如，以出液管7的長度方向為軸心線，繞著該軸心線360°旋轉，或者以該支點左右或前后擺動(參照于圖1)。以實現控制涂布時的噴灑半徑和方向，調整方便，更加靈活。
[0022]并且優選地，噴頭5為下端開口直徑大于上端開口直徑的結構，既可以擴大噴灑范圍，又能實現噴灑均勻，最終納米銀的含量可控制在I?20mg/g。
[0023]進一步優選地，噴頭5的截面為三角形、梯形或者圓臺形中的任意一種，本實施例為三角形。
[0024]最后應說明的是:以上實施例僅用以說明本發明而并非限制本發明所描述的技術方案，因此，盡管本說明書參照上述的各個實施例對本發明已進行了詳細的說明，但是，本領域的普通技術人員應當理解，仍然可以對本發明進行修改或等同替換，而一切不脫離本發明的精神和范圍的技術方案及其改進，其均應涵蓋在本發明的權利要求范圍中。
【主權項】
1.一種納米銀涂布裝置，包括兩對乳輥(I)，每對乳輥包括兩個對向滾動的乳輥(1)，其特征在于:所述納米銀涂布裝置為可控制流速和噴灑半徑的納米銀涂布裝置，其包括儲液罐(2)、上端與所述儲液罐(2)連通的出液管(7)、與所述出液管(7)下端連通的噴頭(5)，所述出液管(7)的中部設置有控制流速的小栗(4)。2.根據權利要求1所述的納米銀涂布裝置，其特征在于，所述出液管(7)上還設置有閥門⑶。3.根據權利要求1所述的納米銀涂布裝置，其特征在于，所述的小栗(4)能控制流速在10-100ml/min 之間。4.根據權利要求2所述的納米銀涂布裝置，其特征在于，所述閥門(3)設于所述小栗(4)和所述儲液罐(2)之間。5.根據權利要求1所述的納米銀涂布裝置，其特征在于，所述噴頭(5)可以以所述出液管(7)的下端部為支點朝任意方向擺動或旋轉。6.根據權利要求4所述的納米銀涂布裝置，其特征在于，所述噴頭(5)為下端開口直徑大于上端開口直徑的結構。7.根據權利要求5所述的納米銀涂布裝置，其特征在于，所述噴頭(5)的截面為三角形、梯形或者圓臺形中的任意一種。
【文檔編號】B05B13/02GK105983498SQ201510075616
【公開日】2016年10月5日
【申請日】2015年2月11日
【發明人】張立民, 王巧鳳, 吉偉軍, 吳吉洋, 王佳圓
【申請人】江蘇瀝澤生化科技有限公司