本發(fa)明涉及(ji)顯示制程領域，尤(you)其涉及(ji)一種(zhong)基(ji)板(ban)清洗設(she)備。

背景技術：

隨著顯(xian)(xian)示技術的(de)發展，液晶顯(xian)(xian)示器(liquidcrystaldisplay，lcd)等(deng)平面顯(xian)(xian)示裝(zhuang)置(zhi)因具有高畫(hua)質、省電、機(ji)身薄及應(ying)用(yong)范圍廣等(deng)優點，而(er)被廣泛的(de)應(ying)用(yong)于手機(ji)、電視、個人(ren)數(shu)字助理、數(shu)字相機(ji)、筆記本電腦、臺式計算機(ji)等(deng)各種(zhong)消(xiao)費(fei)性(xing)電子產(chan)品，成(cheng)為(wei)顯(xian)(xian)示裝(zhuang)置(zhi)中的(de)主流。

通常液(ye)(ye)晶(jing)顯示面(mian)板(ban)(ban)由彩膜(mo)基(ji)(ji)(ji)板(ban)(ban)(colorfilter，cf)、薄(bo)膜(mo)晶(jing)體管(guan)基(ji)(ji)(ji)板(ban)(ban)(thinfilmtransistor，tft)、夾(jia)于(yu)彩膜(mo)基(ji)(ji)(ji)板(ban)(ban)與(yu)(yu)(yu)薄(bo)膜(mo)晶(jing)體管(guan)基(ji)(ji)(ji)板(ban)(ban)之(zhi)間的液(ye)(ye)晶(jing)(lc，liquidcrystal)及(ji)(ji)密封(feng)膠框(sealant)組成(cheng)，其成(cheng)型(xing)工(gong)藝(yi)一般包括(kuo)：前段陣列(array)制(zhi)程(薄(bo)膜(mo)、黃光、蝕刻及(ji)(ji)剝膜(mo))、中段成(cheng)盒(cell)制(zhi)程(tft基(ji)(ji)(ji)板(ban)(ban)與(yu)(yu)(yu)cf基(ji)(ji)(ji)板(ban)(ban)貼(tie)合(he)(he))及(ji)(ji)后段模組組裝(zhuang)制(zhi)程(驅(qu)動ic與(yu)(yu)(yu)印刷電路板(ban)(ban)壓合(he)(he))。其中，前段array制(zhi)程主要(yao)是(shi)形(xing)成(cheng)tft基(ji)(ji)(ji)板(ban)(ban)，以(yi)便(bian)于(yu)控制(zhi)液(ye)(ye)晶(jing)分子(zi)的運動；中段cell制(zhi)程主要(yao)是(shi)在tft基(ji)(ji)(ji)板(ban)(ban)與(yu)(yu)(yu)cf基(ji)(ji)(ji)板(ban)(ban)之(zhi)間添加液(ye)(ye)晶(jing)；后段模組組裝(zhuang)制(zhi)程主要(yao)是(shi)驅(qu)動ic壓合(he)(he)與(yu)(yu)(yu)印刷電路板(ban)(ban)的整合(he)(he)，進而驅(qu)動液(ye)(ye)晶(jing)分子(zi)轉動，顯示圖像(xiang)。

在(zai)(zai)液晶顯示面板(ban)(ban)(ban)制造過程中，濕制程機(ji)臺應用十分(fen)(fen)廣(guang)泛，涉(she)及(ji)(ji)蝕刻、涂布顯影、清(qing)洗(xi)(xi)等眾(zhong)多工藝，在(zai)(zai)清(qing)洗(xi)(xi)制程中，由于(yu)基(ji)板(ban)(ban)(ban)上部分(fen)(fen)顆(ke)(ke)粒(li)(particle)尺寸過大或(huo)者在(zai)(zai)基(ji)板(ban)(ban)(ban)上粘附過緊，需要使用滾刷(shua)(shua)(rollbrush)對基(ji)板(ban)(ban)(ban)進行(xing)清(qing)洗(xi)(xi)。如(ru)圖1所示，現有(you)的(de)一(yi)種基(ji)板(ban)(ban)(ban)清(qing)洗(xi)(xi)設(she)備包括：承(cheng)(cheng)載(zai)桿(gan)100、設(she)于(yu)承(cheng)(cheng)載(zai)桿(gan)100外表面上的(de)毛刷(shua)(shua)300、與承(cheng)(cheng)載(zai)桿(gan)100一(yi)端(duan)連接的(de)驅動裝置(zhi)200、設(she)于(yu)承(cheng)(cheng)載(zai)桿(gan)100上且(qie)將承(cheng)(cheng)載(zai)桿(gan)100固定于(yu)濕制程機(ji)臺上的(de)軸承(cheng)(cheng)400，對基(ji)板(ban)(ban)(ban)進行(xing)清(qing)洗(xi)(xi)時，向基(ji)板(ban)(ban)(ban)表面提供(gong)清(qing)洗(xi)(xi)液體，并通過驅動裝置(zhi)200帶動承(cheng)(cheng)載(zai)桿(gan)100及(ji)(ji)其上的(de)毛刷(shua)(shua)300轉動清(qing)洗(xi)(xi)基(ji)板(ban)(ban)(ban)表面，但是(shi)在(zai)(zai)實(shi)際生產過程中，由于(yu)清(qing)洗(xi)(xi)液體在(zai)(zai)毛刷(shua)(shua)300上的(de)沖洗(xi)(xi)并不均勻，將會導致一(yi)些(xie)顆(ke)(ke)粒(li)長期藏于(yu)毛刷(shua)(shua)300里(li)面，進而毛刷(shua)(shua)300在(zai)(zai)對基(ji)板(ban)(ban)(ban)進行(xing)清(qing)洗(xi)(xi)時將顆(ke)(ke)粒(li)帶到基(ji)板(ban)(ban)(ban)上，甚(shen)至刮傷基(ji)板(ban)(ban)(ban)。

技術實現要素：

本發明的目的在(zai)于提(ti)供一種基板(ban)(ban)清洗設備(bei)，能夠均勻地(di)潤(run)濕毛刷(shua)且(qie)有效(xiao)地(di)清洗毛刷(shua)中的顆粒，避免在(zai)清洗基板(ban)(ban)時將毛刷(shua)中的顆粒帶到(dao)基板(ban)(ban)上及出(chu)現顆粒刮(gua)傷基板(ban)(ban)的問題。

為實現上(shang)述目的，本發明提供一(yi)種基(ji)板(ban)清洗設(she)備(bei)，包括(kuo)：中空的承(cheng)載(zai)(zai)(zai)桿(gan)(gan)、設(she)于承(cheng)載(zai)(zai)(zai)桿(gan)(gan)外(wai)表面上(shang)的毛刷、與(yu)承(cheng)載(zai)(zai)(zai)桿(gan)(gan)一(yi)端(duan)連(lian)接的驅(qu)動裝置、及與(yu)承(cheng)載(zai)(zai)(zai)桿(gan)(gan)另一(yi)端(duan)旋轉連(lian)接的進液管；所述承(cheng)載(zai)(zai)(zai)桿(gan)(gan)上(shang)設(she)有多個出(chu)水口(kou)；

所述進液管(guan)用于向承載桿內部通入清洗(xi)液體；

所(suo)述出(chu)水口用于(yu)將(jiang)承載(zai)桿內的清(qing)洗(xi)液體從(cong)承載(zai)桿內部(bu)噴出(chu)至承載(zai)桿外部(bu)，從(cong)而(er)潤濕毛(mao)刷并對(dui)毛(mao)刷進行清(qing)洗(xi)。

所述基(ji)板清洗(xi)設備還(huan)包括(kuo)設于承(cheng)載桿上(shang)的軸承(cheng)。

所述(shu)承載(zai)桿的(de)材料(liao)為金屬(shu)或塑(su)料(liao)。

所述承載桿的材(cai)料為304不銹(xiu)鋼、316不銹(xiu)鋼、聚丙烯、超(chao)高分子聚乙烯、或聚氯乙烯。

所(suo)述驅動(dong)裝置為電動(dong)機。

所(suo)述(shu)毛刷通(tong)過粘貼(tie)的方式設(she)于承載桿的外表面。

所述(shu)清洗(xi)液(ye)體為去離子水(shui)、超純水(shui)、洗(xi)滌劑、或三羥甲基氨基甲烷。

可選地，所述出(chu)水(shui)口為線狀出(chu)水(shui)口。

所述(shu)線(xian)狀(zhuang)出(chu)水口的(de)形(xing)狀(zhuang)為(wei)環狀(zhuang)、波浪狀(zhuang)、鋸齒(chi)狀(zhuang)、或斜線(xian)狀(zhuang)。

所述線狀出水口的寬度為0.01mm-15mm。

可選地，所述出水(shui)口為孔狀出水(shui)口。

所(suo)述孔狀(zhuang)出水口的孔徑為0.01mm-15mm。

本(ben)發明的(de)有益效(xiao)果：本(ben)發明的(de)基(ji)(ji)板(ban)清(qing)洗設備，包括(kuo)中空的(de)承(cheng)載(zai)(zai)桿(gan)(gan)、設于承(cheng)載(zai)(zai)桿(gan)(gan)外(wai)表(biao)面上的(de)毛(mao)(mao)刷、與承(cheng)載(zai)(zai)桿(gan)(gan)一(yi)端連(lian)接的(de)驅動裝置、及與承(cheng)載(zai)(zai)桿(gan)(gan)另一(yi)端旋轉(zhuan)連(lian)接的(de)進(jin)液管，所述承(cheng)載(zai)(zai)桿(gan)(gan)上設有多個(ge)出(chu)水口，通(tong)過進(jin)液管向(xiang)承(cheng)載(zai)(zai)桿(gan)(gan)內部(bu)通(tong)入(ru)清(qing)洗液體(ti)，承(cheng)載(zai)(zai)桿(gan)(gan)內部(bu)的(de)清(qing)洗液體(ti)從多個(ge)出(chu)水口噴出(chu)至承(cheng)載(zai)(zai)桿(gan)(gan)外(wai)部(bu)，從而均勻地潤濕毛(mao)(mao)刷且對毛(mao)(mao)刷進(jin)行有效(xiao)的(de)清(qing)洗，去除毛(mao)(mao)刷內部(bu)殘存的(de)顆粒，避免(mian)在清(qing)洗基(ji)(ji)板(ban)時將毛(mao)(mao)刷內部(bu)的(de)顆粒帶到基(ji)(ji)板(ban)上及出(chu)現(xian)顆粒刮傷基(ji)(ji)板(ban)的(de)問(wen)題，提高產品(pin)良率及產品(pin)品(pin)質。

附圖說明

為了(le)能更進一步了(le)解本(ben)發明的特征以及技術內容(rong)，請(qing)參閱以下有關本(ben)發明的詳細說(shuo)明與附圖，然(ran)而附圖僅(jin)提供參考(kao)與說(shuo)明用(yong)，并非用(yong)來(lai)對(dui)本(ben)發明加以限制。

附圖中，

圖1為現有的基(ji)板清(qing)洗設備的結構示(shi)意圖；

圖2為本發(fa)明的基板清洗設備的結構示意圖；

圖3為本發明的(de)(de)基板(ban)清洗設備的(de)(de)承載桿的(de)(de)第一實施例的(de)(de)結構示意圖；

圖4為本發明(ming)的(de)(de)(de)基板清洗(xi)設備的(de)(de)(de)承載桿的(de)(de)(de)第二實施例的(de)(de)(de)結(jie)構示意圖；

圖(tu)5為本發明的基(ji)板清洗設備(bei)對(dui)基(ji)板進行(xing)清洗的示(shi)意(yi)圖(tu)。

具體實施方式

為(wei)更進(jin)(jin)一步闡(chan)述(shu)(shu)本發(fa)明所采取(qu)的技術手(shou)段及(ji)其效果，以下結合本發(fa)明的優選實施(shi)例及(ji)其附圖(tu)進(jin)(jin)行詳細描(miao)述(shu)(shu)。

請(qing)參(can)閱圖2，本發明提供一(yi)種基板清洗設備，包括(kuo)：中空的(de)(de)承(cheng)載桿10、設于承(cheng)載桿10外表(biao)面上的(de)(de)毛(mao)刷40、與承(cheng)載桿10一(yi)端連接(jie)的(de)(de)驅動裝置20、及與承(cheng)載桿10另一(yi)端旋轉(zhuan)連接(jie)的(de)(de)進液管30；請(qing)參(can)閱圖3或圖4，所述承(cheng)載桿10上設有多個(ge)出水口11；

所述進液管30用于向承載桿10內部通入清洗液體(ti)；

所述出(chu)水口(kou)11用于將承載(zai)桿(gan)10內(nei)的清洗液體從承載(zai)桿(gan)10內(nei)部噴出(chu)至承載(zai)桿(gan)10外部，從而潤濕(shi)毛刷40并對(dui)毛刷40進行清洗。

需要說(shuo)明的(de)(de)(de)是，上(shang)(shang)述(shu)基(ji)板(ban)(ban)清(qing)(qing)洗(xi)(xi)(xi)(xi)(xi)設(she)(she)備，用(yong)于濕制程(cheng)(cheng)機臺中對(dui)基(ji)板(ban)(ban)的(de)(de)(de)清(qing)(qing)洗(xi)(xi)(xi)(xi)(xi)，工作時，驅動(dong)裝(zhuang)置(zhi)(zhi)(zhi)20驅動(dong)承(cheng)載(zai)桿(gan)10旋(xuan)(xuan)轉，帶動(dong)其外(wai)表(biao)面(mian)的(de)(de)(de)毛(mao)刷(shua)(shua)40進(jin)行旋(xuan)(xuan)轉，進(jin)液管30向承(cheng)載(zai)桿(gan)10內(nei)部通入清(qing)(qing)洗(xi)(xi)(xi)(xi)(xi)液體(ti)(ti)，清(qing)(qing)洗(xi)(xi)(xi)(xi)(xi)液體(ti)(ti)會從承(cheng)載(zai)桿(gan)10上(shang)(shang)的(de)(de)(de)出(chu)(chu)水口(kou)11噴出(chu)(chu)至(zhi)承(cheng)載(zai)桿(gan)10外(wai)部，而由于毛(mao)刷(shua)(shua)40是設(she)(she)置(zhi)(zhi)(zhi)在(zai)承(cheng)載(zai)桿(gan)10外(wai)表(biao)面(mian)上(shang)(shang)的(de)(de)(de)，出(chu)(chu)水口(kou)11噴出(chu)(chu)的(de)(de)(de)清(qing)(qing)洗(xi)(xi)(xi)(xi)(xi)液體(ti)(ti)會從毛(mao)刷(shua)(shua)40與承(cheng)載(zai)桿(gan)10接觸的(de)(de)(de)部分流至(zhi)毛(mao)刷(shua)(shua)40端(duan)部，使毛(mao)刷(shua)(shua)40充(chong)分且均勻的(de)(de)(de)濕潤(run)，能夠有效地對(dui)毛(mao)刷(shua)(shua)40進(jin)行清(qing)(qing)洗(xi)(xi)(xi)(xi)(xi)，持續(xu)置(zhi)(zhi)(zhi)換毛(mao)刷(shua)(shua)40內(nei)部殘(can)存的(de)(de)(de)顆粒，避(bi)免在(zai)清(qing)(qing)洗(xi)(xi)(xi)(xi)(xi)基(ji)板(ban)(ban)時將毛(mao)刷(shua)(shua)40內(nei)部的(de)(de)(de)顆粒帶到基(ji)板(ban)(ban)上(shang)(shang)及出(chu)(chu)現顆粒刮傷基(ji)板(ban)(ban)的(de)(de)(de)問(wen)題，提(ti)高(gao)產品良率(lv)及產品品質，同時，由于出(chu)(chu)水口(kou)11噴出(chu)(chu)清(qing)(qing)洗(xi)(xi)(xi)(xi)(xi)液潤(run)濕毛(mao)刷(shua)(shua)40，因而在(zai)對(dui)基(ji)板(ban)(ban)進(jin)行清(qing)(qing)洗(xi)(xi)(xi)(xi)(xi)時，無需另(ling)外(wai)設(she)(she)置(zhi)(zhi)(zhi)提(ti)供(gong)清(qing)(qing)洗(xi)(xi)(xi)(xi)(xi)液體(ti)(ti)的(de)(de)(de)裝(zhuang)置(zhi)(zhi)(zhi)，降(jiang)低(di)了(le)用(yong)于對(dui)基(ji)板(ban)(ban)進(jin)行清(qing)(qing)洗(xi)(xi)(xi)(xi)(xi)的(de)(de)(de)裝(zhuang)置(zhi)(zhi)(zhi)的(de)(de)(de)復雜程(cheng)(cheng)度，有利于提(ti)升基(ji)板(ban)(ban)清(qing)(qing)洗(xi)(xi)(xi)(xi)(xi)的(de)(de)(de)效率(lv)。

優選地(di)，請參閱(yue)圖(tu)5，為達到更好的(de)(de)清洗(xi)(xi)效果，本發(fa)明的(de)(de)基(ji)(ji)板清洗(xi)(xi)設(she)備同時(shi)具有四個(ge)承(cheng)載(zai)(zai)(zai)(zai)桿(gan)10，每(mei)一承(cheng)載(zai)(zai)(zai)(zai)桿(gan)10的(de)(de)外表面均設(she)有毛(mao)(mao)刷(shua)40，其(qi)中兩(liang)(liang)個(ge)承(cheng)載(zai)(zai)(zai)(zai)桿(gan)10及(ji)對(dui)(dui)應(ying)的(de)(de)毛(mao)(mao)刷(shua)40位(wei)于待(dai)清洗(xi)(xi)的(de)(de)基(ji)(ji)板60的(de)(de)上方，另(ling)兩(liang)(liang)個(ge)承(cheng)載(zai)(zai)(zai)(zai)桿(gan)10及(ji)對(dui)(dui)應(ying)的(de)(de)毛(mao)(mao)刷(shua)40位(wei)于待(dai)清洗(xi)(xi)的(de)(de)基(ji)(ji)板60的(de)(de)下方，相(xiang)應(ying)地(di)，對(dui)(dui)應(ying)每(mei)一承(cheng)載(zai)(zai)(zai)(zai)桿(gan)10設(she)有進液管(guan)30及(ji)驅(qu)動(dong)裝置20，清洗(xi)(xi)時(shi)，位(wei)于待(dai)清洗(xi)(xi)的(de)(de)基(ji)(ji)板60同一側的(de)(de)兩(liang)(liang)個(ge)承(cheng)載(zai)(zai)(zai)(zai)桿(gan)10受對(dui)(dui)應(ying)的(de)(de)驅(qu)動(dong)裝置20驅(qu)動(dong)旋(xuan)轉，且旋(xuan)轉方向相(xiang)反，從(cong)而利用四個(ge)承(cheng)載(zai)(zai)(zai)(zai)桿(gan)10上的(de)(de)毛(mao)(mao)刷(shua)40對(dui)(dui)待(dai)清洗(xi)(xi)的(de)(de)基(ji)(ji)板60兩(liang)(liang)側進行對(dui)(dui)刷(shua)。

具(ju)體(ti)地，所(suo)(suo)述(shu)基板(ban)清(qing)洗設(she)備還包(bao)括(kuo)設(she)于(yu)承(cheng)(cheng)(cheng)載桿(gan)10上(shang)的軸(zhou)承(cheng)(cheng)(cheng)50，所(suo)(suo)述(shu)軸(zhou)承(cheng)(cheng)(cheng)50用(yong)于(yu)將承(cheng)(cheng)(cheng)載桿(gan)10固(gu)定在濕制程機臺上(shang)。具(ju)體(ti)地，所(suo)(suo)述(shu)軸(zhou)承(cheng)(cheng)(cheng)50的數量為兩(liang)(liang)個(ge)，分(fen)別設(she)于(yu)承(cheng)(cheng)(cheng)載桿(gan)10兩(liang)(liang)端。

具體地，所(suo)述毛刷40通過粘(zhan)貼的方式設于(yu)承載桿10的外表面。

具體地，所述承載桿10的(de)材料(liao)為金屬或塑料(liao)。

進一步地，當所述承載桿10的材(cai)(cai)料為(wei)金屬時，優選(xuan)304不(bu)銹鋼(gang)、316不(bu)銹鋼(gang)，當所述承載桿10的材(cai)(cai)料為(wei)塑料時，優選(xuan)聚丙烯(xi)(pp)、超高分子聚乙(yi)(yi)烯(xi)(upe)、聚氯乙(yi)(yi)烯(xi)(pve)。

具體地，所述驅動(dong)裝置20為電動(dong)機。

具體地，所述清洗液體為(wei)去離子水(deionizedwater，diw)、超(chao)純(chun)水(ultra-purewater，upw)、洗滌劑(detergent)、或(huo)三(san)羥甲基氨基甲烷(tham)。

優選地，所述出(chu)水口11均勻的設于所述承載桿10上。

具體地，所述出(chu)(chu)水口11的(de)(de)(de)形(xing)狀及(ji)尺寸(cun)、以及(ji)出(chu)(chu)水口11的(de)(de)(de)側壁與承載桿10外(wai)表面的(de)(de)(de)角度可(ke)根據(ju)出(chu)(chu)水量及(ji)出(chu)(chu)水方向的(de)(de)(de)實際(ji)需求(qiu)進(jin)行具體的(de)(de)(de)設(she)置。

具(ju)體(ti)地，請參閱(yue)圖3，在(zai)本發明的(de)(de)第(di)一實施例中(zhong)，所述出水口11為線狀(zhuang)(zhuang)(zhuang)出水口，所述線狀(zhuang)(zhuang)(zhuang)出水口的(de)(de)形狀(zhuang)(zhuang)(zhuang)可以但不限于為環狀(zhuang)(zhuang)(zhuang)、波浪狀(zhuang)(zhuang)(zhuang)、鋸齒(chi)狀(zhuang)(zhuang)(zhuang)、或(huo)斜線狀(zhuang)(zhuang)(zhuang)。

進一步(bu)地，所述線狀出水口的寬(kuan)度為0.01mm-15mm。

具(ju)體地(di)，請(qing)參閱圖(tu)4，在本(ben)發明的第二實施例中，所述出水口11為孔狀出水口，所述孔狀出水口的形(xing)(xing)(xing)狀可以但(dan)不限于為圓(yuan)形(xing)(xing)(xing)、矩形(xing)(xing)(xing)、三角形(xing)(xing)(xing)、五角形(xing)(xing)(xing)。

進一步地(di)，所述孔(kong)狀(zhuang)出水(shui)口(kou)的孔(kong)徑為0.01mm-15mm。

當(dang)然，所述(shu)出水口11也可根據實(shi)際的應用環境設計為在承載(zai)桿(gan)10上呈發(fa)散狀排列，這都(dou)不會影響本(ben)發(fa)明的實(shi)現。

綜上所述，本發(fa)明(ming)的基板(ban)清(qing)(qing)洗(xi)(xi)設(she)備，包括中空的承(cheng)(cheng)(cheng)載(zai)桿(gan)、設(she)于承(cheng)(cheng)(cheng)載(zai)桿(gan)外表面上的毛刷、與承(cheng)(cheng)(cheng)載(zai)桿(gan)一端連接的驅動(dong)裝置、及(ji)(ji)(ji)與承(cheng)(cheng)(cheng)載(zai)桿(gan)另一端旋轉連接的進液管(guan)，所述承(cheng)(cheng)(cheng)載(zai)桿(gan)上設(she)有多(duo)個(ge)出水口(kou)，通過進液管(guan)向承(cheng)(cheng)(cheng)載(zai)桿(gan)內(nei)部(bu)通入(ru)清(qing)(qing)洗(xi)(xi)液體，承(cheng)(cheng)(cheng)載(zai)桿(gan)內(nei)部(bu)的清(qing)(qing)洗(xi)(xi)液體從(cong)多(duo)個(ge)出水口(kou)噴出至承(cheng)(cheng)(cheng)載(zai)桿(gan)外部(bu)，從(cong)而均勻地潤濕(shi)毛刷且(qie)對毛刷進行有效的清(qing)(qing)洗(xi)(xi)，去除(chu)毛刷內(nei)部(bu)殘存(cun)的顆粒，避免在清(qing)(qing)洗(xi)(xi)基板(ban)時將毛刷內(nei)部(bu)的顆粒帶到基板(ban)上及(ji)(ji)(ji)出現顆粒刮傷基板(ban)的問題，提高產品良率及(ji)(ji)(ji)產品品質(zhi)。

以上所述，對(dui)于本領域(yu)的(de)普通(tong)技(ji)術(shu)人員來說，可以根據本發(fa)明的(de)技(ji)術(shu)方案和(he)技(ji)術(shu)構思(si)作(zuo)出其(qi)他各種相應的(de)改(gai)(gai)變(bian)和(he)變(bian)形，而所有這些改(gai)(gai)變(bian)和(he)變(bian)形都應屬于本發(fa)明后附的(de)權利要(yao)求的(de)保護范圍。