狹縫噴嘴和涂布裝置的制造方法
【專利摘要】本發明提供了一種狹縫噴嘴，包括第一噴嘴主體、間隔部和第二噴嘴主體，所述第一噴嘴主體與所述第二噴嘴主體之間設有所述間隔部，所述間隔部將所述第一噴嘴主體與所述第二噴嘴主體隔開形成狹縫；所述第一噴嘴主體內設有容納涂布液的容納腔，所述容納腔與所述狹縫連通；所述容納腔內設有沿所述第一噴嘴主體的長度方向延伸的阻擋部，所述阻擋部的頂面與所述容納腔的頂壁之間具有間隙；所述第一噴嘴主體背離所述狹縫的一面開設有進液孔，所述進液孔與所述容納腔貫通。本發明還提供了一種具有所述狹縫噴嘴的涂布裝置。本發明的狹縫噴嘴及涂布裝置，能夠均勻地進行涂布。
【專利說明】
狹縫噴嘴和涂布裝置
技術領域
[0001]本發明涉及涂布技術領域，特別涉及一種狹縫噴嘴及具有所述狹縫噴嘴的涂布裝置。
【背景技術】
[0002]涂布設備被廣泛應用于半導體制造、液晶顯示器制造或電池制造等領域中。涂布設備包括一個具有狹縫的噴嘴，涂布液從噴嘴的狹縫中流出，繼而被噴涂到基板上。
[0003]現有技術中，為了增加涂布量、提升涂布效率，通常會設計具有更大長度的噴嘴。然而，噴嘴內部長度方向上各個位置處的涂布液的涂布壓力不同、涂布液的流速有差異，這將使得噴出的涂布液不均勻。在噴嘴長度增加時，此種不均勻缺陷更加嚴重，導致涂布不均，影響涂布質量。
【發明內容】
[0004]有鑒于此，本發明提供了一種狹縫噴嘴及具有所述狹縫噴嘴的涂布裝置，能夠均勾地進行涂布。
[0005]—種狹縫噴嘴，包括第一噴嘴主體、間隔部和第二噴嘴主體，所述第一噴嘴主體與所述第二噴嘴主體之間設有所述間隔部，所述間隔部將所述第一噴嘴主體與所述第二噴嘴主體隔開形成狹縫;所述第一噴嘴主體內設有容納涂布液的容納腔，所述容納腔與所述狹縫連通;所述容納腔內設有沿所述第一噴嘴主體的長度方向延伸的阻擋部，所述阻擋部的頂面與所述容納腔的頂壁之間具有間隙;所述第一噴嘴主體背離所述狹縫的一面開設有進液孔，所述進液孔與所述容納腔貫通。
[0006]其中，所述阻擋部在所述長度方向上的中部正對所述進液孔，所述阻擋部的頂面的高度由所述中部向所述阻擋部的兩端逐漸降低。
[0007]其中，所述阻擋部包括多個拼合在一起的阻擋塊，每個所述阻擋塊可朝向或背離所述頂壁移動。
[0008]其中，所述阻擋部與所述進液孔的相對的橫截面為弧形面。
[0009]其中，所述狹縫的寬度為100微米。
[0010]一種涂布裝置，包括狹縫噴嘴，所述狹縫噴嘴包括第一噴嘴主體、間隔部和第二噴嘴主體，所述第一噴嘴主體與所述第二噴嘴主體之間設有所述間隔部，所述間隔部將所述第一噴嘴主體與所述第二噴嘴主體隔開形成狹縫;所述第一噴嘴主體內設有容納涂布液的容納腔，所述容納腔與所述狹縫連通;所述容納腔內設有沿所述第一噴嘴主體的長度方向延伸的阻擋部，所述阻擋部的頂面與所述容納腔的頂壁之間具有間隙；所述第一噴嘴主體背離所述狹縫一面開設有進液孔，所述進液孔與所述容納腔貫通。
[0011]其中，所述阻擋部在所述長度方向上的中部正對所述進液孔，所述阻擋部的頂面的高度由所述中部向兩端逐漸降低。
[0012]其中，所述阻擋部包括多個拼合在一起的阻擋塊;所述涂布裝置還包括控制臺和傳動裝置，所述傳動裝置與所述控制臺電連接，所述傳動裝置分別與每個所述阻擋塊相連，使得每個所述阻擋塊可朝向或背離所述頂壁移動。
[0013]其中，所述傳動裝置包括至少一個馬達。
[0014]其中，所述阻擋部與所述進液孔相對的橫截面為弧形面。
[0015]由此，本發明的狹縫噴嘴及具有所述狹縫噴嘴的涂布裝置，通過在狹縫噴嘴的容納腔內設置阻擋塊，阻擋塊能夠對流入的涂布液進行阻擋、緩沖及分散，最終使得狹縫噴嘴長度方向上各個位置噴出的涂布液的壓力及流速一致，從而極大提升了涂布的均勻性，提高了涂布質量。
【附圖說明】
[0016]為更清楚地闡述本發明的構造特征和功效，下面結合附圖與具體實施例來對其進行詳細說明。
[0017]圖1是本發明第一實施例的狹縫噴嘴的立體結構示意圖。
[0018]圖2是圖1所示的狹縫噴嘴一個方向上的剖視圖。
[0019]圖3是圖1所示的狹縫噴嘴另一個方向上的正視圖。
[0020]圖4是本發明第二實施例的狹縫噴嘴一個方向上的正視圖。
具體實施例
[0021]下面將結合本發明實施例中的附圖，對本發明實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述。顯然，所描述的實施例是本發明的一部分實施例，而不是全部實施例。基于本發明中的實施例，本領域普通技術人員在沒有做出創造性勞動的前提下所獲得的所有其他實施例，都應屬于本發明保護的范圍。
[0022]本發明實施例提供了一種涂布裝置，所述涂布裝置的使用領域包括但不限于半導體制造、液晶顯示器制造或電池制造等領域，所述涂布裝置可以為涂布機或其他具有涂布功能的設備。所述涂布裝置具有狹縫噴嘴10。本發明以下實施例中，將僅描述所述涂布裝置的部分部件。但實際上所述涂布裝置還具有其他能實現相關功能的部件、機構，出于簡潔，在此不做過多描述。
[0023]如圖1和圖2所示，本發明第一實施例的狹縫噴嘴10包括第一噴嘴主體11、間隔部12和第二噴嘴主體13。其中，間隔部12夾設在第一噴嘴主體11與第二噴嘴主體13之間，以將第一噴嘴主體11與第二噴嘴主體13隔離開來形成一條狹縫14。間隔部12的厚度即狹縫14的寬度(即圖2中狹縫14在水平方向上的尺寸)，通過設置不同厚度的間隔部12，就能獲得不同寬度的狹縫14。本實施例中，優選的，狹縫14的寬度為100微米。在其他實施例中，狹縫14的寬度根據具體需要進行設置。
[0024]如圖1和圖2所示，第一噴嘴主體11內部具有一個容納腔113，容納腔113與狹縫14連通。容納腔113用于容納涂布液，涂布液從容納腔113中流入狹縫14。容納腔113不限于為方形或弧形腔。容納腔113具有頂壁110(即圖2中容納腔113在豎直方向上的上部側壁)。
[0025]如圖1和圖2所示，第一噴嘴主體11背離狹縫14的一面開設有進液孔112，進液孔112與容納腔113貫通。涂布液從進液孔112中進入容納腔113內。
[0026]如圖1和圖2所示，容納腔113內設有阻擋塊114，阻擋塊114沿第一噴嘴主體11的長度方向(即圖2中垂直于圖面的方向或圖3中平行于圖面的方向)延伸。本實施例中，阻擋塊114長度方向上的兩端恰好分別到達容納腔113的兩端，即整個容納腔113內分布有阻擋塊114;在其他實施例中，阻擋塊114長度方向上的兩端可以分別與容納腔113的兩端有一段距離，即只有部分容納腔113內分布有阻擋塊114。阻擋塊114具有與容納腔113的頂壁110相對的頂面111，頂面111與頂壁110之間具有一定間隙。所述間隙便于容納腔113內的涂布液流入狹縫14。阻擋塊114與進液孔112的軸線相對。本實施例中，阻擋塊114的表面與進液孔112的軸線垂直。
[0027]優選的，如圖3所示，在本實施例中，阻擋塊114在長度方向上關于進液孔112對稱。阻擋塊114整體呈弧形，其具有與進液孔112相對的弧形橫截面。阻擋塊114的頂面111高度由中部往兩端逐漸降低。阻擋塊114的中部由于最先接觸到涂布液，承受的液壓最大。所以這部分的阻擋塊114，其頂面111高度也最大，因而強度最強，能夠更好地抗涂布液沖擊。而越往兩端，由于承受的液壓減小，所以頂面111高度也逐漸降低。在其他實施例中，與本實施例不同的是，阻擋塊114在長度方向上可以為非對稱形狀，僅僅是阻擋塊114的中部與進液孔112正對。本實施例中，阻擋塊114為一個整體。
[0028]在進行涂布時，涂布液從進液孔112中進入狹縫噴嘴10的容納腔113，流動涂布液會碰到阻擋塊114。在阻擋塊114的阻擋作用下，涂布液從阻擋塊114的中部向阻擋塊114的兩端分流，由此正對進液孔112的阻擋塊114中部處，液壓及流速將得到分散。隨著涂布液分流的進行，阻擋塊114長度方向上各處位置的液壓和流速將逐漸趨于一致。當容納腔113內流入的涂布液進一步增多，涂布液將通過阻擋塊114的頂面111與容納腔113的頂壁110之間所述間隙，流入狹縫14，并最終從狹縫14中噴出。此時，由于阻擋塊114的阻擋、緩沖及分散作用，狹縫噴嘴1長度方向上各個位置噴出的涂布液的壓力及流速一致，涂布的均勻性得到極大提尚。
[0029]因此，本實施例的涂布裝置，通過在狹縫噴嘴10的容納腔113內設置阻擋塊114，阻擋塊114能夠對流入的涂布液進行阻擋、緩沖及分散，最終使得狹縫噴嘴10長度方向上各個位置噴出的涂布液的壓力及流速一致，從而極大提升了涂布的均勻性，提高了涂布質量。
[0030]如圖4所示，本發明第二實施例中的狹縫噴嘴11，與上述第一實施例不同的是，阻擋塊114由多個阻擋塊115拼合而成，每個阻擋塊115可朝向或背離容納腔113的頂壁110移動。圖4中僅示出了 8個阻擋塊115。但是應理解，本發明的方案可以根據具體實際情況設計需要數量的阻擋塊，而不是僅限于圖4所示。涂布裝置還具有控制臺和傳動裝置(圖未示)。所述傳動裝置與所述控制臺電連接，所述控制臺向所述傳動裝置提供電力，并控制所述傳動裝置的傳動輸出。所述控制臺及所述傳動裝置均為本領域內的常規選擇，本領域內的技術人員可以根據實際需要進行具體設計或選取。優選的，本實施例中，所述傳動裝置包括一個或多個馬達。所述傳動裝置分別與每個阻擋塊115連接，帶動每個阻擋塊115朝向或背離容納腔113的頂壁110移動。當所述傳動裝置僅包括一個馬達時，此馬達可與各個阻擋塊115均連接，帶動各個阻擋塊115進行移動；當所述傳動裝置包括多個馬達時，其中的單個馬達可以帶動多個阻擋塊115移動，也可以是每個馬達分別帶動一個阻擋塊115移動。
[0031]狹縫噴嘴11會涂布多種不同的涂布液，不同的涂布液其流體特性不同。在狹縫噴嘴11的長度方向上，某些涂布液雖然整體的液壓分布趨勢是由狹縫噴嘴1的中部向兩端逐漸降低，但在狹縫噴嘴11的長度方向上的個別位置，會出現液壓突變，如偏離上述液壓分布趨勢而下降或上升。因而在設計中需要考慮這種情況。本實施例中，通過將阻擋塊114設置為由多個阻擋塊115拼合而成，并且各個阻擋塊115均可在所述傳動裝置的帶動下靈活移動，從而能夠適應不同涂布液的流體特性。例如，根據實際經驗或實際測量得知，狹縫噴嘴11長度方向上的某個位置液壓較強，相應的所述傳動裝置控制對應此位置的阻擋塊115朝向容納腔113的頂壁110移動，以增加此處阻擋塊115的強度;或者，狹縫噴嘴11長度方向上的某個位置液壓較弱，相應的所述傳動裝置控制對應此位置的阻擋塊115背離容納腔113的頂壁110移動，以減弱此處阻擋塊115的強度。
[0032]以上所述，僅為本發明的【具體實施方式】，但本發明的保護范圍并不局限于此，任何熟悉本技術領域的技術人員在本發明揭露的技術范圍內，可輕易的想到各種等效的修改或替換，這些修改或替換都應涵蓋在本發明的保護范圍之內。因此，本發明的保護范圍應以權利要求的保護范圍為準。
【主權項】
1.一種狹縫噴嘴，其特征在于，包括第一噴嘴主體、間隔部和第二噴嘴主體，所述第一噴嘴主體與所述第二噴嘴主體之間設有所述間隔部，所述間隔部將所述第一噴嘴主體與所述第二噴嘴主體隔開形成狹縫;所述第一噴嘴主體內設有容納涂布液的容納腔，所述容納腔與所述狹縫連通;所述容納腔內設有沿所述第一噴嘴主體的長度方向延伸的阻擋部，所述阻擋部的頂面與所述容納腔的頂壁之間具有間隙;所述第一噴嘴主體背離所述狹縫的一面開設有進液孔，所述進液孔與所述容納腔貫通。2.根據權利要求1所述的狹縫噴嘴，其特征在于，所述阻擋部在所述長度方向上的中部正對所述進液孔，所述阻擋部的頂面的高度由所述中部向所述阻擋部的兩端逐漸降低。3.根據權利要求2所述的狹縫噴嘴，其特征在于，所述阻擋部包括多個拼合在一起的阻擋塊，每個所述阻擋塊可朝向或背離所述頂壁移動。4.根據權利要求2或3所述的狹縫噴嘴，其特征在于，所述阻擋部與所述進液孔的相對的橫截面為弧形面。5.根據權利要求1所述的狹縫噴嘴，其特征在于，所述狹縫的寬度為100微米。6.一種涂布裝置，包括狹縫噴嘴，其特征在于，所述狹縫噴嘴包括第一噴嘴主體、間隔部和第二噴嘴主體，所述第一噴嘴主體與所述第二噴嘴主體之間設有所述間隔部，所述間隔部將所述第一噴嘴主體與所述第二噴嘴主體隔開形成狹縫;所述第一噴嘴主體內設有容納涂布液的容納腔，所述容納腔與所述狹縫連通;所述容納腔內設有沿所述第一噴嘴主體的長度方向延伸的阻擋部，所述阻擋部的頂面與所述容納腔的頂壁之間具有間隙；所述第一噴嘴主體背離所述狹縫一面開設有進液孔，所述進液孔與所述容納腔貫通。7.根據權利要求6所述的涂布裝置，其特征在于，所述阻擋部在所述長度方向上的中部正對所述進液孔，所述阻擋部的頂面的高度由所述中部向兩端逐漸降低。8.根據權利要求7所述的涂布裝置，其特征在于，所述阻擋部包括多個拼合在一起的阻擋塊;所述涂布裝置還包括控制臺和傳動裝置，所述傳動裝置與所述控制臺電連接，所述傳動裝置分別與每個所述阻擋塊相連，使得每個所述阻擋塊可朝向或背離所述頂壁移動。9.根據權利要求7所述的涂布裝置，其特征在于，所述傳動裝置包括至少一個馬達。10.根據權利要求7或8所述的涂布裝置，其特征在于，所述阻擋部與所述進液孔相對的橫截面為弧形面。
【文檔編號】B05C5/02GK105921360SQ201610511612
【公開日】2016年9月7日
【申請日】2016年7月1日
【發明人】宋江江
【申請人】深圳市華星光電技術有限公司