本(ben)發(fa)明屬于等(deng)離子(zi)體(ti)工程技術(shu)領域，涉(she)及(ji)到一(yi)種(zhong)等(deng)離子(zi)體(ti)涂(tu)層(ceng)裝置(zhi)。

背景技術：

等(deng)(deng)離(li)(li)子(zi)體(ti)(ti)聚(ju)合(he)(he)(he)(he)涂層(ceng)(ceng)(ceng)處(chu)(chu)(chu)(chu)(chu)理(li)(li)(li)是(shi)一種(zhong)(zhong)(zhong)重要(yao)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)表(biao)面(mian)處(chu)(chu)(chu)(chu)(chu)理(li)(li)(li)方(fang)法(fa)，它(ta)是(shi)將(jiang)需(xu)要(yao)處(chu)(chu)(chu)(chu)(chu)理(li)(li)(li)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)基材放(fang)在(zai)(zai)真(zhen)(zhen)(zhen)空室(shi)內(nei)，在(zai)(zai)真(zhen)(zhen)(zhen)空狀態下通入工藝氣體(ti)(ti)和(he)氣態有(you)機類(lei)單(dan)體(ti)(ti)，通過放(fang)電把有(you)機類(lei)氣態單(dan)體(ti)(ti)等(deng)(deng)離(li)(li)子(zi)體(ti)(ti)化，使(shi)其(qi)產生各(ge)類(lei)活性(xing)(xing)(xing)(xing)種(zhong)(zhong)(zhong)，由這(zhe)些活性(xing)(xing)(xing)(xing)種(zhong)(zhong)(zhong)之(zhi)(zhi)間(jian)或活性(xing)(xing)(xing)(xing)種(zhong)(zhong)(zhong)與(yu)單(dan)體(ti)(ti)之(zhi)(zhi)間(jian)進行加(jia)(jia)成(cheng)(cheng)反應(ying)，在(zai)(zai)基材表(biao)面(mian)形成(cheng)(cheng)聚(ju)合(he)(he)(he)(he)物薄(bo)(bo)膜。在(zai)(zai)疏(shu)水薄(bo)(bo)膜等(deng)(deng)一些應(ying)用(yong)中，納(na)米(mi)尺(chi)度的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)等(deng)(deng)離(li)(li)子(zi)體(ti)(ti)聚(ju)合(he)(he)(he)(he)涂層(ceng)(ceng)(ceng)具(ju)有(you)優(you)異的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)特性(xing)(xing)(xing)(xing)。但是(shi)由于納(na)米(mi)聚(ju)合(he)(he)(he)(he)物涂層(ceng)(ceng)(ceng)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)膜層(ceng)(ceng)(ceng)很(hen)薄(bo)(bo)，它(ta)對涂層(ceng)(ceng)(ceng)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)均勻(yun)性(xing)(xing)(xing)(xing)有(you)很(hen)高的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)要(yao)求。現(xian)有(you)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)等(deng)(deng)離(li)(li)子(zi)體(ti)(ti)納(na)米(mi)涂層(ceng)(ceng)(ceng)裝(zhuang)置(zhi)(zhi)采用(yong)方(fang)形的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)真(zhen)(zhen)(zhen)空室(shi)，在(zai)(zai)涂層(ceng)(ceng)(ceng)處(chu)(chu)(chu)(chu)(chu)理(li)(li)(li)過程中，治具(ju)及其(qi)上放(fang)置(zhi)(zhi)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)基材在(zai)(zai)真(zhen)(zhen)(zhen)空室(shi)內(nei)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)位置(zhi)(zhi)是(shi)固(gu)定的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)，由于同一批(pi)(pi)(pi)處(chu)(chu)(chu)(chu)(chu)理(li)(li)(li)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)不(bu)同基材在(zai)(zai)真(zhen)(zhen)(zhen)空室(shi)內(nei)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)不(bu)同位置(zhi)(zhi)與(yu)電極、單(dan)體(ti)(ti)/載體(ti)(ti)氣體(ti)(ti)出口、真(zhen)(zhen)(zhen)空排氣口等(deng)(deng)之(zhi)(zhi)間(jian)距(ju)離(li)(li)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)差(cha)(cha)別，不(bu)可避(bi)免地會產生涂層(ceng)(ceng)(ceng)均勻(yun)性(xing)(xing)(xing)(xing)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)差(cha)(cha)別。為了減小這(zhe)種(zhong)(zhong)(zhong)批(pi)(pi)(pi)處(chu)(chu)(chu)(chu)(chu)理(li)(li)(li)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)不(bu)均勻(yun)性(xing)(xing)(xing)(xing)，現(xian)有(you)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)等(deng)(deng)離(li)(li)子(zi)體(ti)(ti)納(na)米(mi)涂層(ceng)(ceng)(ceng)裝(zhuang)置(zhi)(zhi)只能采用(yong)較小容(rong)積的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)真(zhen)(zhen)(zhen)空室(shi)和(he)較小的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)單(dan)次處(chu)(chu)(chu)(chu)(chu)理(li)(li)(li)批(pi)(pi)(pi)量(liang)，這(zhe)很(hen)大地降(jiang)低(di)了處(chu)(chu)(chu)(chu)(chu)理(li)(li)(li)效率、增大了成(cheng)(cheng)本。而即使(shi)這(zhe)樣，也仍然不(bu)能達到滿(man)意的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)批(pi)(pi)(pi)處(chu)(chu)(chu)(chu)(chu)理(li)(li)(li)均勻(yun)性(xing)(xing)(xing)(xing)。隨著目(mu)前納(na)米(mi)聚(ju)合(he)(he)(he)(he)物涂層(ceng)(ceng)(ceng)應(ying)用(yong)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)快(kuai)速(su)拓展，加(jia)(jia)工需(xu)求和(he)批(pi)(pi)(pi)量(liang)急劇增加(jia)(jia)，解決目(mu)前等(deng)(deng)離(li)(li)子(zi)體(ti)(ti)納(na)米(mi)涂層(ceng)(ceng)(ceng)加(jia)(jia)工現(xian)有(you)技術存在(zai)(zai)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)批(pi)(pi)(pi)量(liang)小、效率低(di)、成(cheng)(cheng)本高、批(pi)(pi)(pi)處(chu)(chu)(chu)(chu)(chu)理(li)(li)(li)均勻(yun)性(xing)(xing)(xing)(xing)差(cha)(cha)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)問題十分現(xian)實和(he)緊迫。

技術實現要素：

本發明要解決的(de)(de)(de)技術問題(ti)是提(ti)供一種等離子體納米(mi)涂(tu)層裝(zhuang)置，以解決現有等離子體納米(mi)涂(tu)層裝(zhuang)置采用方(fang)形真空(kong)室的(de)(de)(de)容積小、單次處(chu)理(li)批量小，處(chu)理(li)效率低、成(cheng)本高、批處(chu)理(li)均勻性不良的(de)(de)(de)問題(ti)。

本發明(ming)技術方(fang)案是：一種等(deng)離(li)子體聚合涂層裝置(zhi)，包括真空室，其特征(zheng)在于(yu)：所述真空室側部(bu)的室體內(nei)壁任一橫(heng)截(jie)面為相同(tong)直(zhi)徑的圓或相同(tong)邊(bian)長的正多(duo)邊(bian)形(xing)，所述正多(duo)邊(bian)形(xing)邊(bian)數至少(shao)為6邊(bian)；

所(suo)述真(zhen)(zhen)空室(shi)內靠近真(zhen)(zhen)空室(shi)的(de)內壁(bi)處安裝有多(duo)孔(kong)(kong)電極(ji)(ji)(ji)，所(suo)述多(duo)孔(kong)(kong)電極(ji)(ji)(ji)為(wei)與(yu)真(zhen)(zhen)空室(shi)內壁(bi)保(bao)持間距的(de)多(duo)孔(kong)(kong)弧面結構，所(suo)述多(duo)孔(kong)(kong)電極(ji)(ji)(ji)與(yu)高頻(pin)電源連接，高頻(pin)電源的(de)功(gong)率為(wei)15-1000W，多(duo)孔(kong)(kong)電極(ji)(ji)(ji)由高頻(pin)電源供電，放電時產生(sheng)等離子體用于基材表面清潔和預處理；

所述真空室外壁(bi)上密封安裝有至少兩個放(fang)電腔；多孔電極(ji)與各(ge)放(fang)電腔可以根(gen)據工藝(yi)需要共同放(fang)電或(huo)分別獨立放(fang)電。

多(duo)孔(kong)電(dian)極產生等離子體用于清洗，即表面(mian)清潔：多(duo)孔(kong)電(dian)極較大功率(lv)連續放電(dian)產生較強(qiang)等離子體，用于涂(tu)(tu)層前清洗基材(cai)表面(mian)的(de)水氣、油污等有機物雜(za)質，還可以活化有機的(de)基材(cai)，在其表面(mian)形成懸掛鍵，利于涂(tu)(tu)層的(de)沉積，增強(qiang)基材(cai)與涂(tu)(tu)層的(de)結(jie)合力，多(duo)孔(kong)電(dian)極在涂(tu)(tu)層過(guo)程中不工(gong)作；

放(fang)電(dian)腔產生等(deng)離(li)子體(ti)用于聚合：涂層過程中各(ge)放(fang)電(dian)腔內(nei)較小(xiao)功率放(fang)電(dian)產生較弱等(deng)離(li)子體(ti)，由金屬柵網控制斷續(xu)釋放(fang)進入真空(kong)室引(yin)發單體(ti)聚合并沉(chen)積在基材表面(mian)形成涂層。

所述放(fang)電(dian)腔與真(zhen)空室內(nei)(nei)壁(bi)連接(jie)處設置(zhi)有至少兩層金(jin)屬(shu)(shu)柵(zha)網(wang)，所述金(jin)屬(shu)(shu)柵(zha)網(wang)與真(zhen)空室內(nei)(nei)壁(bi)絕緣，金(jin)屬(shu)(shu)柵(zha)網(wang)與脈(mo)沖(chong)(chong)電(dian)源連接(jie)，脈(mo)沖(chong)(chong)電(dian)源的作用是(shi)在金(jin)屬(shu)(shu)柵(zha)網(wang)上施加(jia)正脈(mo)沖(chong)(chong)偏壓(ya)，斷續釋放(fang)放(fang)電(dian)腔內(nei)(nei)的等(deng)離子體進(jin)入真(zhen)空室，其中脈(mo)沖(chong)(chong)關(guan)斷期間等(deng)離子體被多層金(jin)屬(shu)(shu)柵(zha)網(wang)阻擋在放(fang)電(dian)腔內(nei)(nei)，脈(mo)沖(chong)(chong)施加(jia)期間等(deng)離子體穿過多層金(jin)屬(shu)(shu)柵(zha)網(wang)進(jin)入真(zhen)空室以引發真(zhen)空室內(nei)(nei)的單體蒸汽發生聚合反應。

所述放電(dian)腔(qiang)內設(she)有(you)放電(dian)源(yuan)，放電(dian)源(yuan)連接(jie)供電(dian)源(yuan)，所述放電(dian)腔(qiang)連接(jie)有(you)載(zai)體(ti)(ti)(ti)(ti)氣(qi)(qi)體(ti)(ti)(ti)(ti)管路，載(zai)體(ti)(ti)(ti)(ti)氣(qi)(qi)體(ti)(ti)(ti)(ti)管路另(ling)一(yi)端(duan)連接(jie)到(dao)(dao)載(zai)體(ti)(ti)(ti)(ti)氣(qi)(qi)體(ti)(ti)(ti)(ti)源(yuan)，單體(ti)(ti)(ti)(ti)蒸(zheng)汽(qi)管路連接(jie)到(dao)(dao)真空室(shi)內，且其出口位于(yu)放電(dian)腔(qiang)前方，單體(ti)(ti)(ti)(ti)蒸(zheng)汽(qi)管路另(ling)一(yi)端(duan)連接(jie)到(dao)(dao)單體(ti)(ti)(ti)(ti)蒸(zheng)汽(qi)源(yuan)；

所述真空(kong)(kong)室內的中(zhong)心軸(zhou)上(shang)豎(shu)直(zhi)安(an)裝有尾氣收(shou)(shou)集(ji)(ji)管(guan)(guan)，尾氣收(shou)(shou)集(ji)(ji)管(guan)(guan)一(yi)端伸出真空(kong)(kong)室后與真空(kong)(kong)泵連接，所述尾氣收(shou)(shou)集(ji)(ji)管(guan)(guan)的管(guan)(guan)壁(bi)上(shang)開孔；

所述真空室(shi)內設置有旋轉(zhuan)置物架(jia)，所述旋轉(zhuan)置物架(jia)的旋轉(zhuan)軸與真空室(shi)的中心軸同軸，旋轉(zhuan)置物架(jia)上放(fang)置待處理基材。

所述真(zhen)空室的(de)頂蓋和底蓋為與真(zhen)空室的(de)側(ce)部室體內(nei)壁橫(heng)截面匹配(pei)的(de)平板或球(qiu)缺、正多(duo)邊形、橢圓形等(deng)的(de)拱形結構(gou)。

所述(shu)多(duo)孔(kong)(kong)電(dian)極形(xing)狀(zhuang)為(wei)圓柱筒形(xing)狀(zhuang)或(huo)至少分成兩段圓柱弧面(mian)形(xing)狀(zhuang)，且所述(shu)多(duo)孔(kong)(kong)電(dian)極與(yu)真空室同軸，與(yu)真空室的內(nei)壁間距為(wei)1-6cm，所述(shu)多(duo)孔(kong)(kong)電(dian)極上布滿通孔(kong)(kong)，孔(kong)(kong)徑為(wei)2-30mm，孔(kong)(kong)間隔為(wei)2-30mm。

所述放電(dian)腔為(wei)圓(yuan)筒形(xing)，材質是鋁、碳鋼或不銹鋼，直徑為(wei)5-20cm，深度為(wei)3-15cm，相(xiang)鄰放電(dian)腔軸(zhou)線(xian)之間的間距為(wei)7-40cm。

所(suo)述金屬柵網層數為(wei)2-6層，材質是不銹鋼或鎳(nie)，網孔大(da)小為(wei)100-1000目，透過率為(wei)25％-40％。

所(suo)述(shu)脈(mo)沖電源輸出正脈(mo)沖，其參(can)數為：峰值20-140V、脈(mo)寬2μs-1ms、重(zhong)復頻率20Hz-10kHz。

所述放(fang)電源是燈絲或(huo)電極或(huo)感應線圈或(huo)微波天線，且其放(fang)電功(gong)率為2-500W。

所述單(dan)體蒸汽管路(lu)出(chu)口與放電腔之間的距離為1-10cm。

所(suo)述(shu)尾氣(qi)收集管內(nei)徑(jing)為(wei)25-100mm，其管壁上(shang)均勻(yun)開孔，孔徑(jing)為(wei)2-30mm，孔間隔為(wei)2-100mm。

所(suo)述(shu)旋轉置(zhi)(zhi)物(wu)架的(de)(de)旋轉軸(zhou)與真空室的(de)(de)中心軸(zhou)同軸(zhou)，所(suo)述(shu)旋轉置(zhi)(zhi)物(wu)架可隨旋轉軸(zhou)轉動，所(suo)述(shu)旋轉置(zhi)(zhi)物(wu)架上(shang)對稱固定設置(zhi)(zhi)2-8層置(zhi)(zhi)物(wu)臺(tai)，所(suo)述(shu)置(zhi)(zhi)物(wu)臺(tai)上(shang)放(fang)置(zhi)(zhi)待處理的(de)(de)基材。

所述(shu)(shu)旋(xuan)(xuan)轉(zhuan)置(zhi)物(wu)架(jia)的(de)旋(xuan)(xuan)轉(zhuan)軸與(yu)真(zhen)空室(shi)的(de)中心軸同(tong)軸，所述(shu)(shu)旋(xuan)(xuan)轉(zhuan)置(zhi)物(wu)架(jia)可繞旋(xuan)(xuan)轉(zhuan)軸轉(zhuan)動，所述(shu)(shu)旋(xuan)(xuan)轉(zhuan)置(zhi)物(wu)架(jia)上對稱設置(zhi)2-8根(gen)行星(xing)旋(xuan)(xuan)轉(zhuan)軸，所述(shu)(shu)行星(xing)旋(xuan)(xuan)轉(zhuan)軸垂直于所述(shu)(shu)旋(xuan)(xuan)轉(zhuan)置(zhi)物(wu)架(jia)并(bing)可自轉(zhuan)；

所(suo)(suo)述(shu)行(xing)星(xing)旋轉軸上設置2-8層(ceng)旋轉置物臺(tai)，所(suo)(suo)述(shu)旋轉置物臺(tai)放置待處理(li)的基材(cai)。

本發明的(de)有益效果是：

1、采用(yong)中心軸對稱真空室結構保(bao)持空間聚合反(fan)應活性物種(zhong)濃度(du)的穩(wen)定性。

采用真空(kong)室側壁進氣、徑(jing)向輸運、中心軸向排氣的方式(shi)：

載體(ti)氣(qi)體(ti)管(guan)(guan)(guan)路(lu)(lu)(lu)在(zai)各(ge)(ge)放電腔(qiang)內設(she)(she)(she)置出(chu)口(kou)(kou)，載體(ti)氣(qi)體(ti)經由(you)其管(guan)(guan)(guan)路(lu)(lu)(lu)送入(ru)各(ge)(ge)放電腔(qiang)內，再通過多層金屬(shu)柵網擴散進入(ru)真(zhen)(zhen)空(kong)(kong)(kong)(kong)室(shi)；單體(ti)蒸汽管(guan)(guan)(guan)路(lu)(lu)(lu)在(zai)真(zhen)(zhen)空(kong)(kong)(kong)(kong)室(shi)內每個放電腔(qiang)外前(qian)方設(she)(she)(she)置出(chu)口(kou)(kou)，單體(ti)蒸汽經由(you)其管(guan)(guan)(guan)路(lu)(lu)(lu)送入(ru)真(zhen)(zhen)空(kong)(kong)(kong)(kong)室(shi)內；在(zai)真(zhen)(zhen)空(kong)(kong)(kong)(kong)室(shi)軸(zhou)線上與真(zhen)(zhen)空(kong)(kong)(kong)(kong)室(shi)共(gong)軸(zhou)設(she)(she)(she)置一個尾氣(qi)收集(ji)(ji)管(guan)(guan)(guan)，尾氣(qi)收集(ji)(ji)管(guan)(guan)(guan)縱(zong)向貫穿真(zhen)(zhen)空(kong)(kong)(kong)(kong)室(shi)，管(guan)(guan)(guan)端連通真(zhen)(zhen)空(kong)(kong)(kong)(kong)泵，管(guan)(guan)(guan)壁上均勻(yun)開孔(kong)(kong)，尾氣(qi)由(you)尾氣(qi)收集(ji)(ji)管(guan)(guan)(guan)上的開孔(kong)(kong)進入(ru)尾氣(qi)收集(ji)(ji)管(guan)(guan)(guan)，再由(you)真(zhen)(zhen)空(kong)(kong)(kong)(kong)泵排出(chu)真(zhen)(zhen)空(kong)(kong)(kong)(kong)室(shi)。

上述采用(yong)真(zhen)空(kong)室側壁進(jin)氣、徑向(xiang)輸(shu)(shu)運(yun)、中心軸(zhou)向(xiang)排氣的(de)方式中氣體(ti)(ti)(ti)輸(shu)(shu)運(yun)過程是匯集的(de)，這有(you)利于(yu)提高空(kong)間聚(ju)(ju)(ju)合反(fan)應(ying)活(huo)(huo)(huo)(huo)(huo)性(xing)物(wu)(wu)種(zhong)(zhong)濃度(du)的(de)穩定(ding)性(xing)，活(huo)(huo)(huo)(huo)(huo)性(xing)物(wu)(wu)種(zhong)(zhong)分布更(geng)加均(jun)勻，其(qi)過程是：單(dan)體(ti)(ti)(ti)蒸汽在各放電(dian)腔附(fu)近(jin)受等離子體(ti)(ti)(ti)作(zuo)用(yong)產生聚(ju)(ju)(ju)合反(fan)應(ying)活(huo)(huo)(huo)(huo)(huo)性(xing)物(wu)(wu)種(zhong)(zhong)；聚(ju)(ju)(ju)合反(fan)應(ying)活(huo)(huo)(huo)(huo)(huo)性(xing)物(wu)(wu)種(zhong)(zhong)在載體(ti)(ti)(ti)氣體(ti)(ti)(ti)帶動下(xia)沿(yan)徑向(xiang)向(xiang)真(zhen)空(kong)室軸(zhou)線方向(xiang)輸(shu)(shu)運(yun)；在輸(shu)(shu)運(yun)過程中聚(ju)(ju)(ju)合反(fan)應(ying)活(huo)(huo)(huo)(huo)(huo)性(xing)物(wu)(wu)種(zhong)(zhong)的(de)數量(liang)(liang)不斷(duan)消耗減少，但(dan)是另一方面(mian)聚(ju)(ju)(ju)合反(fan)應(ying)活(huo)(huo)(huo)(huo)(huo)性(xing)物(wu)(wu)種(zhong)(zhong)在輸(shu)(shu)運(yun)過程中不斷(duan)地匯集，補償了數量(liang)(liang)的(de)減少，使其(qi)濃度(du)保持穩定(ding)，真(zhen)空(kong)室內活(huo)(huo)(huo)(huo)(huo)性(xing)物(wu)(wu)種(zhong)(zhong)的(de)體(ti)(ti)(ti)積密度(du)保持不變，批(pi)(pi)處理(li)均(jun)勻性(xing)良(liang)好，現有(you)涂(tu)(tu)層設(she)備和技術同批(pi)(pi)處理(li)基材(cai)涂(tu)(tu)層厚度(du)差(cha)別(bie)大于(yu)30％，而本發明的(de)同批(pi)(pi)處理(li)基材(cai)涂(tu)(tu)層厚度(du)差(cha)別(bie)小于(yu)10％。

2、采用旋轉置(zhi)物架可(ke)以顯著提高(gao)各(ge)個基材涂層的(de)均勻性

真(zhen)空(kong)室(shi)內安裝有旋(xuan)(xuan)轉(zhuan)(zhuan)置(zhi)(zhi)物架(jia)；旋(xuan)(xuan)轉(zhuan)(zhuan)置(zhi)(zhi)物架(jia)上的(de)置(zhi)(zhi)物臺(tai)真(zhen)空(kong)室(shi)內旋(xuan)(xuan)轉(zhuan)(zhuan)或做(zuo)行(xing)星(xing)(xing)旋(xuan)(xuan)轉(zhuan)(zhuan)運(yun)動，特別是(shi)行(xing)星(xing)(xing)旋(xuan)(xuan)轉(zhuan)(zhuan)運(yun)動是(shi)置(zhi)(zhi)物臺(tai)繞自(zi)(zi)身行(xing)星(xing)(xing)旋(xuan)(xuan)轉(zhuan)(zhuan)軸(zhou)自(zi)(zi)轉(zhuan)(zhuan)，同時(shi)隨(sui)旋(xuan)(xuan)轉(zhuan)(zhuan)置(zhi)(zhi)物架(jia)的(de)旋(xuan)(xuan)轉(zhuan)(zhuan)軸(zhou)繞真(zhen)空(kong)室(shi)同軸(zhou)線公轉(zhuan)(zhuan)；置(zhi)(zhi)物臺(tai)上放置(zhi)(zhi)待處(chu)理(li)的(de)基(ji)材(cai)。行(xing)星(xing)(xing)旋(xuan)(xuan)轉(zhuan)(zhuan)使基(ji)材(cai)在(zai)(zai)涂(tu)層處(chu)理(li)過程中所處(chu)的(de)空(kong)間位置(zhi)(zhi)不(bu)斷變化(hua)，不(bu)同基(ji)材(cai)在(zai)(zai)一個(ge)完整的(de)處(chu)理(li)過程中所處(chu)的(de)空(kong)間位置(zhi)(zhi)變化(hua)相(xiang)同，從(cong)而消除現有技(ji)術中因不(bu)同基(ji)材(cai)所處(chu)的(de)空(kong)間位置(zhi)(zhi)不(bu)同而造成的(de)涂(tu)層效果(guo)的(de)差別，使得各(ge)個(ge)基(ji)材(cai)處(chu)理(li)程度相(xiang)同，涂(tu)層效果(guo)基(ji)本一樣，各(ge)個(ge)基(ji)材(cai)之間的(de)均勻性更(geng)好(hao)。

3、真空室體積可(ke)以(yi)大(da)大(da)增加(jia)，處(chu)理效率(lv)顯(xian)著提高

由于真(zhen)空室(shi)(shi)結構和置物架的改進使得(de)在大(da)(da)幅提高批(pi)處(chu)理涂層膜(mo)厚均勻性，真(zhen)空室(shi)(shi)容積(ji)可以擴大(da)(da)到(dao)目前真(zhen)空室(shi)(shi)的5-6倍，批(pi)處(chu)理數量(liang)和處(chu)理效率相應大(da)(da)幅提高。

4、多層柵(zha)網對(dui)等(deng)離(li)子體和(he)單體都(dou)有阻滯作用

多(duo)層(ceng)(ceng)金(jin)屬柵(zha)(zha)網對(dui)載體(ti)氣(qi)體(ti)由放(fang)電(dian)(dian)腔(qiang)(qiang)向(xiang)真(zhen)空(kong)室(shi)的(de)擴(kuo)散(san)具有阻滯(zhi)作(zuo)(zuo)用，使放(fang)電(dian)(dian)腔(qiang)(qiang)內(nei)氣(qi)壓(ya)(ya)高(gao)(gao)于(yu)真(zhen)空(kong)室(shi)內(nei)氣(qi)壓(ya)(ya)；多(duo)層(ceng)(ceng)金(jin)屬柵(zha)(zha)網對(dui)單(dan)體(ti)蒸(zheng)汽由真(zhen)空(kong)室(shi)向(xiang)放(fang)電(dian)(dian)腔(qiang)(qiang)的(de)反(fan)擴(kuo)散(san)具有阻滯(zhi)作(zuo)(zuo)用，又由于(yu)放(fang)電(dian)(dian)腔(qiang)(qiang)內(nei)氣(qi)壓(ya)(ya)高(gao)(gao)于(yu)真(zhen)空(kong)室(shi)內(nei)氣(qi)壓(ya)(ya)，使單(dan)體(ti)蒸(zheng)汽不易(yi)反(fan)擴(kuo)散(san)由真(zhen)空(kong)室(shi)進入(ru)放(fang)電(dian)(dian)腔(qiang)(qiang)，避免單(dan)體(ti)蒸(zheng)汽被放(fang)電(dian)(dian)腔(qiang)(qiang)內(nei)的(de)連續放(fang)電(dian)(dian)等離子(zi)體(ti)過度分(fen)解破(po)壞，本發明的(de)裝置可以有效(xiao)的(de)保護(hu)單(dan)體(ti)蒸(zheng)汽不被分(fen)解破(po)壞，從而獲得非(fei)常好質量的(de)聚(ju)合物(wu)的(de)涂層(ceng)(ceng)。

附圖說明

圖1為實施例1旋轉置物架上設(she)置行星旋轉軸的等離子體聚(ju)合涂層裝置正面(mian)剖視結構(gou)示意圖。

圖2為圖1的(de)俯視結(jie)構示意圖。

圖中，1、真空(kong)室，2、多孔電極，3、高頻電源(yuan)，4、放電腔，5、多層金屬柵(zha)網，6、脈沖電源(yuan)，7、放電源(yuan)，8、供電源(yuan)，9、載體氣體管(guan)路(lu)，10、單體蒸汽(qi)管(guan)路(lu)，11、尾(wei)氣收集管(guan)，12、旋(xuan)轉置物(wu)架，13行星旋(xuan)轉軸，14、旋(xuan)轉置物(wu)臺，15、基(ji)材。

具體實施方式

下(xia)面結合技術方案(an)和附圖詳細敘述本發明的具體實施例(li)。

實施例1

如圖1和圖2所(suo)述(shu)的一種等離子體聚合涂層(ceng)裝置，包括真(zhen)(zhen)空(kong)室(shi)(shi)，真(zhen)(zhen)空(kong)室(shi)(shi)1側部的室(shi)(shi)體內壁(bi)任一橫截面為相同直徑的圓，即真(zhen)(zhen)空(kong)室(shi)(shi)的室(shi)(shi)體的內壁(bi)為圓柱體。

真空室1的頂蓋和底蓋為與(yu)真空室的側部(bu)室體內(nei)壁橫截面匹配的球缺。

真空(kong)室(shi)1內靠近真空(kong)室(shi)1的內壁處安裝(zhuang)(zhuang)有多(duo)孔(kong)(kong)電(dian)極2，多(duo)孔(kong)(kong)電(dian)極2為與(yu)真空(kong)室(shi)內壁保持間(jian)距的多(duo)孔(kong)(kong)弧(hu)面結構，多(duo)孔(kong)(kong)電(dian)極與(yu)高(gao)頻電(dian)源3連接(jie)，真空(kong)室(shi)外壁上密封安裝(zhuang)(zhuang)有八(ba)個放電(dian)腔(qiang)4；

多孔(kong)電(dian)極(ji)(ji)2形狀(zhuang)為圓(yuan)柱筒形狀(zhuang)，且所(suo)述多孔(kong)電(dian)極(ji)(ji)與真(zhen)空(kong)室同軸(zhou)，與真(zhen)空(kong)室的(de)(de)內壁間(jian)距(ju)為1cm，多孔(kong)電(dian)極(ji)(ji)2上(shang)布滿通孔(kong)，孔(kong)徑(jing)為30mm，孔(kong)間(jian)隔為30mm；與多孔(kong)電(dian)極(ji)(ji)連接的(de)(de)高頻電(dian)源的(de)(de)功(gong)率是15W。

放電腔(qiang)4為(wei)圓(yuan)筒形，材質是鋁，直徑(jing)為(wei)5cm，深度為(wei)15cm，相鄰放電腔(qiang)4軸線(xian)之間(jian)的(de)間(jian)距為(wei)40cm。單體蒸(zheng)汽管路(lu)10出口與放電腔(qiang)4之間(jian)的(de)距離為(wei)1cm。

放電(dian)(dian)腔(qiang)(qiang)與(yu)(yu)真空室(shi)內(nei)壁連接(jie)處設置有兩層(ceng)金屬柵(zha)(zha)(zha)網(wang)5，金屬柵(zha)(zha)(zha)網(wang)與(yu)(yu)真空室(shi)內(nei)壁絕緣，金屬柵(zha)(zha)(zha)網(wang)與(yu)(yu)脈沖電(dian)(dian)源(yuan)(yuan)(yuan)6連接(jie)，放電(dian)(dian)腔(qiang)(qiang)4內(nei)設有放電(dian)(dian)源(yuan)(yuan)(yuan)7，放電(dian)(dian)源(yuan)(yuan)(yuan)連接(jie)供(gong)電(dian)(dian)源(yuan)(yuan)(yuan)8，放電(dian)(dian)腔(qiang)(qiang)連接(jie)有載(zai)體氣體管(guan)路9，載(zai)體氣體管(guan)路另一(yi)(yi)端(duan)連接(jie)到(dao)載(zai)體氣體源(yuan)(yuan)(yuan)，單體蒸汽管(guan)路10連接(jie)到(dao)真空室(shi)內(nei)，且其出(chu)口位于放電(dian)(dian)腔(qiang)(qiang)4前方，單體蒸汽管(guan)路另一(yi)(yi)端(duan)連接(jie)到(dao)單體蒸汽源(yuan)(yuan)(yuan)。

金屬(shu)柵網材質是不銹鋼，網孔大(da)小為100目，透過率為40％。

脈沖(chong)電源6輸出正脈沖(chong)，其參數(shu)為：峰值20V、脈寬1ms、重復頻率10kHz。

放電源7是(shi)燈絲(si)且其放電功率為(wei)2W。

真空室(shi)(shi)內(nei)的(de)中心軸上豎直安裝(zhuang)有尾氣(qi)(qi)收(shou)集管(guan)11，尾氣(qi)(qi)收(shou)集管(guan)一端伸出真空室(shi)(shi)后與真空泵連(lian)接，所(suo)述尾氣(qi)(qi)收(shou)集管(guan)的(de)管(guan)壁(bi)上開(kai)孔；尾氣(qi)(qi)收(shou)集管(guan)11內(nei)徑為25mm，其管(guan)壁(bi)上均勻開(kai)孔，孔徑為2mm，孔間(jian)隔(ge)為2mm。

真(zhen)空室(shi)內設置(zhi)(zhi)有旋(xuan)(xuan)轉(zhuan)(zhuan)(zhuan)(zhuan)置(zhi)(zhi)物(wu)(wu)架(jia)(jia)12，旋(xuan)(xuan)轉(zhuan)(zhuan)(zhuan)(zhuan)置(zhi)(zhi)物(wu)(wu)架(jia)(jia)12的旋(xuan)(xuan)轉(zhuan)(zhuan)(zhuan)(zhuan)軸(zhou)(zhou)(zhou)(zhou)與真(zhen)空室(shi)的中心軸(zhou)(zhou)(zhou)(zhou)同(tong)軸(zhou)(zhou)(zhou)(zhou)，旋(xuan)(xuan)轉(zhuan)(zhuan)(zhuan)(zhuan)置(zhi)(zhi)物(wu)(wu)架(jia)(jia)可隨旋(xuan)(xuan)轉(zhuan)(zhuan)(zhuan)(zhuan)軸(zhou)(zhou)(zhou)(zhou)轉(zhuan)(zhuan)(zhuan)(zhuan)動，旋(xuan)(xuan)轉(zhuan)(zhuan)(zhuan)(zhuan)置(zhi)(zhi)物(wu)(wu)架(jia)(jia)上對稱(cheng)設置(zhi)(zhi)4根(gen)行星旋(xuan)(xuan)轉(zhuan)(zhuan)(zhuan)(zhuan)軸(zhou)(zhou)(zhou)(zhou)13，行星旋(xuan)(xuan)轉(zhuan)(zhuan)(zhuan)(zhuan)軸(zhou)(zhou)(zhou)(zhou)垂直于旋(xuan)(xuan)轉(zhuan)(zhuan)(zhuan)(zhuan)置(zhi)(zhi)物(wu)(wu)架(jia)(jia)12并可自(zi)轉(zhuan)(zhuan)(zhuan)(zhuan)；

行星旋轉(zhuan)軸上設置(zhi)(zhi)4層旋轉(zhuan)置(zhi)(zhi)物(wu)臺(tai)14，所述旋轉(zhuan)置(zhi)(zhi)物(wu)臺(tai)放(fang)置(zhi)(zhi)待處理的基材(cai)15。

實施例2

一種等(deng)離子體(ti)聚合涂(tu)層裝置(zhi)，包括真(zhen)空室1，真(zhen)空室側(ce)部(bu)的室體(ti)內壁任一橫截(jie)面為相(xiang)同邊(bian)(bian)長的正六多邊(bian)(bian)形(xing)；

真空(kong)室(shi)(shi)1的(de)頂(ding)蓋和底蓋為與真空(kong)室(shi)(shi)的(de)側部室(shi)(shi)體(ti)內壁橫(heng)截面匹(pi)配的(de)正(zheng)六邊形的(de)拱形結(jie)構。

真空(kong)室(shi)1內靠近真空(kong)室(shi)1的(de)內壁處安裝(zhuang)有(you)多(duo)孔電極2，多(duo)孔電極2為與真空(kong)室(shi)內壁保持間(jian)距的(de)多(duo)孔弧面結構(gou)，多(duo)孔電極與高(gao)頻電源3連接，真空(kong)室(shi)外壁上密封安裝(zhuang)有(you)兩個放電腔(qiang)4；

多(duo)(duo)孔(kong)(kong)電(dian)極2形狀(zhuang)為分成兩段圓柱弧面形狀(zhuang)，且所述多(duo)(duo)孔(kong)(kong)電(dian)極與真(zhen)空室(shi)同軸，與真(zhen)空室(shi)的內壁(bi)間距為3cm，多(duo)(duo)孔(kong)(kong)電(dian)極2上布(bu)滿通孔(kong)(kong)，孔(kong)(kong)徑為18mm，孔(kong)(kong)間隔為15mm；與多(duo)(duo)孔(kong)(kong)電(dian)極連接的高頻電(dian)源的功率是500W。

放電腔(qiang)(qiang)4為(wei)圓筒形(xing)，材(cai)質是碳鋼，直徑為(wei)20cm，深度為(wei)8cm，相鄰放電腔(qiang)(qiang)4軸線之間(jian)(jian)的間(jian)(jian)距為(wei)20cm。單(dan)體蒸汽管路10出口與放電腔(qiang)(qiang)4之間(jian)(jian)的距離為(wei)6cm。

放(fang)(fang)電(dian)(dian)(dian)腔與真空室內(nei)壁(bi)連接(jie)(jie)處設置有(you)(you)四層金(jin)屬(shu)柵網5，金(jin)屬(shu)柵網與真空室內(nei)壁(bi)絕(jue)緣(yuan)，金(jin)屬(shu)柵網與脈沖電(dian)(dian)(dian)源6連接(jie)(jie)，放(fang)(fang)電(dian)(dian)(dian)腔4內(nei)設有(you)(you)放(fang)(fang)電(dian)(dian)(dian)源7，放(fang)(fang)電(dian)(dian)(dian)源連接(jie)(jie)供電(dian)(dian)(dian)源8，放(fang)(fang)電(dian)(dian)(dian)腔連接(jie)(jie)有(you)(you)載(zai)體(ti)氣(qi)體(ti)管(guan)路(lu)(lu)9，載(zai)體(ti)氣(qi)體(ti)管(guan)路(lu)(lu)另一端連接(jie)(jie)到載(zai)體(ti)氣(qi)體(ti)源，單體(ti)蒸(zheng)汽(qi)管(guan)路(lu)(lu)10連接(jie)(jie)到真空室內(nei)，且其出(chu)口位于放(fang)(fang)電(dian)(dian)(dian)腔4前方，單體(ti)蒸(zheng)汽(qi)管(guan)路(lu)(lu)另一端連接(jie)(jie)到單體(ti)蒸(zheng)汽(qi)源。

金屬柵(zha)網(wang)(wang)材質是鎳，網(wang)(wang)孔大小為600目，透過率(lv)為32％。

脈沖(chong)電源6輸出正脈沖(chong)，其參數為(wei)：峰值86V、脈寬0.1ms、重(zhong)復頻率(lv)700Hz。

放(fang)電(dian)(dian)源7是電(dian)(dian)極且其放(fang)電(dian)(dian)功(gong)率為280W。

真(zhen)空(kong)室內的中心軸上豎直安裝有(you)尾(wei)氣收(shou)集管(guan)11，尾(wei)氣收(shou)集管(guan)一端伸出真(zhen)空(kong)室后與(yu)真(zhen)空(kong)泵連接，所述尾(wei)氣收(shou)集管(guan)的管(guan)壁上開(kai)孔(kong)；尾(wei)氣收(shou)集管(guan)11內徑(jing)為60mm，其管(guan)壁上均勻開(kai)孔(kong)，孔(kong)徑(jing)為16mm，孔(kong)間隔為55mm。

真空室內(nei)設置(zhi)(zhi)有(you)旋(xuan)轉(zhuan)(zhuan)(zhuan)置(zhi)(zhi)物(wu)(wu)架(jia)12，旋(xuan)轉(zhuan)(zhuan)(zhuan)置(zhi)(zhi)物(wu)(wu)架(jia)12的旋(xuan)轉(zhuan)(zhuan)(zhuan)軸(zhou)與(yu)真空室的中心軸(zhou)同軸(zhou)，旋(xuan)轉(zhuan)(zhuan)(zhuan)置(zhi)(zhi)物(wu)(wu)架(jia)可隨旋(xuan)轉(zhuan)(zhuan)(zhuan)軸(zhou)轉(zhuan)(zhuan)(zhuan)動，旋(xuan)轉(zhuan)(zhuan)(zhuan)置(zhi)(zhi)物(wu)(wu)架(jia)上對稱設置(zhi)(zhi)2根行星旋(xuan)轉(zhuan)(zhuan)(zhuan)軸(zhou)13，行星旋(xuan)轉(zhuan)(zhuan)(zhuan)軸(zhou)垂直于旋(xuan)轉(zhuan)(zhuan)(zhuan)置(zhi)(zhi)物(wu)(wu)架(jia)12并可自(zi)轉(zhuan)(zhuan)(zhuan)；

行(xing)星旋(xuan)轉軸上(shang)設(she)置(zhi)8層旋(xuan)轉置(zhi)物臺(tai)14，所述旋(xuan)轉置(zhi)物臺(tai)放置(zhi)待處(chu)理的(de)基材15。

實施例3

一(yi)種等離(li)子體(ti)聚合涂層裝置(zhi)，包括真空(kong)室(shi)(shi)1，真空(kong)室(shi)(shi)側部的(de)室(shi)(shi)體(ti)內(nei)壁任一(yi)橫截(jie)面為相同邊(bian)長(chang)的(de)正九多邊(bian)形(xing)；

真(zhen)空(kong)(kong)室(shi)1的頂(ding)蓋和底蓋為與真(zhen)空(kong)(kong)室(shi)的側(ce)部室(shi)體(ti)內壁(bi)橫(heng)截面(mian)匹配的正九邊形(xing)平板。

真(zhen)空(kong)(kong)室1內靠近真(zhen)空(kong)(kong)室1的(de)內壁(bi)處(chu)安裝(zhuang)有(you)多孔電(dian)極2，多孔電(dian)極2為與(yu)真(zhen)空(kong)(kong)室內壁(bi)保持間距(ju)的(de)多孔弧(hu)面結構，多孔電(dian)極與(yu)高頻電(dian)源3連接，真(zhen)空(kong)(kong)室外(wai)壁(bi)上密封安裝(zhuang)有(you)兩個放(fang)電(dian)腔4；

多(duo)孔(kong)電(dian)極(ji)(ji)2形狀(zhuang)為分(fen)成(cheng)四段圓(yuan)柱(zhu)弧(hu)面形狀(zhuang)，且所述多(duo)孔(kong)電(dian)極(ji)(ji)與(yu)真(zhen)空(kong)室同軸，與(yu)真(zhen)空(kong)室的內壁間距為6cm，多(duo)孔(kong)電(dian)極(ji)(ji)2上布滿通孔(kong)，孔(kong)徑為30mm，孔(kong)間隔(ge)為30mm；與(yu)多(duo)孔(kong)電(dian)極(ji)(ji)連接(jie)的高頻電(dian)源的功率(lv)是1000W。

放電腔4為(wei)(wei)圓筒形，材質是不銹鋼，直(zhi)徑為(wei)(wei)12cm，深度為(wei)(wei)3cm，相鄰(lin)放電腔4軸線(xian)之間(jian)的間(jian)距(ju)為(wei)(wei)7cm。單體蒸汽管(guan)路10出口與放電腔4之間(jian)的距(ju)離為(wei)(wei)10cm。

放(fang)電(dian)(dian)腔與(yu)(yu)真空室(shi)內(nei)壁連接(jie)處設置(zhi)有(you)(you)五層金(jin)屬(shu)(shu)柵(zha)網5，金(jin)屬(shu)(shu)柵(zha)網與(yu)(yu)真空室(shi)內(nei)壁絕緣，金(jin)屬(shu)(shu)柵(zha)網與(yu)(yu)脈(mo)沖電(dian)(dian)源6連接(jie)，放(fang)電(dian)(dian)腔4內(nei)設有(you)(you)放(fang)電(dian)(dian)源7，放(fang)電(dian)(dian)源連接(jie)供電(dian)(dian)源8，放(fang)電(dian)(dian)腔連接(jie)有(you)(you)載(zai)體(ti)(ti)(ti)(ti)(ti)氣(qi)體(ti)(ti)(ti)(ti)(ti)管路9，載(zai)體(ti)(ti)(ti)(ti)(ti)氣(qi)體(ti)(ti)(ti)(ti)(ti)管路另(ling)(ling)一端(duan)連接(jie)到載(zai)體(ti)(ti)(ti)(ti)(ti)氣(qi)體(ti)(ti)(ti)(ti)(ti)源，單(dan)體(ti)(ti)(ti)(ti)(ti)蒸(zheng)汽管路10連接(jie)到真空室(shi)內(nei)，且其出(chu)口位(wei)于放(fang)電(dian)(dian)腔4前方，單(dan)體(ti)(ti)(ti)(ti)(ti)蒸(zheng)汽管路另(ling)(ling)一端(duan)連接(jie)到單(dan)體(ti)(ti)(ti)(ti)(ti)蒸(zheng)汽源。

金屬柵網材質是鎳，網孔大小為1000目，透過率為25％。

脈沖電源6輸出正脈沖，其參(can)數為：峰值140V、脈寬(kuan)2μs、重復(fu)頻(pin)率(lv)20Hz。

放(fang)電源7是微波(bo)天線且其放(fang)電功(gong)率為500W。

真空(kong)室(shi)(shi)內(nei)的中心軸上豎直安裝有(you)尾(wei)氣收(shou)集(ji)管(guan)11，尾(wei)氣收(shou)集(ji)管(guan)一端伸出真空(kong)室(shi)(shi)后與真空(kong)泵連(lian)接，所述(shu)尾(wei)氣收(shou)集(ji)管(guan)的管(guan)壁(bi)上開孔(kong)(kong)；尾(wei)氣收(shou)集(ji)管(guan)11內(nei)徑(jing)(jing)為100mm，其管(guan)壁(bi)上均勻開孔(kong)(kong)，孔(kong)(kong)徑(jing)(jing)為30mm，孔(kong)(kong)間(jian)隔為100mm。

真空(kong)室內設置(zhi)(zhi)有旋(xuan)(xuan)轉(zhuan)置(zhi)(zhi)物(wu)架(jia)(jia)(jia)12，旋(xuan)(xuan)轉(zhuan)置(zhi)(zhi)物(wu)架(jia)(jia)(jia)12的旋(xuan)(xuan)轉(zhuan)軸(zhou)與真空(kong)室的中(zhong)心軸(zhou)同軸(zhou)，旋(xuan)(xuan)轉(zhuan)置(zhi)(zhi)物(wu)架(jia)(jia)(jia)可隨旋(xuan)(xuan)轉(zhuan)軸(zhou)轉(zhuan)動(dong)，旋(xuan)(xuan)轉(zhuan)置(zhi)(zhi)物(wu)架(jia)(jia)(jia)上對稱設置(zhi)(zhi)8根行星旋(xuan)(xuan)轉(zhuan)軸(zhou)13，行星旋(xuan)(xuan)轉(zhuan)軸(zhou)垂(chui)直于旋(xuan)(xuan)轉(zhuan)置(zhi)(zhi)物(wu)架(jia)(jia)(jia)12并可自轉(zhuan)；

行(xing)星旋轉(zhuan)(zhuan)軸上設置(zhi)(zhi)(zhi)2層旋轉(zhuan)(zhuan)置(zhi)(zhi)(zhi)物(wu)臺14，所(suo)述(shu)旋轉(zhuan)(zhuan)置(zhi)(zhi)(zhi)物(wu)臺放置(zhi)(zhi)(zhi)待處(chu)理的基材15。

實施例4

一種等離子體聚(ju)合涂層裝置，包(bao)括真空(kong)(kong)室(shi)1，真空(kong)(kong)室(shi)側部的室(shi)體內壁任(ren)一橫截面為(wei)相同邊長的正十二多(duo)邊形；

真空室(shi)1的頂蓋(gai)和底蓋(gai)為與真空室(shi)的側部室(shi)體內(nei)壁橫截面匹配的正十二邊形拱形結構。

真(zhen)空室(shi)(shi)1內靠近真(zhen)空室(shi)(shi)1的內壁(bi)處(chu)安(an)裝有多(duo)孔(kong)電極2，多(duo)孔(kong)電極2為與(yu)真(zhen)空室(shi)(shi)內壁(bi)保(bao)持間距的多(duo)孔(kong)弧面結構，多(duo)孔(kong)電極與(yu)高(gao)頻電源3連接(jie)，真(zhen)空室(shi)(shi)外壁(bi)上密封安(an)裝有兩個(ge)放(fang)電腔(qiang)4；

多(duo)(duo)孔(kong)電極(ji)(ji)2形狀(zhuang)為(wei)(wei)(wei)分(fen)成五段圓柱(zhu)弧面形狀(zhuang)，且所述多(duo)(duo)孔(kong)電極(ji)(ji)與(yu)真空(kong)室同軸，與(yu)真空(kong)室的(de)內壁間距為(wei)(wei)(wei)5cm，多(duo)(duo)孔(kong)電極(ji)(ji)2上布滿(man)通(tong)孔(kong)，孔(kong)徑為(wei)(wei)(wei)12mm，孔(kong)間隔(ge)為(wei)(wei)(wei)18mm；與(yu)多(duo)(duo)孔(kong)電極(ji)(ji)連接的(de)高頻電源(yuan)的(de)功(gong)率是260W。

放(fang)電(dian)腔4為圓筒形，材質(zhi)是不(bu)銹鋼，直(zhi)徑為16cm，深度為6cm，相鄰放(fang)電(dian)腔4軸線(xian)之間的間距為26cm。單體蒸汽(qi)管(guan)路10出口與(yu)放(fang)電(dian)腔4之間的距離為4cm。

放電(dian)(dian)腔與(yu)真(zhen)空(kong)室內(nei)壁連(lian)(lian)(lian)(lian)接(jie)處設置有六層金(jin)屬柵網5，金(jin)屬柵網與(yu)真(zhen)空(kong)室內(nei)壁絕(jue)緣，金(jin)屬柵網與(yu)脈沖(chong)電(dian)(dian)源(yuan)6連(lian)(lian)(lian)(lian)接(jie)，放電(dian)(dian)腔4內(nei)設有放電(dian)(dian)源(yuan)7，放電(dian)(dian)源(yuan)連(lian)(lian)(lian)(lian)接(jie)供電(dian)(dian)源(yuan)8，放電(dian)(dian)腔連(lian)(lian)(lian)(lian)接(jie)有載體氣(qi)體管路(lu)9，載體氣(qi)體管路(lu)另(ling)一端連(lian)(lian)(lian)(lian)接(jie)到(dao)(dao)載體氣(qi)體源(yuan)，單(dan)體蒸汽(qi)管路(lu)10連(lian)(lian)(lian)(lian)接(jie)到(dao)(dao)真(zhen)空(kong)室內(nei)，且其出口位(wei)于放電(dian)(dian)腔4前方，單(dan)體蒸汽(qi)管路(lu)另(ling)一端連(lian)(lian)(lian)(lian)接(jie)到(dao)(dao)單(dan)體蒸汽(qi)源(yuan)。

金屬柵網材質是鎳，網孔大小為360目(mu)，透過率為28％。

脈沖電源(yuan)6輸出正脈沖，其(qi)參數(shu)為：峰值115V、脈寬(kuan)160μs、重(zhong)復頻率(lv)380Hz。

放電源7是燈絲(si)且其放電功率為130W。

真空室內(nei)的(de)中(zhong)心軸上(shang)豎直安(an)裝有尾(wei)氣(qi)收集(ji)管(guan)11，尾(wei)氣(qi)收集(ji)管(guan)一端(duan)伸出真空室后(hou)與真空泵(beng)連接，所述(shu)尾(wei)氣(qi)收集(ji)管(guan)的(de)管(guan)壁(bi)上(shang)開孔；尾(wei)氣(qi)收集(ji)管(guan)11內(nei)徑為(wei)85mm，其管(guan)壁(bi)上(shang)均勻開孔，孔徑為(wei)18mm，孔間隔為(wei)38mm。

旋(xuan)轉置(zhi)(zhi)物(wu)(wu)架的(de)旋(xuan)轉軸(zhou)與真空室的(de)中心軸(zhou)同軸(zhou)，所述旋(xuan)轉置(zhi)(zhi)物(wu)(wu)架可繞旋(xuan)轉軸(zhou)轉動，所述旋(xuan)轉置(zhi)(zhi)物(wu)(wu)架上對稱固定設(she)置(zhi)(zhi)2層(ceng)置(zhi)(zhi)物(wu)(wu)臺，所述置(zhi)(zhi)物(wu)(wu)臺上放置(zhi)(zhi)待處(chu)理的(de)基材。

實施例5

一種等離子體(ti)(ti)聚合涂層裝置(zhi)，包(bao)括真(zhen)(zhen)空(kong)室1，真(zhen)(zhen)空(kong)室側部的(de)室體(ti)(ti)內壁任(ren)一橫截(jie)面(mian)為相同直(zhi)徑的(de)圓(yuan)，即真(zhen)(zhen)空(kong)室的(de)室體(ti)(ti)的(de)內壁為圓(yuan)柱體(ti)(ti)。

真空室1的(de)頂(ding)蓋和底(di)蓋為與真空室的(de)側部室體(ti)內壁橫截面匹配(pei)的(de)圓形(xing)平(ping)板。

真空(kong)(kong)室(shi)(shi)1內靠近(jin)真空(kong)(kong)室(shi)(shi)1的內壁處安(an)裝有多(duo)孔電(dian)極2，多(duo)孔電(dian)極2為與(yu)真空(kong)(kong)室(shi)(shi)內壁保持間距(ju)的多(duo)孔弧面(mian)結構(gou)，多(duo)孔電(dian)極與(yu)高頻電(dian)源3連接(jie)，真空(kong)(kong)室(shi)(shi)外壁上密(mi)封(feng)安(an)裝有兩個放電(dian)腔4；

多孔(kong)電(dian)(dian)極(ji)2形(xing)狀為(wei)(wei)分成八段(duan)圓柱(zhu)弧面形(xing)狀，且(qie)所述多孔(kong)電(dian)(dian)極(ji)與(yu)真空(kong)室同軸，與(yu)真空(kong)室的內壁間距為(wei)(wei)2cm，多孔(kong)電(dian)(dian)極(ji)2上布滿(man)通(tong)孔(kong)，孔(kong)徑為(wei)(wei)5mm，孔(kong)間隔為(wei)(wei)12mm；與(yu)多孔(kong)電(dian)(dian)極(ji)連接的高(gao)頻電(dian)(dian)源的功率是120W。

放電腔(qiang)4為(wei)圓筒形，材(cai)質是碳(tan)鋼，直徑(jing)為(wei)11cm，深度(du)為(wei)8cm，相鄰放電腔(qiang)4軸線之間的間距(ju)為(wei)20cm。單體蒸汽管(guan)路10出口與(yu)放電腔(qiang)4之間的距(ju)離為(wei)7cm。

放(fang)電(dian)(dian)腔(qiang)與(yu)(yu)真空室內(nei)壁連(lian)接(jie)(jie)處設(she)置(zhi)有(you)三層(ceng)金屬(shu)柵網(wang)(wang)5，金屬(shu)柵網(wang)(wang)與(yu)(yu)真空室內(nei)壁絕緣，金屬(shu)柵網(wang)(wang)與(yu)(yu)脈沖電(dian)(dian)源(yuan)6連(lian)接(jie)(jie)，放(fang)電(dian)(dian)腔(qiang)4內(nei)設(she)有(you)放(fang)電(dian)(dian)源(yuan)7，放(fang)電(dian)(dian)源(yuan)連(lian)接(jie)(jie)供電(dian)(dian)源(yuan)8，放(fang)電(dian)(dian)腔(qiang)連(lian)接(jie)(jie)有(you)載(zai)體氣(qi)體管路(lu)(lu)(lu)9，載(zai)體氣(qi)體管路(lu)(lu)(lu)另(ling)一端連(lian)接(jie)(jie)到(dao)載(zai)體氣(qi)體源(yuan)，單(dan)體蒸汽管路(lu)(lu)(lu)10連(lian)接(jie)(jie)到(dao)真空室內(nei)，且其出口位于放(fang)電(dian)(dian)腔(qiang)4前方，單(dan)體蒸汽管路(lu)(lu)(lu)另(ling)一端連(lian)接(jie)(jie)到(dao)單(dan)體蒸汽源(yuan)。

金屬(shu)柵網材質是鎳(nie)，網孔(kong)大小為(wei)640目，透過率為(wei)30％。

脈(mo)(mo)沖電源6輸出(chu)正脈(mo)(mo)沖，其(qi)參數為：峰值58V、脈(mo)(mo)寬620μs、重復頻(pin)率55Hz。

放電(dian)源(yuan)7是感應線圈(quan)且其放電(dian)功(gong)率為480W。

真空室內(nei)(nei)的中心(xin)軸上豎直安裝(zhuang)有尾(wei)氣(qi)(qi)收(shou)集管(guan)(guan)(guan)11，尾(wei)氣(qi)(qi)收(shou)集管(guan)(guan)(guan)一端伸出(chu)真空室后與真空泵(beng)連接，所述尾(wei)氣(qi)(qi)收(shou)集管(guan)(guan)(guan)的管(guan)(guan)(guan)壁上開(kai)孔(kong)；尾(wei)氣(qi)(qi)收(shou)集管(guan)(guan)(guan)11內(nei)(nei)徑為(wei)45mm，其管(guan)(guan)(guan)壁上均(jun)勻開(kai)孔(kong)，孔(kong)徑為(wei)24mm，孔(kong)間隔為(wei)58mm。

旋(xuan)(xuan)(xuan)轉(zhuan)(zhuan)置(zhi)物(wu)架的(de)旋(xuan)(xuan)(xuan)轉(zhuan)(zhuan)軸(zhou)(zhou)與真空室的(de)中心軸(zhou)(zhou)同(tong)軸(zhou)(zhou)，所述(shu)旋(xuan)(xuan)(xuan)轉(zhuan)(zhuan)置(zhi)物(wu)架可繞旋(xuan)(xuan)(xuan)轉(zhuan)(zhuan)軸(zhou)(zhou)轉(zhuan)(zhuan)動，所述(shu)旋(xuan)(xuan)(xuan)轉(zhuan)(zhuan)置(zhi)物(wu)架上對稱固定設置(zhi)8層置(zhi)物(wu)臺(tai)，所述(shu)置(zhi)物(wu)臺(tai)上放置(zhi)待處理的(de)基材。