本發明涉及一種含有吡咯并吡咯色素的組合物、組合物的制造方法、硬化性組合物、硬化膜、近紅外線截止濾波器、固體攝像元件、紅外線傳感器及照相機模塊。
背景技術：
：在攝像機(videocamera)、數字靜態照相機(digitalstillcamera)、帶有照相機功能的移動電話等中，一直使用作為彩色圖像的固體攝像元件的電荷耦合器件(Charge-CoupledDevice，CCD)或互補式金屬氧化物半導體(ComplementaryMetal-Oxide-Semiconductor，CMOS)。這些固體攝像元件在其受光部中使用對近紅外線具有感度的硅光電二極管(siliconphotodiode)，故必須進行視感度修正，大多情況下使用近紅外線吸收濾波器等。作為具有近紅外線吸收能力的化合物，已知吡咯并吡咯色素等(例如專利文獻1等)。另外，專利文獻2中揭示有一種含有特定的二酮基吡咯并吡咯顏料及顏料衍生物的顏料組合物。現有技術文獻專利文獻專利文獻1：日本專利特開2011-68731號公報專利文獻2：國際公開WO2012/102399號手冊技術實現要素：發明要解決的問題吡咯并吡咯色素為在近紅外范圍內具有吸收、且不可見性優異的近紅外吸收色素，但若以溶解于溶劑中的分子分散狀態使用，則有耐光性降低的傾向。得知通過以固體分散狀態(分散液)的形式使用吡咯并吡咯色素，耐光性提高，但吡咯并吡咯色素有分散性變得不充分的傾向，故有時吡咯并吡咯色素的粒子粗大化而對圖案形成等造成影響。另外，在專利文獻2中揭示有一種含有特定的二酮基吡咯并吡咯顏料及顏料衍生物的顏料組合物，但專利文獻2中揭示的特定的二酮基吡咯并吡咯顏料為紅色顏料，且與近紅外吸收色素不同。另外，專利文獻2中并無與吡咯并吡咯色素的分散性有關的記載。因此，本發明的目的在于提供一種含有吡咯并吡咯色素的粒子的分散性良好的組合物。另外，本發明在于提供一種組合物的制造方法、含有組合物的硬化性組合物、使用硬化性組合物的硬化膜、近紅外線截止濾波器、固體攝像元件、紅外線傳感器及照相機模塊。解決問題的技術手段本發明人等人進行了努力研究，結果發現，通過在含有含吡咯并吡咯色素的粒子的組合物中，將粒子的平均二次粒徑設定為500nm以下，或使用后述式(2)所表示的色素衍生物，可使分散性良好，從而完成了本發明。本發明提供以下內容。＜1＞一種組合物，含有含式(1)所表示的色素的粒子，且粒子的平均二次粒徑為500nm以下；[化1]式(1)中，R1a及R1b分別獨立地表示烷基、芳基或雜芳基，R2及R3分別獨立地表示氫原子或取代基，R2及R3也可相互鍵結而形成環，R4分別獨立地表示氫原子、烷基、芳基、雜芳基、-BR4AR4B或金屬原子，R4也可與選自R1a、R1b及R3中的至少一個形成共價鍵或配位鍵，R4A及R4B分別獨立地表示氫原子或取代基。＜2＞根據＜1＞所述的組合物，還含有下述式(2)所表示的色素衍生物；[化2]式(2)中，P表示色素結構，L表示單鍵或連結基，X表示酸性基、堿性基、具有鹽結構的基團或鄰苯二甲酰亞胺基，m表示1以上的整數，n表示1以上的整數，在m為2以上的情形時，多個L及X也可互不相同，在n為2以上的情形時，多個X也可互不相同。＜3＞一種組合物，含有式(1)所表示的色素及下述式(2)所表示的色素衍生物；[化3]式(1)中，R1a及R1b分別獨立地表示烷基、芳基或雜芳基，R2及R3分別獨立地表示氫原子或取代基，R2及R3也可相互鍵結而形成環，R4分別獨立地表示氫原子、烷基、芳基、雜芳基、-BR4AR4B或金屬原子，R4也可與選自R1a、R1b及R3中的至少一個形成共價鍵或配位鍵，R4A及R4B分別獨立地表示氫原子或取代基；[化4]式(2)中，P表示色素結構，L表示單鍵或連結基，X表示酸性基、堿性基、具有鹽結構的基團或鄰苯二甲酰亞胺基，m表示1以上的整數，n表示1以上的整數，在m為2以上的情形時，多個L及X也可互不相同，在n為2以上的情形時，多個X也可互不相同。＜4＞根據＜1＞～＜3＞中任一項所述的組合物，其中組合物在25℃下的粘度為100mPa·s以下。＜5＞根據＜2＞～＜4＞中任一項所述的組合物，其中式(2)中，P為選自吡咯并吡咯色素結構、二酮基吡咯并吡咯色素結構、喹吖啶酮色素結構、蒽醌色素結構、二蒽醌色素結構、苯并異吲哚色素結構、噻嗪靛藍色素結構、偶氮色素結構、喹酞酮色素結構、酞菁色素結構、二噁嗪色素結構、苝色素結構、紫環酮色素結構及苯并咪唑啉酮色素結構中的至少一種。＜6＞根據＜2＞～＜5＞中任一項所述的組合物，其中式(2)中，P為選自吡咯并吡咯色素結構、二酮基吡咯并吡咯色素結構、喹吖啶酮色素結構及苯并咪唑啉酮色素結構中的至少一種。＜7＞根據＜2＞～＜6＞中任一項所述的組合物，其中式(2)中，X為選自羧基、磺基、鄰苯二甲酰亞胺基及下述式(X-1)～式(X-9)所表示的基團中的至少一種；[化5]式(X-1)～式(X-9)中，*表示與式(2)的L的連結鍵，R100～R106分別獨立地表示氫原子、烷基、烯基或芳基，R100與R101也可相互連結而形成環，M表示與陰離子構成鹽的原子或原子團。＜8＞根據＜2＞～＜7＞中任一項所述的組合物，其中色素衍生物為下述式(3)所表示的化合物；[化6]式(3)中，R21a及R21b分別獨立地表示烷基、芳基或雜芳基，R22及R23分別獨立地表示氰基、酰基、烷氧基羰基、烷基、芳基亞磺酰基或雜芳基，R22及R23也可相互鍵結而形成環，R24分別獨立地表示氫原子、烷基、芳基、雜芳基、-BR24AR24B或金屬原子，R24也可與選自R21a、R21b及R23中的至少一個形成共價鍵或配位鍵，R24A及R24B分別獨立地表示氫原子、鹵素原子、烷基、芳基或雜芳基，L1表示單鍵或亞烷基、含氮雜環基、-NR'-、-CO-、-SO2-或包含這些基團的組合的連結基，R'表示氫原子、烷基或芳基，X1表示酸性基、堿性基、具有鹽結構的基團或鄰苯二甲酰亞胺基，m表示1以上的整數，n表示1以上的整數，在m為2以上的情形時，多個L1及X1也可互不相同，在n為2以上的情形時，多個X1也可互不相同。＜9＞根據＜2＞～＜8＞中任一項所述的組合物，其中相對于式(1)所表示的色素100質量份，含有1質量份～30質量份的式(2)所表示的色素衍生物。＜10＞根據＜1＞～＜9＞中任一項所述的組合物，其中式(1)所表示的色素的最大吸收波長在700nm～1200nm的范圍內。＜11＞根據＜1＞～＜10＞中任一項所述的組合物，其中含有式(1)所表示的色素的粒子的平均一次粒徑為5nm～100nm。＜12＞根據＜1＞～＜11＞中任一項所述的組合物，還含有選自樹脂、有機溶劑及與式(1)所表示的色素不同的色素中的至少一種。＜13＞一種組合物的制造方法，包括以下步驟：在選自樹脂及有機溶劑中的至少一種的存在下，使式(1)所表示的色素及式(1)所表示的色素以外的色素分散；[化7]式(1)中，R1a及R1b分別獨立地表示烷基、芳基或雜芳基，R2及R3分別獨立地表示氫原子或取代基，R2及R3也可相互鍵結而形成環，R4分別獨立地表示氫原子、烷基、芳基、雜芳基、-BR4AR4B或金屬原子，R4也可與選自R1a、R1b及R3中的至少一個形成共價鍵或配位鍵，R4A及R4B分別獨立地表示氫原子或取代基。＜14＞根據＜13＞所述的組合物的制造方法，其中進而在下述式(2)所表示的色素衍生物的存在下進行分散；[化8]式(2)中，P表示色素結構，L表示單鍵或連結基，X表示酸性基、堿性基、具有鹽結構的基團或鄰苯二甲酰亞胺基，m表示1以上的整數，n表示1以上的整數，在m為2以上的情形時，多個L及X也可互不相同，在n為2以上的情形時，多個X也可互不相同。＜15＞一種硬化性組合物，含有根據＜1＞～＜12＞中任一項所述的組合物及硬化性化合物。＜16＞根據＜15＞所述的硬化性組合物，其中硬化性化合物為聚合性化合物，且所述硬化性組合物還包含光聚合引發劑。＜17＞一種硬化膜，其是使根據＜15＞或＜16＞所述的硬化性組合物硬化而成。＜18＞一種近紅外線截止濾波器，其是使用根據＜15＞或＜16＞所述的硬化性組合物而成。＜19＞一種固體攝像元件，含有使用根據＜15＞或＜16＞所述的硬化性組合物而成的硬化膜。＜20＞一種紅外線傳感器，含有使用根據＜15＞或＜16＞所述的硬化性組合物而成的硬化膜。＜21＞一種照相機模塊，具有固體攝像元件及根據＜18＞所述的近紅外線截止濾波器。＜22＞一種化合物，所述化合物是以下述式(3)所表示的；[化9]式(3)中，R21a及R21b分別獨立地表示烷基、芳基或雜芳基，R22及R23分別獨立地表示氰基、酰基、烷氧基羰基、烷基、芳基亞磺酰基或雜芳基，R22及R23也可相互鍵結而形成環，R24分別獨立地表示氫原子、烷基、芳基、雜芳基、-BR24AR24B或金屬原子，R24也可與選自R21a、R21b及R23中的至少一個形成共價鍵或配位鍵，R24A及R24B分別獨立地表示氫原子、鹵素原子、烷基、芳基或雜芳基，L1表示單鍵或亞烷基、含氮雜環基、-NR'-、-CO-、-SO2-或包含這些基團的組合的連結基，R'表示氫原子、烷基或芳基，X1表示酸性基、堿性基、具有鹽結構的基團或鄰苯二甲酰亞胺基，m表示1以上的整數，n表示1以上的整數，在m為2以上的情形時，多個L1及X1也可互不相同，在n為2以上的情形時，多個X1也可互不相同。發明的效果根據本發明，可提供一種含有吡咯并吡咯色素的粒子的分散性良好的組合物。而且，通過使用所述組合物，可形成良好的圖案形狀。另外，本發明可提供一種組合物的制造方法、硬化性組合物、硬化膜、近紅外線截止濾波器、固體攝像元件、紅外線傳感器及照相機模塊。附圖說明圖1為表示本發明的紅外線傳感器的一實施形態的構成的概略剖面圖。圖2為應用本發明的紅外線傳感器的攝像裝置的功能區塊圖。具體實施方式以下，對本發明的內容加以詳細說明。另外，本申請說明書中，所謂“～”是以包含其前后所記載的數值作為下限值及上限值的含意使用。本說明書中，“(甲基)丙烯酸酯”表示“丙烯酸酯”及“甲基丙烯酸酯”此兩者或任一者，“(甲基)烯丙基”表示“烯丙基”及“甲基烯丙基”此兩者或任一者，“(甲基)丙烯酰基”表示“丙烯酰基”及“甲基丙烯酰基”此兩者或任一者。在本說明書中的基團(原子團)的表述中，未記載經取代及未經取代的表述包含不具有取代基的基團，并且也包含具有取代基的基團。例如所謂“烷基”，不僅包含不具有取代基的烷基(未經取代的烷基)，也包含具有取代基的烷基(經取代的烷基)。在本說明書中的基團(原子團)的表述中，未記載經取代及未經取代的表述包含不具有取代基的基團(原子團)，并且也包含具有取代基的基團(原子團)。本說明書中，化學式中的Me表示甲基，Et表示乙基，Pr表示丙基，Bu表示丁基，Ph表示苯基。本說明書中，所謂近紅外線，是指波長范圍為700nm～2500nm的光(電磁波)。本說明書中，所謂總固體成分，是指自組合物的總組成中去掉溶劑而所得的成分的總質量。本說明書中，所謂固體成分，是指25℃下的固體成分。本說明書中，重量平均分子量是以由凝膠滲透色譜(GelPermeationChromatography，GPC)測定所得的聚苯乙烯換算值的形式定義。本說明書中，重量平均分子量(Mw)及數量平均分子量(Mn)例如可通過以下方式求出：使用HLC-8220(東曹(Tosoh)(股)制造)，使用TSK凝膠超級(TSKgelSuper)AWM-H(東曹(Tosoh)(股)制造，6.0mmID×15.0cm)作為管柱，且使用10mmol/L的溴化鋰N-甲基吡咯烷酮(N-methylpyrrolidinone，NMP)溶液作為洗脫液。＜組合物＞本發明的組合物的第1實施方式含有含式(1)所表示的色素的粒子，且所述粒子的平均二次粒徑為500nm以下。本發明的組合物通過將含式(1)所表示的色素的粒子的平均二次粒徑設定為500nm以下，可制成分散性良好的組合物。另外，通過使用本發明的組合物，還可形成良好的圖案形狀。本發明的組合物的第2實施方式為含有式(1)所表示的色素及式(2)所表示的色素衍生物的組合物。本發明的組合物通過含有式(1)所表示的色素及式(2)所表示的色素衍生物，可制成分散性良好的組合物。本發明的組合物的第2實施方式中，優選為含式(1)所表示的色素的粒子的平均二次粒徑為500nm以下。將所述粒子的平均二次粒徑設定為500nm以下的方法例如可列舉：使用色素衍生物的方法、使用分散樹脂的方法、使用與分散樹脂的空間排斥鏈的相容性高的分散溶媒的方法、增強粒子的分散強度的方法(例如延長分散時間、提高分散溫度、使用分散珠徑更小的珠等)、及將這些方法組合的方法。另外，還可列舉將式(1)所表示的色素與和式(1)所表示的色素不同的色素同時分散(也稱為共分散)的方法。其中，通過使用后述式(2)所表示的色素衍生物，可進一步提高所述粒子的分散性，容易將平均二次粒徑調整為500nm以下。尤其通過使用式(2)所表示的色素衍生物，且將式(1)所表示的色素與和式(1)所表示的色素不同的色素共分散，可進一步提高所述粒子的分散性。進而，還可將觸變性(thixotropy)抑制得低。再者，在將式(1)所表示的色素與和式(1)所表示的色素不同的色素共分散的情形時，只要組合物總體所含有的含色素的粒子的平均二次粒徑為500nm以下即可。此處所謂觸變性，是指對流體施加剪切應力(shearingstress)時，粘度隨著剪切應力的增加而降低的現象。另外，本發明中，所謂“觸變性低”，是指在使對流體施加的剪切應力增加時，流體的粘度變化小。本發明中，含式(1)所表示的色素的粒子的平均一次粒徑優選為5nm～100nm。上限優選為90nm以下，更優選為80nm以下。下限優選為10nm以上，更優選為15nm以上。若平均一次粒子為所述范圍，則分散穩定性及圖案形成性良好。減小所述粒子的一次粒徑的方法可列舉研磨(milling)處理。研磨處理為將粒子、水溶性無機鹽及有機溶劑機械混練而將粒子破碎后，通過水洗將水溶性無機鹽及有機溶劑去除的方法。在研磨處理中，通過并用色素衍生物或樹脂，粒子變得不易凝聚，還可減小平均二次粒徑。本發明中，含式(1)所表示的色素的粒子的平均二次粒徑為500nm以下，優選為400nm以下，更優選為300nm以下。下限優選為10nm以上，更優選為20nm以上。再者，本說明書中，所謂平均二次粒徑，是指關于色素的一次粒子(單微晶)締合而成的二次粒子的平均粒徑。本發明中，平均一次粒徑及平均二次粒徑為通過后述實施例中記載的方法求出的值。本發明的組合物優選為25℃下的粘度為100mPa·s以下，更優選為50mPa·s以下，進而優選為20mPa·s以下。下限優選為0.1mPa·s以上，更優選為0.5mPa·s以上，進而優選為1mPa·s以上。以下，對本發明的組合物的各成分加以說明。＜＜式(1)所表示的色素＞＞本發明的組合物含有含式(1)所表示的色素的粒子。式(1)所表示的色素優選為在700nm～1200nm的范圍內具有最大吸收波長，更優選為在700nm～1000nm的范圍內具有最大吸收波長，進而優選為在730nm～980nm的范圍內具有最大吸收波長，進而更優選為在750nm～950nm的范圍內具有最大吸收波長。若最大吸收波長為所述范圍，則為可見光透過性優異的色素。另外，最大吸收波長是根據后述固體攝像元件或紅外線傳感器等光學元件所需求的性能而設計。首先，對式(1)所表示的色素加以說明。[化10]式(1)中，R1a及R1b分別獨立地表示烷基、芳基或雜芳基，R2及R3分別獨立地表示氫原子或取代基，R2及R3也可相互鍵結而形成環，R4表示氫原子、烷基、芳基、雜芳基、-BR4AR4B或金屬原子，R4也可與選自R1a、R1b及R3中的至少一個形成共價鍵或配位鍵，R4A及R4B分別獨立地表示氫原子或取代基。式(1)中，R1a、R1b所表示的烷基的碳數優選為1～30，更優選為1～20，尤其優選為1～10。R1a、R1b所表示的芳基的碳數優選為6～30，更優選為6～20，尤其優選為6～12。R1a、R1b所表示的雜芳基的碳數優選為1～30，更優選為1～12。雜原子例如可列舉氮原子、氧原子及硫原子。R1a、R1b所表示的基團優選為具有含有分支烷基的烷氧基作為取代基的芳基、或具有羥基作為取代基的芳基。分支烷基的碳數優選為3～30，更優選為3～20。R1a、R1b所表示的基團例如可列舉：4-(2-乙基己氧基)苯基、4-(2-甲基丁氧基)苯基、4-(2-辛基十二烷氧基)苯基、4-羥基苯基等。通式(1)中的R1a、R1b可彼此相同也可不同。R2及R3分別獨立地表示氫原子或取代基。R2及R3也可鍵結而形成環。R2及R3的至少一個優選為吸電子性基。R2及R3優選為分別獨立地表示氰基或雜芳基。取代基例如可列舉日本專利特開號公報的段落編號0020～段落編號0022中記載的取代基。將所述內容并入至本說明書。關于取代基的一例，可列舉以下的取代基T作為一例。(取代基T)烷基(優選為碳數1～30)、烯基(優選為碳數2～30)、炔基(優選為碳數2～30)、芳基(優選為碳數6～30)、氨基(優選為碳數0～30)、烷氧基(優選為碳數1～30)、芳氧基(優選為碳數6～30)、雜芳氧基(優選為碳數1～30)、酰基(優選為碳數1～30)、烷氧基羰基(優選為碳數2～30)、芳氧基羰基(優選為碳數7～30)、酰氧基(優選為碳數2～30)、酰基氨基(優選為碳數2～30)、烷氧基羰基氨基(優選為碳數2～30)、芳氧基羰基氨基(優選為碳數7～30)、磺酰基氨基(優選為碳數1～30)、氨磺酰基(優選為碳數0～30)、氨甲酰基(優選為碳數1～30)、烷硫基(優選為碳數1～30)、芳硫基(優選為碳數6～30)、雜芳硫基(優選為碳數1～30)、烷基磺酰基(優選為碳數1～30)、芳基磺酰基(優選為碳數6～30)、烷基亞磺酰基(優選為碳數1～30)、芳基亞磺酰基(優選為碳數6～30)、脲基(優選為碳數1～30)、磷酰胺基(優選為碳數1～30)、羥基、巰基、鹵素原子、氰基、磺基、羧基、硝基、異羥肟酸基、亞磺酸基、肼基、亞氨基、雜芳基(優選為碳數1～30)。R2及R3中，至少一個優選為吸電子性基。哈米特(Hammett)的σp值(sigmaparavalue)為正的取代基作為吸電子基而發揮作用。本發明中，可例示Hammett的σp值為0.2以上的取代基作為拉電子性基。σp值優選為0.25以上，更優選為0.3以上，尤其優選為0.35以上。上限并無特別限制，優選為0.80。具體例可列舉：氰基(0.66)、羧基(-COOH：0.45)、烷氧基羰基(-COOMe：0.45)、芳氧基羰基(-COOPh：0.44)、氨甲酰基(-CONH2：0.36)、烷基羰基(-COMe：0.50)、芳基羰基(-COPh：0.43)、烷基磺酰基(-SO2Me：0.72)、或芳基磺酰基(-SO2Ph：0.68)等。尤其優選為氰基。此處，Me表示甲基，Ph表示苯基。關于哈米特的取代基常數σ值，例如可參照日本專利特開2011-68731號公報的段落0017～段落0018，將其內容并入至本申請說明書中。在R2及R3相互鍵結而形成環的情形時，優選為形成五元環～七元環(優選為五元環或六元環)。所形成的環通常優選為在部花青色素中用作酸性核，其具體例例如可參照日本專利特開2011-68731號公報的段落0019～段落0021，將其內容并入至本申請說明書中。R3尤其優選為雜芳基。雜芳基優選為五元環或六元環。另外，雜芳基優選為單環或縮合環，優選為單環或縮合數為2～8的縮合環，更優選為單環或縮合數為2～4的縮合環。雜芳基中所含的雜原子的個數優選為1～3，更優選為1～2。雜原子例如可例示氮原子、氧原子、硫原子。雜芳基優選為喹啉基、喹喔啉基、苯并噻唑基或萘并噻唑基，更優選為苯并噻唑基。雜芳基可具有取代基，也可未經取代。取代基可列舉所述取代基T中說明的基團。例如可列舉烷基、烷氧基、鹵素原子等。式(1)中的2個R2可彼此相同也可不同，另外，2個R3可彼此相同也可不同。在R4表示烷基、芳基或雜芳基的情形時，烷基、芳基及雜芳基與R1a、R1b中說明的基團為相同含意，優選范圍也相同。在R4表示-BR4AR4B的情形時，R4A、R4B分別獨立地表示氫原子或取代基，R4A與R4B也可相互鍵結而形成環。R4A及R4B所表示的取代基可列舉所述取代基T，優選為鹵素原子、烷基、烷氧基、芳基或雜芳基，更優選為烷基、芳基或雜芳基，尤其優選為芳基。-BR4AR4B所表示的基團的具體例可列舉：二氟硼、二苯基硼、二丁基硼、二萘基硼、鄰苯二酚硼。其中，尤其優選為二苯基硼。在R4表示金屬原子的情形時，金屬原子可列舉：鎂、鋁、鈣、鋇、鋅、錫、鋁、鋅、錫、釩、鐵、鈷、鎳、銅、鈀、銥、鉑，尤其優選為鋁、鋅、釩、鐵、銅、鈀、銥、鉑。R4也可與R1a、R1b及R3的至少一種形成共價鍵或配位鍵，尤其優選為R4與R3形成配位鍵。R4優選為氫原子或-BR4AR4B所表示的基團(特別是二苯基硼)。式(1)中的2個R4可彼此相同也可不同。通式(1)所表示的化合物優選為下述通式(1a)、通式(1b)或通式(1c)的任一個所表示的化合物。[化11]通式(1a)中，Z1a及Z1b分別獨立地表示形成芳基環或雜芳基環的原子團。R5a及R5b分別獨立地表示碳數6～20的芳基、碳數4～20的雜芳基、碳數1～20的烷基、碳數1～20的烷氧基、碳數1～20的烷氧基羰基、羧基、碳數1～20的氨甲酰基、鹵素原子或氰基，R5a或R5b與Z1a或Z1b也可相互鍵結而形成縮合環。R22及R23分別獨立地表示氰基、碳數1～6的酰基、碳數1～6的烷氧基羰基、碳數1～10的烷基亞磺酰基或芳基亞磺酰基、或者碳數3～20的含氮雜芳基。R22與R23也可相互鍵結而形成環狀酸性核。R4表示氫原子、碳數1～20的烷基、碳數6～20的芳基、碳數4～20的雜芳基、-BR4AR4B或金屬原子，R4也可與選自R1a、R1b及R3中的至少一個形成共價鍵或配位鍵，R4A及R4B分別獨立地表示氫原子、鹵素原子、碳數1～10的烷基、碳數1～10的烷氧基、碳數6～20的芳基或碳數4～20的雜芳基。通式(1a)中，Z1a及Z1b分別獨立地表示形成芳基環或雜芳基環的原子團。所形成的芳基環、雜芳基環與作為通式(1)中的R2及R3的取代基而說明的芳基、雜芳基為相同含意，優選范圍也相同。Z1a及Z1b優選為相同。R5a及R5b與通式(1)中的R2及R3中說明的例子為相同含意，優選范圍也相同。R5a及R5b優選為相同。R5a或R5b與Z1a或Z1b也可相互鍵結而形成縮合環，縮合環可列舉萘基環、喹啉環等。通過在Z1a或Z1b所形成的芳基環或雜芳基環上導入R5a或R5b所表示的基團，可大幅度地提高不可見性。R22及R23與通式(1)中的R2及R3中說明的例子為相同含意，優選范圍也相同。R4與通式(1)中的R4為相同含意，優選范圍也相同。R4也可與R23具有共價鍵或配位鍵。通式(1a)所表示的化合物也可還具有取代基，取代基與R2及R3的取代基為相同含意，優選范圍也相同。通式(1a)的優選組合為以下情形：Z1a及Z1b分別獨立地形成苯環或吡啶環，R5a及R5b分別獨立地為烷基、烷氧基、鹵素原子或氰基，R22及R23分別獨立地為雜芳基、氰基、酰基、烷氧基羰基、或R22及R23鍵結而成的環狀酸性核，R4為氫原子、-BR4AR4B、金屬原子、鎂、鋁、鈣、鋇、鋅或錫。尤其優選的組合為以下情形：Z1a及Z1b均形成苯環，R5a及R5b均為烷基、鹵素原子或氰基，R22及R23分別獨立地為含氮雜芳基與氰基或烷氧基羰基的組合、或R22及R23鍵結而成的環狀酸性核，R4為氫原子、-BR4AR4B、鋁、鋅、釩、鐵、銅、鈀、銥、鉑。[化12]通式(1b)中，R31a及R31b分別獨立地表示碳數1～20的烷基、碳數6～20的芳基或碳數3～20的雜芳基。R32表示氰基、碳數1～6的酰基、碳數1～6的烷氧基羰基、碳數1～10的烷基亞磺酰基或芳基亞磺酰基、或者碳數3～10的含氮雜芳基。R6及R7分別獨立地表示氫原子、碳數1～10的烷基、碳數6～10的芳基或碳數4～10的雜芳基。R6與R7也可相互鍵結而形成縮合環，所形成的環優選為碳數5～10的脂環、碳數6～10的芳基環或碳數3～10的雜芳基環。R8及R9分別獨立地表示碳數1～10的烷基、碳數1～10的烷氧基、碳數6～20的芳基或碳數3～10的雜芳基。X表示氧原子、硫原子、-NR-、-CRR'-，R及R'表示氫原子、碳數1～10的烷基或碳數6～10的芳基。通式(1b)中，R31a及R31b與通式(1)中的R1a及R1b中說明的例子為相同含意，優選范圍也相同。R31a及R31b優選為相同。R32與通式(1)中的R2的例子為相同含意，優選范圍也相同。R6及R7與通式(1)中的R2及R3的取代基的例子為相同含意，優選范圍也相同。另外，R6及R7也可鍵結而形成環，所形成的環為碳數5～10的脂環、碳數6～10的芳基環、碳數3～10的雜芳基環，優選例可列舉苯環或萘環、吡啶環等。通過導入經R6及R7取代的五員含氮雜芳基而進一步制成硼絡合物，可實現兼具高的堅牢性與高的不可見性的紅外線吸收色素。R8及R9與通式(1)中的R2及R3的取代基的例子為相同含意，優選范圍也相同。X表示氧原子、硫原子、-NR-、-CRR'-。R及R'分別獨立地表示氫原子、碳數1～10的烷基或碳數6～10的芳基，優選為氫原子、碳數1～6的烷基、苯基。通式(1b)的優選組合為以下情形：R31a及R31b分別獨立地為碳數1～10的烷基、苯環或吡啶環，R32為氰基或烷氧基羰基，R6及R7鍵結而形成苯環或吡啶環、吡嗪環、嘧啶環，R8及R9分別獨立地為碳原子1～6的烷基、苯基、萘基，X為氧原子、硫原子、-NR-、-CRR'-，R及R'分別獨立地為氫原子、碳數1～6的烷基、苯基。尤其優選的組合為以下情形：R31a及R31b均為碳數1～10的烷基或苯環，R32為氰基，R6及R7鍵結而形成苯環或吡啶環，R8及R9分別獨立地為碳原子1～6的烷基、苯基、萘基，X為氧、硫。[化13]通式(1c)中，R41a及R41b表示互不相同的基團，表示碳數1～20的烷基、碳數6～20的芳基或碳數3～20的雜芳基。R42表示氰基、碳數1～6的酰基、碳數1～6的烷氧基羰基、碳數1～10的烷基亞磺酰基或芳基亞磺酰基、或者碳數3～10的含氮雜芳基。Z2表示與-C＝N-一起形成含氮雜五元環或含氮雜六元環的原子團，含氮雜芳基表示吡唑環、噻唑環、噁唑環、咪唑環、噁二唑環、噻二唑環、三唑環、吡啶環、噠嗪環、嘧啶環、吡嗪環、這些環的苯并縮環或萘并縮環、或者這些縮環的復合體。R44表示氫原子、碳數1～20的烷基、碳數6～20的芳基、碳數4～20的雜芳基、金屬原子、或作為取代基的鹵素原子、碳數1～10的烷基、碳數6～20的芳基、-BR44AR44B、或金屬原子，R44也可與Z2所形成的含氮雜芳基具有共價鍵或配位鍵，R44A及R44B分別獨立地表示氫原子、鹵素原子、碳數1～10的烷基、碳數6～20的芳基或碳數4～20的雜芳基。通式(1c)中，R41a及R41b炭、與通式(1)中的R1a及R1b中說明的例子為相同含意，優選范圍也相同。其中，R41a及R41b表示互不相同的基團。R42與通式(1)中的R2的例子為相同含意，優選范圍也相同。Z2表示與-C＝N-一起形成含氮雜五元環或含氮雜六元環的原子團，含氮雜芳基表示吡唑環、噻唑環、噁唑環、咪唑環、噁二唑環、噻二唑環、三唑環、吡啶環、噠嗪環、嘧啶環、吡嗪環、這些環的苯并縮環或萘并縮環、或者這些縮環的復合體。R44表示氫原子、碳數1～20的烷基、碳數6～20的芳基、碳數4～20的雜芳基、金屬原子、或作為取代基的鹵素原子、碳數1～10的烷基、碳數6～20的芳基、-BR44AR44B、或金屬原子，R44也可與Z2所形成的含氮雜芳基具有共價鍵或配位鍵，R44A及R44B分別獨立地表示氫原子、鹵素原子、碳數1～10的烷基、碳數6～20的芳基或碳數4～20的雜芳基。通過導入互不相同的R41a及R41b所表示的基團、且導入Z2與-C＝N-一起形成的含氮雜五元環或含氮雜六元環，可賦予高的堅牢性、高的不可見性、優異的分散性及高的有機溶媒溶解性。通式(1c)的優選組合為以下情形：R41a及R41b分別獨立地為碳數1～10的烷基、苯環或吡啶環，R42為氰基、碳數1～10的烷基亞磺酰基或芳基亞磺酰基、或者烷氧基羰基，Z2與-C＝N-一起形成噻唑環、噁唑環、咪唑環、噻二唑環、三唑環、吡啶環、嘧啶環、吡嗪環、或這些環的苯并縮環或萘并縮環，R44為氫原子、取代硼、過渡金屬原子、鎂、鋁、鈣、鋇、鋅或錫。尤其優選的組合為以下情形：R41a及R41b分別獨立地為碳數1～10的烷基或苯環，R42為氰基，Z2與-C＝N-一起形成噻唑環、噁唑環、咪唑環、三唑環、吡啶環、嘧啶環、或這些環的苯并縮環或萘并縮環，R44為氫原子、-BR44AR44B(R44AR44B為碳數1～10的烷基、苯環、吡啶環或噻吩環)、鋁、鋅、釩、鐵、銅、鈀、銥或鉑。式(1)所表示的色素更優選為下述式(1A)所表示的色素。[化14]式中，R10分別獨立地表示氫原子、烷基、芳基、雜芳基、-BR14AR14B或金屬原子。R10也可與R12形成共價鍵或配位鍵。R11及R12分別獨立地表示氫原子或取代基，至少一個為氰基，R11及R12也可鍵結而形成環。R13分別獨立地表示氫原子或碳數3～30的分支烷基。R10與所述式(1)中說明的R4為相同含意，優選范圍也相同。優選為氫原子或-BR14AR14B所表示的基團(尤其是二苯基硼)，尤其優選為-BR14AR14B所表示的基團。R11及R12與所述(1)中說明的R2及R3為相同含意，優選范圍也相同。更優選為R11及R12的任一個為氰基，另一個為雜芳基。R14A及R14B與所述(1)中說明的R4A及R4B為相同含意，優選范圍也相同。R13分別獨立地表示氫原子或碳數3～30的分支烷基。分支烷基的碳數更優選為3～20。式(1)所表示的化合物的具體例可列舉下述化合物。另外，例如可參照日本專利特開2011-68731號公報的段落0037～段落0052(對應的美國專利申請公開第2011/0070407號說明書的[0070])，將其內容并入至本申請說明書中。以下的結構式中，Me表示甲基，Ph表示苯基。[化15]＜＜其他色素＞＞本發明的組合物也可還含有所述式(1)所表示的色素以外的色素(以下也稱為其他色素)。其他色素可列舉：在波長400nm～700nm的范圍內具有最大吸收波長的化合物(以下稱為“著色劑”)等。著色劑可為顏料，也可為染料。優選為顏料。顏料可列舉現有公知的各種無機顏料或有機顏料，優選為有機顏料。就可提高式(1)所表示的色素的分散性、進而可將組合物的觸變性抑制得低的理由而言，有機顏料優選為選自紅色顏料及藍色顏料中的至少一種。有機顏料可列舉以下有機顏料。然而，本發明不限定于這些有機顏料。顏色索引(ColorIndex，C.I.)顏料黃1、C.I.顏料黃2、C.I.顏料黃3、C.I.顏料黃4、C.I.顏料黃5、C.I.顏料黃6、C.I.顏料黃10、C.I.顏料黃11、C.I.顏料黃12、C.I.顏料黃13、C.I.顏料黃14、C.I.顏料黃15、C.I.顏料黃16、C.I.顏料黃17、C.I.顏料黃18、C.I.顏料黃20、C.I.顏料黃24、C.I.顏料黃31、C.I.顏料黃32、C.I.顏料黃34、C.I.顏料黃35、C.I.顏料黃35：1、C.I.顏料黃36、C.I.顏料黃36：1、C.I.顏料黃37、C.I.顏料黃37：1、C.I.顏料黃40、C.I.顏料黃42、C.I.顏料黃43、C.I.顏料黃53、C.I.顏料黃55、C.I.顏料黃60、C.I.顏料黃61、C.I.顏料黃62、C.I.顏料黃63、C.I.顏料黃65、C.I.顏料黃73、C.I.顏料黃74、C.I.顏料黃77、C.I.顏料黃81、C.I.顏料黃83、C.I.顏料黃86、C.I.顏料黃93、C.I.顏料黃94、C.I.顏料黃95、C.I.顏料黃97、C.I.顏料黃98、C.I.顏料黃100、C.I.顏料黃101、C.I.顏料黃104、C.I.顏料黃106、C.I.顏料黃108、C.I.顏料黃109、C.I.顏料黃110、C.I.顏料黃113、C.I.顏料黃114、C.I.顏料黃115、C.I.顏料黃116、C.I.顏料黃117、C.I.顏料黃118、C.I.顏料黃119、C.I.顏料黃120、C.I.顏料黃123、C.I.顏料黃125、C.I.顏料黃126、C.I.顏料黃127、C.I.顏料黃128、C.I.顏料黃129、C.I.顏料黃137、C.I.顏料黃138、C.I.顏料黃139、C.I.顏料黃147、C.I.顏料黃148、C.I.顏料黃150、C.I.顏料黃151、C.I.顏料黃152、C.I.顏料黃153、C.I.顏料黃154、C.I.顏料黃155、C.I.顏料黃156、C.I.顏料黃161、C.I.顏料黃162、C.I.顏料黃164、C.I.顏料黃166、C.I.顏料黃167、C.I.顏料黃168、C.I.顏料黃169、C.I.顏料黃170、C.I.顏料黃171、C.I.顏料黃172、C.I.顏料黃173、C.I.顏料黃174、C.I.顏料黃175、C.I.顏料黃176、C.I.顏料黃177、C.I.顏料黃179、C.I.顏料黃180、C.I.顏料黃181、C.I.顏料黃182、C.I.顏料黃185、C.I.顏料黃187、C.I.顏料黃188、C.I.顏料黃193、C.I.顏料黃194、C.I.顏料黃199、C.I.顏料黃213、C.I.顏料黃214等，C.I.顏料橙2、C.I.顏料橙5、C.I.顏料橙13、C.I.顏料橙16、C.I.顏料橙17：1、C.I.顏料橙31、C.I.顏料橙34、C.I.顏料橙36、C.I.顏料橙38、C.I.顏料橙43、C.I.顏料橙46、C.I.顏料橙48、C.I.顏料橙49、C.I.顏料橙51、C.I.顏料橙52、C.I.顏料橙55、C.I.顏料橙59、C.I.顏料橙60、C.I.顏料橙61、C.I.顏料橙62、C.I.顏料橙64、C.I.顏料橙71、C.I.顏料橙73等，C.I.顏料紅1、C.I.顏料紅2、C.I.顏料紅3、C.I.顏料紅4、C.I.顏料紅5、C.I.顏料紅6、C.I.顏料紅7、C.I.顏料紅9、C.I.顏料紅10、C.I.顏料紅14、C.I.顏料紅17、C.I.顏料紅22、C.I.顏料紅23、C.I.顏料紅31、C.I.顏料紅38、C.I.顏料紅41、C.I.顏料紅48：1、C.I.顏料紅48：2、C.I.顏料紅48：3、C.I.顏料紅48：4、C.I.顏料紅49、C.I.顏料紅49：1、C.I.顏料紅49：2、C.I.顏料紅52：1、C.I.顏料紅52：2、C.I.顏料紅53：1、C.I.顏料紅57：1、C.I.顏料紅60：1、C.I.顏料紅63：1、C.I.顏料紅66、C.I.顏料紅67、C.I.顏料紅81：1、C.I.顏料紅81：2、C.I.顏料紅81：3、C.I.顏料紅83、C.I.顏料紅88、C.I.顏料紅90、C.I.顏料紅105、C.I.顏料紅112、C.I.顏料紅119、C.I.顏料紅122、C.I.顏料紅123、C.I.顏料紅144、C.I.顏料紅146、C.I.顏料紅149、C.I.顏料紅150、C.I.顏料紅155、C.I.顏料紅166、C.I.顏料紅168、C.I.顏料紅169、C.I.顏料紅170、C.I.顏料紅171、C.I.顏料紅172、C.I.顏料紅175、C.I.顏料紅176、C.I.顏料紅177、C.I.顏料紅178、C.I.顏料紅179、C.I.顏料紅184、C.I.顏料紅185、C.I.顏料紅187、C.I.顏料紅188、C.I.顏料紅190、C.I.顏料紅200、C.I.顏料紅202、C.I.顏料紅206、C.I.顏料紅207、C.I.顏料紅208、C.I.顏料紅209、C.I.顏料紅210、C.I.顏料紅216、C.I.顏料紅220、C.I.顏料紅224、C.I.顏料紅226、C.I.顏料紅242、C.I.顏料紅246、C.I.顏料紅254、C.I.顏料紅255、C.I.顏料紅264、C.I.顏料紅270、C.I.顏料紅272、C.I.顏料紅279C.I.顏料綠7、C.I.顏料綠10、C.I.顏料綠36、C.I.顏料綠37、C.I.顏料綠58、C.I.顏料綠59C.I.顏料紫1、C.I.顏料紫19、C.I.顏料紫23、C.I.顏料紫27、C.I.顏料紫32、C.I.顏料紫37、C.I.顏料紫42C.I.顏料藍1、C.I.顏料藍2、C.I.顏料藍15、C.I.顏料藍15：1、C.I.顏料藍15：2、C.I.顏料藍15：3、C.I.顏料藍15：4、C.I.顏料藍15：6、C.I.顏料藍16、C.I.顏料藍22、C.I.顏料藍60、C.I.顏料藍64、C.I.顏料藍66、C.I.顏料藍79、C.I.顏料藍80無機顏料可列舉金屬氧化物、金屬絡合鹽等所示的金屬化合物，具體可列舉：鐵、鈷、鋁、鎘、鉛、銅、鈦、鎂、鉻、鋅、銻等的金屬氧化物及所述金屬的復合氧化物。染料例如可使用：日本專利特開昭64-90403號公報、日本專利特開昭64-91102號公報、日本專利特開平1-94301號公報、日本專利特開平6-11614號公報、日本專利登記2592207號、美國專利4808501號說明書、美國專利5667920號說明書、美國專利505950號說明書、美國專利5667920號說明書、日本專利特開平5-333207號公報、日本專利特開平6-35183號公報、日本專利特開平6-51115號公報、日本專利特開平6-194828號公報等中揭示的色素。若以化學結構來區分，則可使用吡唑偶氮化合物、吡咯亞甲基化合物、苯胺基偶氮化合物、三苯基甲烷化合物、蒽醌化合物、亞芐基化合物、氧雜菁化合物、吡唑并三唑偶氮化合物、吡啶酮偶氮化合物、花青化合物、吩噻嗪化合物、吡咯并吡唑甲亞胺化合物等。另外，染料也可使用色素多聚物。色素多聚物可列舉日本專利特開號公報、日本專利特開號公報中記載的化合物。＜＜色素衍生物＞＞本發明的組合物優選為還含有色素衍生物。通過含有色素衍生物，可提高含式(1)所表示的色素的粒子的分散性，更有效地抑制粒子的凝聚。色素衍生物優選為顏料衍生物。色素衍生物優選為具有色素的一部分經酸性基、堿性基或鄰苯二甲酰亞胺甲基取代的結構的色素衍生物，更優選為下式(2)所表示的色素衍生物。下式(2)所表示的色素衍生物由于色素結構P容易吸附于色素粒子的表面，故可提高組合物中的色素粒子的分散性。另外，在組合物含有樹脂的情形時，色素衍生物的末端部X因與樹脂的吸附部(極性基等)的相互作用而吸附于樹脂，故可進一步提高色素粒子的分散性。[化16]式(2)中，P表示色素結構，L表示單鍵或連結基，X表示酸性基、堿性基、具有鹽結構的基團或鄰苯二甲酰亞胺基，m表示1以上的整數，n表示1以上的整數，在m為2以上的情形時，多個L及X也可互不相同，在n為2以上的情形時，多個X也可互不相同。式(2)中，P表示色素結構，優選為選自由吡咯并吡咯色素結構、二酮基吡咯并吡咯色素結構、喹吖啶酮色素結構、蒽醌色素結構、二蒽醌色素結構、苯并異吲哚色素結構、噻嗪靛藍色素結構、偶氮色素結構、喹酞酮色素結構、酞菁色素結構、二噁嗪色素結構、苝色素結構、紫環酮色素結構及苯并咪唑啉酮色素結構中的至少一種，更優選為選自吡咯并吡咯色素結構、二酮基吡咯并吡咯色素結構、喹吖啶酮色素結構及苯并咪唑啉酮色素結構中的至少一種，尤其優選為吡咯并吡咯色素結構。色素衍生物具有這些色素結構，由此可進一步提高式(1)所表示的色素的分散性。式(2)中，L表示單鍵或連結基。連結基優選為由1個～100個碳原子、0個～10個氮原子、0個～50個氧原子、1個～200個氫原子及0個～20個硫原子所形成的基團，可未經取代也可還具有取代基。取代基可列舉所述式(1)中說明的取代基T，優選為烷基、芳基、羥基或鹵素原子。連結基優選為亞烷基、亞芳基、含氮雜環基、-NR'-、-SO2-、-S-、-O-、-CO-或包含這些基團的組合的基團，更優選為亞烷基、含氮雜環基、-NR'-、-SO2-或包含這些基團的組合的基團。R'表示氫原子、烷基(優選為碳數1～30)或芳基(優選為碳數6～30)。亞烷基的碳數優選為1～30，更優選為1～15，進而優選為1～10。亞烷基也可具有取代基。亞烷基可為直鏈、分支、環狀的任一種。另外，環狀的亞烷基可為單環、多環的任一種。亞芳基的碳數優選為6～18，更優選為6～14，進而優選為6～10，尤其優選為亞苯基。含氮雜環基優選為五元環或六元環。另外，含氮雜環基優選為單環或縮合環，優選為單環或縮合數為2～8的縮合環，更優選為單環或縮合數為2～4的縮合環。含氮雜環基所含的氮原子的個數優選為1～3，更優選為1～2。含氮雜環基也可含有氮原子以外的雜原子。氮原子以外的雜原子例如可例示氧原子、硫原子。氮原子以外的雜原子的個數優選為0～3，更優選為0～1。含氮雜環基可列舉：哌嗪環基、吡咯烷環基、吡咯環基、哌啶環基、吡啶環基、咪唑環基、吡唑環基、噁唑環基、噻唑環基、吡嗪環基、嗎啉環基、噻嗪環基、吲哚環基、異吲哚環基、苯并咪唑環基、嘌呤環基、喹啉環基、異喹啉環基、喹喔啉環基、噌啉環基、咔唑環基及下式(L-1)～下式(L-7)所表示的基團。[化17]式中的*表示與P、L或X的連結鍵。R表示氫原子或取代基。取代基可列舉所述式(1)中說明的取代基T。連結基的具體例可列舉：亞烷基、亞芳基、-SO2-、所述(L-1)所表示的基團、所述(L-5)所表示的基團、包含-O-與亞烷基的組合的基團、包含-NR'-與亞烷基的組合的基團、包含-NR'-與-CO-的組合的基團(-NR'-CO-、-NR'-CO-NR'-等)、包含-NR'-與-CO-與亞烷基的組合的基團、包含-NR'-與-CO-與亞烷基與亞芳基的組合的基團、包含-NR'-與-CO-與亞芳基的組合的基團、包含-NR'-與-SO2-與亞烷基的組合的基團、包含-NR'-與-SO2-與亞烷基與亞芳基的組合的基團、包含所述(L-1)所表示的基團與亞烷基的組合的基團、包含所述(L-1)所表示的基團與亞芳基的組合的基團、包含所述(L-1)所表示的基團與-SO2-與亞烷基的組合的基團、包含所述(L-1)所表示的基團與-S-與亞烷基的組合的基團、包含所述(L-1)所表示的基團與-O-與亞芳基的組合的基團、包含所述(L-1)所表示的基團與-NR'-與-CO-與亞芳基的組合的基團、包含所述(L-3)所表示的基團與亞芳基的組合的基團等。式(2)中，X表示酸性基、堿性基、具有鹽結構的基團或鄰苯二甲酰亞胺基。酸性基可列舉羧基、磺基等。堿性基可列舉后述式(X-3)～式(X-9)所表示的基團。具有鹽結構的基團可列舉所述酸性基的鹽、堿性基的鹽。構成鹽的原子或原子團可列舉金屬原子、四丁基銨等。金屬原子更優選為堿金屬原子或堿土金屬原子。堿金屬原子可列舉鋰、鈉、鉀等。堿土金屬原子可列舉鈣、鎂等。鄰苯二甲酰亞胺基可未經取代，也可具有取代基。取代基可列舉所述酸性基、堿性基、具有鹽結構的基團等。另外，也可為所述式(1)中說明的取代基T。取代基T也可進一步經其他取代基所取代。其他取代基可列舉羧基、磺基等。X優選為選自羧基、磺基、鄰苯二甲酰亞胺基及下述式(X-1)～式(X-9)所表示的基團中的至少一種。[化18]式(X-1)～式(X-9)中，*表示與式(2)的L的連結鍵，R100～R106分別獨立地表示氫原子、烷基、烯基或芳基，R100與R101也可相互連結而形成環，M表示與陰離子構成鹽的原子或原子團。烷基可為直鏈狀、分支狀或環狀的任一種。直鏈狀烷基的碳數優選為1～20，更優選為1～12，進而優選為1～8。分支狀烷基的碳數優選為3～20，更優選為3～12，進而優選為3～8。環狀烷基可為單環、多環的任一種。環狀烷基的碳數優選為3～20，更優選為4～10，進而優選為6～10。烯基的碳數優選為2～10，更優選為2～8，進而優選為2～4。芳基的碳數優選為6～18，更優選為6～14，進而優選為6～10。R100與R101也可相互連結而形成環。環可為脂環，也可為芳香族環。環可為單環，也可為復環。關于R100與R101鍵結而形成環的情形的連結基，可經選自由-CO-、-O-、-NH-、二價脂肪族基、二價芳香族基及這些基團的組合所組成的組群中的二價連結基而連結。具體例例如可列舉：哌嗪環、吡咯烷環、吡咯環、哌啶環、吡啶環、咪唑環、吡唑環、噁唑環、噻唑環、吡嗪環、嗎啉環、噻嗪環、吲哚環、異吲哚環、苯并咪唑環、嘌呤環、喹啉環、異喹啉環、喹喔啉環、噌啉環、咔唑環等。M表示與陰離子構成鹽的原子或原子團。這些原子或原子團可列舉上文所述的原子或原子團，優選范圍也相同。通式(2)中，m表示1以上的整數。m的上限表示色素結構P可取的取代基的個數。例如優選為10以下，更優選為5以下。在m為2以上的情形時，多個L及X也可互不相同。n表示1以上的整數，優選為1～3，更優選為1～2。在n為2以上的情形時，多個X也可互不相同。本發明中，色素衍生物優選為下述式(3)所表示的化合物。下述式(3)所表示的化合物為式(2)中的P是由吡咯并吡咯色素結構所表示的化合物。[化19]式(3)中，R21a及R21b分別獨立地表示烷基、芳基或雜芳基，R22及R23分別獨立地表示氰基、酰基、烷氧基羰基、烷基、芳基亞磺酰基或雜芳基，R22及R23也可鍵結而形成環，R24表示氫原子、烷基、芳基、雜芳基、-BR24AR24B或金屬原子，R24也可與選自R21a、R21b及R23中的至少一個形成共價鍵或配位鍵，R24A及R24B分別獨立地表示氫原子、鹵素原子、烷基、芳基或雜芳基，L1表示單鍵或亞烷基、含氮雜環基、-NR'-、-CO-、-SO2-或包含這些基團的組合的連結基，R'表示氫原子、烷基或芳基，X1表示酸性基、堿性基、具有鹽結構的基團或鄰苯二甲酰亞胺基，m表示1以上的整數，n表示1以上的整數，在m為2以上的情形時，多個L1及X1也可互不相同，在n為2以上的情形時，多個X1也可互不相同。式(3)中的R21a及R21b與通式(1)中的R1a及R1b為相同含意。優選為具有含有分支烷基的烷氧基的芳基或具有羥基的芳基。分支烷基的碳數優選為3～30，更優選為3～20。式(3)中的R22及R23分別獨立地表示氰基、酰基、烷氧基羰基、烷基、芳基亞磺酰基或雜芳基。優選為R22及R23的任一個表示氰基，另一個表示雜芳基。雜芳基優選為五元環或六元環。另外，雜芳基優選為單環或縮合環，優選為單環或縮合數為2～8的縮合環，更優選為單環或縮合數為2～4的縮合環。雜芳基所含的雜原子的個數優選為1～3，更優選為1～2。雜原子例如可例示氮原子、氧原子、硫原子。雜芳基優選為喹啉基、苯并噻唑基或萘并噻唑基，尤其優選為苯并噻唑基。式(3)中的R24表示氫原子、烷基、芳基、雜芳基、-BR24AR24B或金屬原子，優選為氫原子或-BR24AR24B。R24A及R24B分別獨立地表示氫原子、鹵素原子、烷基、芳基或雜芳基，優選為烷基、芳基或雜芳基，優選為芳基。關于烷基、芳基、雜芳基，與式(1)的R1a、R1b中說明的基團為相同含意，優選范圍也相同。與所說明的范圍為相同含意，優選范圍也相同。-BR4AR4B所表示的基團的具體例可列舉：二氟硼、二苯基硼、二丁基硼、二萘基硼、鄰苯二酚硼。其中，尤其優選為二苯基硼。R24也可與R21a、R22b及R23的至少一種形成共價鍵或配位鍵，尤其優選為R24與R23形成配位鍵。式(3)中的L1表示單鍵或亞烷基、含氮雜環基、-NR'-、-CO-、-SO2-或包含這些基團的組合的連結基。R'表示氫原子、烷基或芳基。R'所表示的烷基、芳基與式(2)的R'中說明的基團為相同含意，優選范圍也相同。L1所表示的連結基與式(2)的L中說明的基團為相同含意，優選范圍也相同。其中，更優選為亞烷基、-SO2-、包含-NR'-與-SO2-與亞烷基的組合的基團、或包含所述(L-1)所表示的基團與亞烷基的組合的基團。式(3)中的X1表示酸性基、堿性基、具有鹽結構的基團或鄰苯二甲酰亞胺基。鄰苯二甲酰亞胺基可未經取代，也可具有取代基。這些基團與式(2)的X中說明的基團為相同含意，優選范圍也相同。其中，更優選為羧基、磺基、鄰苯二甲酰亞胺基、(X-3)所表示的基團或(X-9)所表示的基團。式(3)中的m表示1以上的整數。上限例如優選為10以下，更優選為5以下。式(3)中的n表示1以上的整數。n優選為1～3，更優選為1～2。色素衍生物更優選為下述式(3A)所表示的化合物。[化20]式(3A)中，R31分別獨立地表示氫原子或分支烷基，R32分別獨立地表示雜芳基，R34表示氫原子或-BR34AR34B，R34也可與R32形成共價鍵或配位鍵，R34A及R34B分別獨立地表示氫原子或芳基，L1表示單鍵或亞烷基、含氮雜環基、-NR'-、-CO-、-SO2-或包含這些基團的組合的連結基，R'表示氫原子、烷基或芳基，X1表示酸性基、堿性基、具有鹽結構的基團或鄰苯二甲酰亞胺基，m表示1以上的整數，n表示1以上的整數，在m為2以上的情形時，多個L1及X1也可互不相同，在n為2以上的情形時，多個X1也可互不相同。通式(3A)中，R31所表示的分支烷基與通式(3)的R21中說明的基團為相同含意，優選范圍也相同。通式(3A)中，R32所表示的雜芳基與通式(3)的R22、R23中說明的基團為相同含意，優選范圍也相同。通式(3A)中，R34所表示的-BR24AR24B與通式(3)的R24中說明的基團為相同含意，優選范圍也相同。通式(3A)中，L1、X1、m及n與通式(3)中說明的基團為相同含意，優選范圍也相同。式(2)所表示的色素衍生物的具體例可列舉以下的(B-1)～(B-62)。以下的具體例中，(B-1)～(B-21)、(B-61)、(B-62)為式(3)所表示的色素衍生物。再者，以下的式中，m、m1、m2及m3分別獨立地表示1以上的整數。[化21][化22][化23][化24][化25][化26]本發明中，色素衍生物可任意優選地使用日本專利特開昭56-118462號公報、日本專利特開昭63-264674號公報、日本專利特開平1-217077號公報、日本專利特開平3-9961號公報、日本專利特開平3-26767號公報、日本專利特開平3-153780號公報、日本專利特開平3-45662號公報、日本專利特開平4-285669號公報、日本專利特開平6-145546號公報、日本專利特開平6-212088號公報、日本專利特開平6-240158號公報、日本專利特開平10-30063號公報、日本專利特開平10-195326號公報、國際公開WO2011/024896號手冊的段落編號0086～段落編號0098、國際公開WO2012/102399號手冊的段落編號0063～段落編號0094等中記載的化合物，將其內容并入至本申請說明書中。本發明的組合物優選為相對于式(1)所表示的色素100質量份而含有1質量份～30質量份的色素衍生物。下限值優選為3質量份以上，更優選為5質量份以上。上限值優選為20質量份以下，更優選為15質量份以下。本發明的組合物尤其優選為相對于式(1)所表示的色素100質量份而含有1質量份～30質量份的式(2)所表示的色素衍生物。若色素衍生物的含量為所述范圍，則可提高含式(1)所表示的色素的粒子的分散性，更有效地抑制粒子的凝聚。色素衍生物可僅為一種，也可為兩種以上，在為兩種以上的情形時，優選為合計量成為所述范圍。＜＜有機溶劑＞＞本發明的組合物優選為還含有有機溶劑。有機溶劑并無特別限制，只要可使各成分均勻地溶解或分散，則可根據目的而適當選擇。例如可優選地列舉醇類、酮類、酯類、芳香族烴類、鹵化烴類及二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺、二甲基亞砜、環丁砜等。這些有機溶劑可單獨使用一種，也可并用兩種以上。醇類、芳香族烴類、鹵化烴類的具體例可列舉日本專利特開號公報段落0136等中記載的溶劑，將其內容并入至本申請說明書中。酯類、酮類、醚類的具體例可列舉日本專利特開號公報的段落0497(對應的美國專利申請公開第2012/0235099號說明書的[0609])中記載的溶劑。進而可列舉：乙酸正戊酯、丙酸乙酯、鄰苯二甲酸二甲酯、苯甲酸乙酯、硫酸甲酯、丙酮、甲基異丁基酮、二乙醚、乙二醇單丁醚乙酸酯等。有機溶劑優選為選自環戊酮、環己酮、丙二醇單甲醚乙酸酯、N-甲基-2-吡咯烷酮、乙酸丁酯、乙醇、乳酸乙酯及丙二醇單甲醚中的至少一種以上。本發明中，有機溶劑的溶解度參數(SP值)優選為23(cal/cm3)0.5以下，更優選為20(cal/cm3)0.5以下，進而優選為18(cal/cm3)0.5以下，進而更優選為15(cal/cm3)0.5以下。下限值例如優選為1(cal/cm3)0.5以上，更優選為3(cal/cm3)0.5以上，進而優選為5(cal/cm3)0.5以上。關于SP值，已提出了由蒸發線熱或溶解度等所得的測定值或斯莫耳(Small)、費多思(Fedors)或漢森(Hansen)的計算法等非常多的數據，本發明中，使用由廣為人知的霍依(Hoy)法所得的值。Hoy法的文獻可優選地列舉：H.L.霍依(H.L.Hoy)的《涂料技術期刊(J.PaintTech.)》(42(540)，76-118(1970))或《SP值基礎·應用與計算方法》(山本，信息機構，2005)。例如丙二醇單甲醚乙酸酯的SP值為9.2(cal/cm3)1/2，環己酮的SP值為10.0(cal/cm3)1/2。有機溶劑的含量優選為本發明的組合物的總固體成分成為5質量％～60質量％的量，更優選為成為10質量％～40質量％的量。有機溶劑可僅為一種，也可為兩種以上，在為兩種以上的情形時，優選為合計量成為所述范圍。＜＜樹脂＞＞本發明的組合物優選為還含有樹脂。樹脂例如是以使含所述式(1)所表示的色素的粒子分散于組合物中的分散劑的形式調配。作為分散劑而發揮功能的樹脂優選為酸性型的樹脂和/或堿性型的樹脂。此處，所謂酸性型的樹脂，是指酸基的量多于堿性基的量的樹脂。關于酸性型的樹脂，在將樹脂中的酸基的量與堿性基的量的合計量設定為100mol％(摩爾百分比)時，優選為酸基的量占70mol％以上，更優選為實質上僅包含酸基。酸性型的樹脂所具有的酸基優選為羧基。酸性型的樹脂的酸價優選為40mgKOH/g～105mgKOH/g，更優選為50mgKOH/g～105mgKOH/g，進而優選為60mgKOH/g～105mgKOH/g。另外，所謂堿型的樹脂，是指堿性基的量多于酸基的量的樹脂。關于堿型的樹脂，在將樹脂中的酸基的量與堿性基的量的合計量設定為100mol％時，優選為堿性基的量占50mol％以上。堿性型的樹脂所具有的堿性基優選為胺。樹脂可根據其結構而進一步分類為直鏈狀高分子、末端改性型高分子、接枝型高分子、嵌段型高分子。末端改性型高分子例如可列舉：日本專利特開平3-112992號公報、日本專利特表號公報等中記載的在末端具有磷酸基的高分子、日本專利特開號公報等中記載的在末端具有磺酸基的高分子、日本專利特開平9-77994號公報等中記載的具有有機色素的部分骨架或雜環的高分子等。另外，日本專利特開號公報中記載的在高分子末端導入有兩個以上的對顏料表面的固定部位(酸基、堿性基、有機色素的部分骨架或雜環等)的高分子的分散穩定性也優異而優選。接枝型高分子例如可列舉：日本專利特開昭54-37082號公報、日本專利特表平8-507960號公報、日本專利特開公報等中記載的聚(低級亞烷基亞胺)與聚酯的反應產物，日本專利特開平9-169821號公報等中記載的聚烯丙胺與聚酯的反應產物，日本專利特開平10-339949號、日本專利特開2004-37986號公報等中記載的大分子單體與氮原子單體的共聚物，日本專利特開號公報、日本專利特開2008-9426號公報、日本專利特開2008-81732號公報等中記載的具有有機色素的部分骨架或雜環的接枝型高分子，日本專利特開號公報等中記載的大分子單體與含酸基的單體的共聚物等。大分子單體例如可列舉：東亞合成(股)制造的大分子單體AA-6(末端基為甲基丙烯酰基的聚甲基丙烯酸甲酯)、AS-6(末端基為甲基丙烯酰基的聚苯乙烯)、AN-6S(末端基為甲基丙烯酰基的苯乙烯與丙烯腈的共聚物)、AB-6(末端基為甲基丙烯酰基的聚丙烯酸丁酯)、大賽璐(Daicel)化學工業(股)制造的普拉克賽爾(Placcel)FM5(甲基丙烯酸2-羥基乙酯的ε-己內酯5摩爾當量加成品)、FA10L(丙烯酸2-羥基乙酯的ε-己內酯10摩爾當量加成品)、及日本專利特開平2-272009號公報中記載的聚酯系大分子單體等。嵌段型高分子優選為日本專利特開2003-49110號公報、日本專利特開2009-52010號公報等中記載的嵌段型高分子。樹脂還可使用含有下述式(1)～式(4)的任一個所表示的結構單元的接枝共聚物。[化27]X1、X2、X3、X4及X5分別獨立地表示氫原子或一價有機基。優選為氫原子或碳數1～12的烷基，更優選為氫原子或甲基，尤其優選為甲基。W1、W2、W3及W4分別獨立地表示氧原子或NH，優選為氧原子。R3表示分支或直鏈的亞烷基(碳數優選為1～10，更優選為2或3)，就分散穩定性的觀點而言，優選為-CH2-CH(CH3)-所表示的基團或-CH(CH3)-CH2-所表示的基團。Y1、Y2、Y3及Y4分別獨立地表示二價連結基。關于所述接枝共聚物，可參照日本專利特開號公報的段落編號0025～段落編號0069的記載，將所述內容并入至本說明書中。所述接枝共聚物的具體例例如可列舉以下具體例。另外，可使用日本專利特開號公報的段落編號0072～段落編號0094中記載的樹脂。[化28]樹脂還可使用在主鏈及側鏈的至少一者中含有氮原子的寡聚亞胺系樹脂。寡聚亞胺系樹脂優選為具有含有部分結構X的重復單元、及包含原子數40～10,000的側鏈Y的側鏈，且在主鏈及側鏈的至少一者中含有堿性氮原子的樹脂，所述部分結構X具有pKa為14以下的官能基。所謂堿性氮原子，是指只要為呈堿性的氮原子，則并無特別限制。寡聚亞胺系樹脂例如可列舉：含有下述式(I-1)所表示的重復單元、式(I-2)所表示的重復單元和/或式(I-2a)所表示的重復單元的樹脂等。[化29]R1及R2分別獨立地表示氫原子、鹵素原子或烷基(優選為碳數1～6)。a分別獨立地表示1～5的整數。*表示重復單元間的連結部。R8及R9為與R1為相同含意的基團。L為單鍵、亞烷基(優選為碳數1～6)、亞烯基(優選為碳數2～6)、亞芳基(優選為碳數6～24)、亞雜芳基(優選為碳數1～6)、亞氨基(優選為碳數0～6)、醚基、硫醚基、羰基或這些基團的組合的連結基。其中，優選為單鍵或-CR5R6-NR7-(亞氨基成為X或Y的一側)。此處，R5R6分別獨立地表示氫原子、鹵素原子、烷基(優選為碳數1～6)。R7為氫原子或碳數1～6的烷基。La為與CR8CR9及N一起形成環結構的結構部位，優選為與CR8CR9的碳原子一起形成碳數3～7的非芳香族雜環的結構部位。進而優選為與CR8CR9的碳原子及N(氮原子)一起形成五員～七員的非芳香族雜環的結構部位，更優選為形成五員的非芳香族雜環的結構部位，尤其優選為形成吡咯烷的結構部位。所述結構部位也可還具有烷基等取代基。X表示具有pKa為14以下的官能基的基團。Y表示原子數為40～10,000的側鏈。所述樹脂(寡聚亞胺系樹脂)也可還含有選自式(I-3)、式(I-4)及式(I-5)所表示的重復單元中的一種以上作為共聚合成分。所述樹脂含有此種重復單元，由此可進一步提高顏料的分散性能。[化30]R1、R2、R8、R9、L、La、a及*與式(I-1)、式(I-2)、式(I-2a)中的規定為相同含意。Ya表示具有陰離子基的原子數40～10,000的側鏈。式(I-3)所表示的重復單元可通過以下方式而形成：在主鏈部中具有一級氨基或二級氨基的樹脂中，添加具有與胺反應而形成鹽的基團的寡聚物或聚合物進行反應。關于所述寡聚亞胺系樹脂，可參照日本專利特開號公報的段落編號0102～段落編號0166的記載，將所述內容并入至本說明書中。寡聚亞胺系樹脂的具體例例如可列舉以下例子。另外，可使用日本專利特開號公報的段落編號0168～段落編號0174中記載的樹脂。[化31]樹脂還可使用含有下式(P1)所表示的結構單元的樹脂。通過使用以下樹脂，可進一步提高式(1)所表示的色素的分散性。[化32]通式(P1)中，R1表示氫或甲基，R2表示亞烷基，Z表示含氮雜環結構。R2所表示的亞烷基并無特別限定，例如可優選地列舉：亞甲基、亞乙基、三亞甲基、四亞甲基、六亞甲基、2-羥基亞丙基、亞甲氧基、亞乙氧基、亞甲氧基羰基、亞甲硫基等，更優選為亞甲基、亞甲氧基、亞甲氧基羰基、亞甲硫基。Z所表示的含氮雜環結構例如可列舉具有以下結構的含氮雜環：吡啶環、吡嗪環、嘧啶環、吡咯環、咪唑環、三唑環、四唑環、吲哚環、喹啉環、吖啶環、吩噻嗪環、吩噁嗪環、吖啶酮環、蒽醌環、苯并咪唑結構、苯并三唑結構、苯并噻唑結構、環狀酰胺結構、環狀脲結構及環狀酰亞胺結構。這些結構中，Z所表示的含氮雜環結構優選為下述通式(P2)或通式(P3)所表示的結構。[化33]通式(2)中，X為選自由單鍵、亞烷基(例如亞甲基、亞乙基、亞丙基、三亞甲基、四亞甲基等)、-O-、-S-、-NR-及-C(＝O)-所組成的組群中的任一個。再者，此處R表示氫原子或烷基，R表示烷基的情形的烷基例如可列舉：甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、叔丁基、正己基、正辛基、2-乙基己基、正十八烷基等。這些基團中，X優選為單鍵、亞甲基、-O-、-C(＝O)-，尤其優選為-C(＝O)-。通式(2)及通式(3)中，環A、環B及環C分別獨立地表示芳香環。芳香環例如可列舉：苯環、萘環、茚環、薁環、芴環、蒽環、吡啶環、吡嗪環、嘧啶環、吡咯環、咪唑環、吲哚環、喹啉環、吖啶環、吩噻嗪環、吩噁嗪環、吖啶酮環、蒽醌環等，其中，優選為苯環、萘環、蒽環、吡啶環、吩噁嗪環、吖啶環、吩噻嗪環、吩噁嗪環、吖啶酮環、蒽醌環，尤其優選為苯環、萘環、吡啶環。通式(1)所表示的結構單元的具體例例如可列舉以下例子。除此以外，可參照日本專利特開號公報的段落編號0023的記載，將其內容并入至本說明書中。[化34]含有通式(1)所表示的結構單元的樹脂也可還含有上文所述的式(1)～式(4)的任一個所表示的結構單元。另外，也可還含有上文所述的式(I-1)所表示的重復單元、與式(I-2)所表示的重復單元和/或式(I-2a)所表示的重復單元。樹脂還可作為市售品而獲取，此種具體例可列舉：畢克化學(BYKChemie)公司制造的“迪斯帕畢克(Disperbyk)-101(聚酰胺-胺磷酸鹽)，迪斯帕畢克(Disperbyk)-107(羧酸酯)，迪斯帕畢克(Disperbyk)-110、迪斯帕畢克(Disperbyk)-111(含酸基的共聚物)，迪斯帕畢克(Disperbyk)-130(聚酰胺)，迪斯帕畢克(Disperbyk)-161、迪斯帕畢克(Disperbyk)-162、迪斯帕畢克(Disperbyk)-163、迪斯帕畢克(Disperbyk)-164、迪斯帕畢克(Disperbyk)-165、迪斯帕畢克(Disperbyk)-166、迪斯帕畢克(Disperbyk)-170(高分子共聚物)”、“畢克(BYK)-P104、畢克(BYK)-P105(高分子量不飽和多羧酸)，埃夫卡(EFKA)公司制造的“埃夫卡(EFKA)4047、埃夫卡(EFKA)4050～埃夫卡(EFKA)4010～埃夫卡(EFKA)4165(聚氨基甲酸酯系)、埃夫卡(EFKA)4330～埃夫卡(EFKA)4340(嵌段共聚物)、埃夫卡(EFKA)4400～埃夫卡(EFKA)4402(改性聚丙烯酸酯)、埃夫卡(EFKA)5010(聚酯酰胺)、埃夫卡(EFKA)5765(高分子量多羧酸鹽)、埃夫卡(EFKA)6220(脂肪酸聚酯)、埃夫卡(EFKA)6745(酞菁衍生物)、埃夫卡(EFKA)6750(偶氮顏料衍生物)”，“味之素精密技術(AjinomotoFinetechno)”公司制造的“阿吉斯帕(Ajisper)PB821、阿吉斯帕(Ajisper)PB822、阿吉斯帕(Ajisper)PB880、阿吉斯帕(Ajisper)PB881”，共榮社化學公司制造的“弗洛蘭(Flowlen)TG-710(氨基甲酸酯寡聚物)”、“寶理弗洛(Polyflow)No.50E、寶理弗洛(Polyflow)No.300(丙烯酸系共聚物)”，楠本化成公司制造的“迪斯帕隆(Disperon)KS-860、迪斯帕隆(Disperon)873SN、迪斯帕隆(Disperon)874、迪斯帕隆(Disperon)#2150(脂肪族多元羧酸)，迪斯帕隆(Disperon)#7004(聚醚酯)，迪斯帕隆(Disperon)DA-703-50、迪斯帕隆(Disperon)DA-705、迪斯帕隆(Disperon)DA-725”，花王公司制造“德莫耳(Demol)RN、德莫耳(Demol)N(萘磺酸福爾馬林縮聚物)，德莫耳(Demol)MS、德莫耳(Demol)C、德莫耳(Demol)SN-B(芳香族磺酸福爾馬林縮聚物)”、“火莫格諾(Homogenol)L-18(高分子多羧酸)”、“愛慕根(Emulgen)920、愛慕根(Emulgen)930、愛慕根(Emulgen)935、愛慕根(Emulgen)985(聚氧亞乙基壬基苯基醚)”、“阿塞他命(Acetamin)86(硬脂基胺乙酸酯)”，日本路博潤(LubrizolJapan)(股)制造的“索努帕斯(Solsperse)5000(酞菁衍生物)，索努帕斯(Solsperse)22000(偶氮顏料衍生物)，索努帕斯(Solsperse)13240(聚酯胺)，索努帕斯(Solsperse)3000，索努帕斯(Solsperse)17000，索努帕斯(Solsperse)27000(在末端部具有功能部的高分子)，索努帕斯(Solsperse)24000、索努帕斯(Solsperse)28000、索努帕斯(Solsperse)32000、索努帕斯(Solsperse)38500(接枝型高分子)”，日光化學公司制造的“尼克爾(Nikkol)T106(聚氧亞乙基脫水山梨糖醇單油酸酯)、尼克爾(Nikkol)MYS-IEX(聚氧亞乙基單硬脂酸酯)”，川研精化(股)制造的海諾艾特(Hinoact)T-8000E等，信越化學工業(股)制造的有機硅氧烷聚合物KP341，裕商(股)制造的“W001：陽離子系表面活性劑”；聚氧亞乙基月桂基醚、聚氧亞乙基硬脂基醚、聚氧亞乙基油基醚、聚氧亞乙基辛基苯基醚、聚氧亞乙基壬基苯基醚、聚乙二醇二月桂酸酯、聚乙二醇二硬脂酸酯、脫水山梨糖醇脂肪酸酯等非離子系表面活性劑；“W004、W005、W017”等陰離子系表面活性劑；森下產業(股)制造的“埃夫卡(EFKA)-46、埃夫卡(EFKA)-47、埃夫卡(EFKA)-47EA、埃夫卡(EFKA)聚合物100、埃夫卡(EFKA)聚合物400、埃夫卡(EFKA)聚合物401、埃夫卡(EFKA)聚合物450”，圣諾普科(San-nopco)(股)制造的“迪斯帕艾德(Dieperaid)6、迪斯帕艾德(Dieperaid)8、迪斯帕艾德(Dieperaid)15、迪斯帕艾德(Dieperaid)9100”等高分子分散劑；艾迪科(ADEKA)(股)制造的“艾迪科普羅尼克(AdekaPluronic)L31、艾迪科普羅尼克(AdekaPluronic)F38、艾迪科普羅尼克(AdekaPluronic)L42、艾迪科普羅尼克(AdekaPluronic)L44、艾迪科普羅尼克(AdekaPluronic)L61、艾迪科普羅尼克(AdekaPluronic)L64、艾迪科普羅尼克(AdekaPluronic)F68、艾迪科普羅尼克(AdekaPluronic)L72、艾迪科普羅尼克(AdekaPluronic)P95、艾迪科普羅尼克(AdekaPluronic)F77、艾迪科普羅尼克(AdekaPluronic)P84、艾迪科普羅尼克(AdekaPluronic)F87、艾迪科普羅尼克(AdekaPluronic)P94、艾迪科普羅尼克(AdekaPluronic)L101、艾迪科普羅尼克(AdekaPluronic)P103、艾迪科普羅尼克(AdekaPluronic)F108、艾迪科普羅尼克(AdekaPluronic)L121、艾迪科普羅尼克(AdekaPluronic)P-123”，及三洋化成(股)制造“伊奧奈特(Ionet)S-20”等。這些樹脂可單獨使用，也可組合使用兩種以上。另外，樹脂也可使用堿可溶性樹脂。堿可溶性樹脂可自以下堿可溶性樹脂中適當選擇，所述堿可溶性樹脂為線性有機高分子聚合物，且在分子(優選為以丙烯酸系共聚物、苯乙烯系共聚物作為主鏈的分子)中具有至少一個促進堿可溶性的基團。就耐熱性的觀點而言，優選為多羥基苯乙烯系樹脂、聚硅氧烷系樹脂、丙烯酸系樹脂、丙烯酰胺系樹脂、丙烯酸/丙烯酰胺共聚物樹脂，就控制顯影性的觀點而言，優選為丙烯酸系樹脂、丙烯酰胺系樹脂、丙烯酸/丙烯酰胺共聚物樹脂。促進堿可溶性的基團(以下也稱為酸基)例如可列舉：羧基、磷酸基、磺酸基、酚性羥基等，優選為可溶于有機溶劑中且可利用弱堿性水溶液來進行顯影的基團，可列舉(甲基)丙烯酸作為尤其優選的基團。這些酸基可僅為一種，也可為兩種以上。堿可溶性樹脂可參照日本專利特開號公報的段落0558～段落0571(對應的美國專利申請公開第2012/0235099號說明書的[0685]～[0700])以后的記載，將這些內容并入至本申請說明書中。堿可溶性樹脂還優選為含有下述通式(ED)所表示的化合物作為共聚合成分的樹脂。[化35]通式(ED)中，R1及R2分別獨立地表示氫原子或可具有取代基的碳數1～25的烴基。R1及R2所表示的碳數1～25的烴基并無特別限制，例如可列舉：甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、異丁基、叔丁基、叔戊基、硬脂基、月桂基、2-乙基己基等直鏈狀或分支狀的烷基；苯基等芳基；環己基、叔丁基環己基、二環戊二烯基、三環癸基、異冰片基、金剛烷基、2-甲基-2-金剛烷基等脂環式基；1-甲氧基乙基、1-乙氧基乙基等經烷氧基取代的烷基；芐基等經芳基取代的烷基等。這些基團中，尤其就耐熱性的方面而言，優選為甲基、乙基、環己基、芐基等般的不易因酸或熱而脫離的一級或二級烴基。再者，R1及R2可為同種取代基，也可為不同的取代基。通式(ED)所表示的化合物的例子可列舉：2,2'-[氧基雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸二甲酯(dimethyl-2,2'-[oxybis(methylene)]bis-2-propenoate)、2,2'-[氧基雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸二乙酯、2,2'-[氧基雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸二(正丙基)酯、2,2'-[氧基雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸二(正丁基)酯、2,2'-[氧基雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸二(叔丁基)酯、2,2'-[氧基雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸二(異丁基)酯等。這些化合物中，尤其優選為2,2'-[氧基雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸二甲酯。關于通式(ED)所表示的化合物以外的共聚合成分，并無特別限制。例如就容易操作在溶媒中的溶解性等的觀點而言，還優選為含有經賦予有油溶性的(甲基)丙烯酸芳基酯、(甲基)丙烯酸烷基酯、聚亞乙氧基(甲基)丙烯酸酯作為共聚合成分，更優選為(甲基)丙烯酸芳基酯或(甲基)丙烯酸烷基酯。另外，就堿顯影性的觀點而言，優選為含有含酸性基的(甲基)丙烯酸或衣康酸等具有羧基的單體、N-羥基苯基馬來酰亞胺等具有酚性羥基的單體、馬來酸酐或衣康酸酐等具有羧酸酐基的單體作為共聚合成分，更優選為(甲基)丙烯酸。共聚物成分的優選組合例如可列舉：通式(ED)所表示的化合物與甲基丙烯酸芐酯、甲基丙烯酸甲酯和/或甲基丙烯酸的組合。關于含有通式(ED)所表示的化合物作為共聚合成分的樹脂，可參照日本專利特開號公報的段落編號0079～段落編號0099的記載，將其內容并入至本申請說明書中。堿可溶性樹脂的酸價優選為30mgKOH/g～200mgKOH/g。下限優選為50mgKOH/g以上，更優選為70mgKOH/g以上。上限優選為150mgKOH/g以下，更優選為120mgKOH/g以下。堿可溶性樹脂的重量平均分子量(Mw)優選為2,000～50,000。下限優選為5,000以上，更優選為7,000以上。上限優選為30,000以下，更優選為20,000以下。相對于式(1)所表示的色素100質量份，本發明的組合物中的樹脂的含量優選為0.1質量份～100質量份。上限優選為80質量份以下，優選為60質量份以下，更優選為40質量份以下。下限優選為0.5質量份以上，更優選為1質量份以上。若樹脂的含量為所述范圍，則色素粒子的分散性良好。＜組合物的制備＞本發明的組合物可通過將所述各成分混合而制備。在組合物的制備時，可將構成組合物的各成分一并調配，也可將各成分溶解·分散于有機溶劑中后依序調配。另外，調配時的投入順序或作業條件不特別受限制。本發明的組合物的制造方法優選為包括以下步驟：在選自樹脂及有機溶劑中的至少一種的存在下，使式(1)所表示的色素分散的步驟(分散步驟)。分散步驟優選為進而在上文所述的式(2)所表示的色素衍生物的存在下進行。在本發明的組合物含有式(1)所表示的色素及式(1)所表示的色素以外的色素的情形時，可在選自樹脂及有機溶劑中的至少一種的存在下，使式(1)所表示的色素與式(1)所表示的色素以外的色素(其他色素)分散(共分散)而制造。共分散優選為進而在上文所述的式(2)所表示的色素衍生物的存在下進行。另外，可依色素而分別進行分散步驟，將分散有各色素的組合物(分散液)混合而制造。就式(1)所表示的色素的分散穩定性的觀點而言，優選為通過共分散而制造。本發明的組合物優選為利用過濾器進行過濾以去除異物或減少缺陷等。過濾器只要為一直以來用于過濾用途等中的過濾器，則可無特別限定地使用。例如可列舉：聚四氟乙烯(Polytetrafluoroethylene，PTFE)等氟樹脂，尼龍-6、尼龍-6,6等聚酰胺系樹脂，聚乙烯、聚丙烯(PP)等聚烯烴樹脂(包含高密度、超高分子量)等的過濾器。這些原材料中，優選為聚丙烯(包含高密度聚丙烯)及尼龍。過濾器的孔徑合適的是0.1μm～7.0μm左右，優選為0.2μm～2.5μm左右，更優選為0.1μm～1.5μm左右，進而優選為0.3μm～0.7μm。通過設定為所述范圍，可抑制過濾堵塞，并且將組合物所含的雜質或凝聚物等微細的異物可靠地去除。使用過濾器時，也可將不同的過濾器組合。此時，第1過濾器的過濾可僅為一次，也可進行兩次以上。在將不同的過濾器組合而進行兩次以上過濾的情形時，優選為第2次以后的孔徑與第1次的過濾的孔徑相同或較其更大。另外，也可在所述范圍內將不同孔徑的第1過濾器組合。此處的孔徑可參照過濾器廠商的標稱值。市售的過濾器例如可自日本頗爾(Pall)股份有限公司、愛多邦得科東洋(AdvantecToyo)股份有限公司、日本英特格(Entegris)股份有限公司(原日本密科里(Mykrolis)股份有限公司)或北澤微濾器(KITZMicroFilter)股份有限公司等所提供的各種過濾器中選擇。第2過濾器可使用由與所述第1過濾器相同的材料等所形成的過濾器。第2過濾器的孔徑合適的是0.2μm～10.0μm左右，優選為0.2μm～7.0μm左右，更優選為0.3μm～6.0μm左右。通過設定為所述范圍，可保持使組合物所含有的成分粒子殘存的狀態而去除異物。＜硬化性組合物＞本發明的硬化性組合物含有上文所述的組合物及硬化性化合物。本發明的硬化性組合物中，色素的含量可視需要而調節。例如在硬化性組合物的總固體成分中，優選為0.01質量％～50質量％。下限優選為0.1質量％以上，更優選為0.5質量％以上。上限優選為30質量％以下，更優選為15質量％以下。在本發明的硬化性組合物含有兩種以上的色素的情形時，優選為其合計量在所述范圍內。＜＜硬化性化合物＞＞本發明的硬化性組合物含有硬化性化合物。硬化性化合物可為具有聚合性基的化合物(以下有時稱為“聚合性化合物”)，也可為粘合劑等非聚合性化合物。硬化性化合物可為單體、寡聚物、預聚物、聚合物等化學形態的任一種。硬化性化合物例如可參照日本專利特開2014-41318號公報的段落0070～段落0191(對應的國際公開WO2014/017669號手冊的段落0071～段落0192)、日本專利特開2014-32380號公報的段落0045～段落0216等的記載，將其內容并入至本申請說明書中。硬化性化合物優選為聚合性化合物。聚合性化合物例如可列舉具有乙烯性不飽和鍵、環狀醚(環氧、氧雜環丁烷)等聚合性基的化合物。乙烯性不飽和鍵優選為乙烯基、苯乙烯基、(甲基)丙烯酰基、(甲基)烯丙基。聚合性化合物可為具有一個聚合性基的單官能化合物，也可為具有兩個以上的聚合性基的多官能化合物，優選為多官能化合物。通過硬化性組合物含有多官能化合物，可進一步提高耐熱性。硬化性化合物可列舉：單官能(甲基)丙烯酸酯、多官能(甲基)丙烯酸酯(優選為三官能～六官能的(甲基)丙烯酸酯)、多元酸改性丙烯酸系寡聚物、環氧樹脂、多官能的環氧樹脂等。相對于硬化性組合物的總固體成分，硬化性化合物的含量優選為1質量％～90質量％。下限優選為5質量％以上，更優選為10質量％以上，進而優選為20質量％以上。上限優選為80質量％以下，更優選為75質量％以下。另外，在使用含有具有聚合性基的重復單元的聚合物作為硬化性化合物的情形時，相對于硬化性組合物的總固體成分，硬化性化合物的含量優選為10質量％～75質量％。下限優選為20質量％以上。上限優選為65質量％以下，更優選為60質量％以下。硬化性化合物可僅為一種，也可為兩種以上。在為兩種以上的情形時，優選為合計量成為所述范圍。＜＜＜含有乙烯性不飽和鍵的化合物＞＞＞本發明中，可使用含有乙烯性不飽和鍵的化合物作為硬化性化合物。含有乙烯性不飽和鍵的化合物的例子可參照日本專利特開號公報的段落0033～段落0034的記載，將其內容并入至本說明書中。含有乙烯性不飽和鍵的化合物優選為亞乙氧基改性季戊四醇四丙烯酸酯(市售品為NK酯ATM-35E；新中村化學公司制造)、二季戊四醇三丙烯酸酯(市售品為卡亞拉得(KAYARAD)D-330；日本化藥股份有限公司制造)、二季戊四醇四丙烯酸酯(市售品為卡亞拉得(KAYARAD)D-320；日本化藥股份有限公司制造)二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯(市售品為卡亞拉得(KAYARAD)D-310；日本化藥股份有限公司制造)、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯(市售品為卡亞拉得(KAYARAD)DPHA；日本化藥股份有限公司制造、A-DPH-12E；新中村化學工業公司制造)，及這些化合物的(甲基)丙烯酰基介隔乙二醇殘基、丙二醇殘基的結構。另外，還可使用這些化合物的寡聚物類型。另外，可參照日本專利特開號公報的段落0034～段落0038的聚合性化合物的記載，將其內容并入至本說明書中。另外，可列舉日本專利特開號公報的段落0477(對應的美國專利申請公開第2012/0235099號說明書的[0585])中記載的聚合性單體等，將這些內容并入至本申請說明書中。另外，優選為二甘油環氧乙烷(EthyleneOxide，EO)改性(甲基)丙烯酸酯(市售品為M-460；東亞合成制造)。還優選為季戊四醇四丙烯酸酯(新中村化學制造的A-TMMT)、1,6-己二醇二丙烯酸酯(日本化藥公司制造的卡亞拉得(KAYARAD)HDDA)。還可使用這些化合物的寡聚物類型。例如可列舉RP-1040(日本化藥股份有限公司制造)等。含有乙烯性不飽和鍵的化合物也可具有羧基、磺基、磷酸基等酸基。具有酸基及乙烯性不飽和鍵的化合物可列舉脂肪族多羥基化合物與不飽和羧酸的酯等。優選為使非芳香族羧酸酐與脂肪族多羥基化合物的未反應的羥基進行反應而具有酸基的化合物，尤其優選為在所述酯中脂肪族多羥基化合物為季戊四醇和/或二季戊四醇。市售品例如可列舉東亞合成股份有限公司制造的作為多元酸改性丙烯酸系寡聚物的亞羅尼斯(Aronix)系列的M-305、M-510、M-520等。含有酸基及乙烯性不飽和鍵的化合物的酸價優選為0.1mgKOH/g～40mgKOH/g。下限優選為5mgKOH/g以上。上限優選為30mgKOH/g以下。＜＜＜具有環氧基或氧雜環丁基的化合物＞＞＞本發明中，可使用具有環氧基或氧雜環丁基的化合物作為硬化性化合物。具有環氧基或氧雜環丁基的化合物可列舉：在側鏈上具有環氧基的聚合物、在分子內具有兩個以上的環氧基的單體或寡聚物等。例如可列舉：雙酚A型環氧樹脂、雙酚F型環氧樹脂、苯酚酚醛清漆型環氧樹脂、甲酚酚醛清漆型環氧樹脂、脂肪族環氧樹脂等。另外，還可列舉單官能或多官能縮水甘油醚化合物，優選為多官能脂肪族縮水甘油醚化合物。重量平均分子量優選為500～5000000，更優選為1000～500000。這些化合物可使用市售品，也可使用通過在聚合物的側鏈上導入環氧基而也可獲得的化合物。市售品例如可參照日本專利特開號公報段落0191等的記載，將這些內容并入至本申請說明書中。另外，可列舉代那考爾(Denacol)EX-212L、代那考爾(Denacol)EX-214L、代那考爾(Denacol)EX-216L、代那考爾(Denacol)EX-321L、代那考爾(Denacol)EX-850L(以上為長瀨化成(NagaseChemtex)(股)制造)等多官能脂肪族縮水甘油醚化合物。這些化合物為低氯產品，還可同樣地使用并非低氯產品的EX-212、EX-214、EX-216、EX-321、EX-850等。除此以外，還可列舉：艾迪科樹脂(ADEKARESIN)EP-4000S、艾迪科樹脂(ADEKARESIN)EP-4003S、艾迪科樹脂(ADEKARESIN)EP-4010S、艾迪科樹脂(ADEKARESIN)EP-4011S(以上為艾迪科(ADEKA)(股)制造)，NC-2000、NC-3000、NC-7300、XD-1000、EPPN-501、EPPN-502(以上為艾迪科(ADEKA)(股)制造)，JER1031S、賽羅西德(Celloxide)2021P、賽羅西德(Celloxide)2081、賽羅西德(Celloxide)2083、賽羅西德(Celloxide)2085、EHPE3150、艾波利得(EPOLEAD)PB3600、艾波利得(EPOLEAD)PB4700(以上為大賽璐(Daicel)化學工業(股)制造)，賽克羅馬(Cyclomer)PACA200M、賽克羅馬(Cyclomer)PACA230AA、賽克羅馬(Cyclomer)PACAZ250、賽克羅馬(Cyclomer)PACAZ251、賽克羅馬(Cyclomer)PACAZ300、賽克羅馬(Cyclomer)PACAZ320(以上為大賽璐(Daicel)化學工業(股)制造)等。進而，苯酚酚醛清漆型環氧樹脂的市售品可列舉：JER-157S65、JER-152、JER-154、JER-157S70(以上為三菱化學(股)制造)等。另外，在側鏈上具有氧雜環丁基的聚合物、在分子內具有兩個以上的氧雜環丁基的聚合性單體或寡聚物的具體例可使用亞龍氧雜環丁烷(AronOxetane)OXT-121、亞龍氧雜環丁烷(AronOxetane)OXT-221、亞龍氧雜環丁烷(AronOxetane)OX-SQ、亞龍氧雜環丁烷(AronOxetane)PNOX(以上為東亞合成(股)制造)。具有環氧基的化合物還可使用(甲基)丙烯酸縮水甘油酯或烯丙基縮水甘油醚等具有縮水甘油基作為環氧基的化合物，優選為具有脂環式環氧基的不飽和化合物。此種化合物例如可參照日本專利特開號公報段落0045等的記載，將這些內容并入至本申請說明書中。含有環氧基或氧雜環丁基的化合物也可含有具有環氧基或氧雜環丁基作為重復單元的聚合物。＜＜＜其他硬化性化合物＞＞＞本發明中，可使用具有己內酯改性結構的聚合性化合物作為硬化性化合物。具有己內酯改性結構的聚合性化合物可參照日本專利特開號公報的段落0042～段落0045的記載，將其內容并入至本說明書中。具有己內酯改性結構的聚合性化合物例如可列舉：由日本化藥(股)所市售的作為卡亞拉得(KAYARAD)DPCA系列的DPCA-20、DPCA-30、DPCA-60、DPCA-120等，沙多瑪(Sartomer)公司制造的具有4個亞乙氧基鏈的四官能丙烯酸酯SR-494、具有3個亞異丁氧基鏈的三官能丙烯酸酯TPA-330等。＜＜聚合引發劑＞＞本發明的硬化性組合物也可含有聚合引發劑。聚合引發劑只要具有通過光、熱的任一者或此兩者來引發聚合性化合物的聚合的能力，則并無特別限制，可根據目的而適當選擇。在利用光使聚合性化合物開始聚合的情形時，優選為光聚合引發劑。光聚合引發劑優選為對紫外線范圍至可見光線具有感光性。另外，在利用熱使聚合性化合物開始聚合的情形時，優選為熱聚合引發劑。熱聚合引發劑優選為在150℃～250℃下分解。聚合引發劑優選為至少具有芳香族基的化合物，例如可列舉：酰基膦化合物、苯乙酮系化合物、α-氨基酮化合物、二苯甲酮系化合物、安息香醚系化合物、縮酮衍生物化合物、噻噸酮化合物、肟化合物、六芳基聯咪唑化合物、三鹵代甲基化合物、偶氮化合物、有機過氧化物、重氮鎓化合物、錪化合物、锍化合物、吖嗪鎓化合物、茂金屬化合物等鎓鹽化合物、有機硼鹽化合物、二砜化合物、硫醇化合物等。聚合引發劑可參照日本專利特開2014-41318號公報的段落0218～段落0251(對應的國際公開WO2014/017669號手冊的段落0220～段落0253)的記載，將這些內容并入至本申請說明書中。聚合引發劑優選為肟化合物、苯乙酮化合物或酰基膦化合物。肟化合物的市售品可列舉：艷佳固(IRGACURE)-OXE01(巴斯夫(BASF)公司制造)、艷佳固(IRGACURE)-OXE02(巴斯夫(BASF)公司制造)、TR-PBG-304(常州強力電子新材料有限公司公司制造)、艾迪科亞克爾(AdekaArkls)NCI-831(艾迪科(ADEKA)公司制造)、艾迪科亞克爾(AdekaArkls)NCI-930(艾迪科(ADEKA)公司制造)等。另外，還可使用具有氟原子的肟引發劑。此種引發劑的具體例可列舉：日本專利特開號公報中記載的化合物，日本專利特表號公報的0345段落中記載的化合物24、化合物36～化合物40，日本專利特開號公報的0101段落中記載的化合物(C-3)。另外，還可使用日本專利特表號公報、國際公開WO2015/004565號公報等中記載的肟多聚物。苯乙酮化合物的市售品可列舉：艷佳固(IRGACURE)-907、艷佳固(IRGACURE)-369、艷佳固(IRGACURE)-379(商品名：均為巴斯夫(BASF)公司制造)等。酰基膦化合物的市售品可列舉艷佳固(IRGACURE)-819、達羅固(DAROCUR)-TPO(商品名：均為巴斯夫(BASF)公司制造)等。在本發明的硬化性組合物含有聚合引發劑的情形時，相對于硬化性組合物的總固體成分，聚合引發劑的含量優選為0.01質量％～30質量％。下限優選為0.1質量％以上。上限優選為20質量％以下，更優選為15質量％以下。聚合引發劑可僅為一種，也可為兩種以上，在為兩種以上的情形時，優選為合計量成為所述范圍。＜＜堿可溶樹脂＞＞本發明的硬化性組合物也可含有堿可溶性樹脂。通過含有堿可溶性樹脂，可通過堿顯影而形成所需的圖案。堿可溶性樹脂可列舉組合物中說明的堿可溶性樹脂，優選范圍也相同。在本發明的硬化性組合物含有堿可溶樹脂的情形時，在本發明的硬化性組合物的總固體成分中，堿可溶樹脂的含量優選為1質量％以上，還可設定為2質量％以上，還可設定為5質量％以上，還可設定為10質量％以上。另外，在本發明的硬化性組合物的總固體成分中，堿可溶樹脂的含量還可設定為80質量％以下，還可設定為65質量％以下，還可設定為60質量％以下，還可設定為15質量％以下。另外，在不使用本發明的硬化性組合物通過堿顯影來形成圖案的情形時，當然還可設定為不含堿可溶樹脂的實施方式。＜＜表面活性劑＞＞本發明的高活性組合物也可含有表面活性劑。表面活性劑可僅使用一種，也可將兩種以上組合。相對于本發明的硬化性組合物的固體成分，表面活性劑的含量優選為0.0001質量％～2質量％。下限優選為0.005質量％以上，更優選為0.01質量％以上。上限優選為1.0質量％以下，更優選為0.1質量％以下。表面活性劑可使用：氟系表面活性劑、非離子系表面活性劑、陽離子系表面活性劑、陰離子系表面活性劑、硅酮系表面活性劑等各種表面活性劑。本發明的硬化性組合物優選為含有氟系表面活性劑及硅酮系表面活性劑的至少一種。據此，被涂布面與涂布液的界面張力減小，對被涂布面的濡濕性得到改善。因此，硬化性組合物的溶液特性(特別是流動性)提高，涂布厚度的均勻性或省液性進一步改善。結果，即便在以少量的液量形成幾微米(μm)左右的薄膜的情形時，也可更適宜地進行厚度不均一小的均勻厚度的膜形成。氟系表面活性劑的氟含有率優選為3質量％～40質量％。下限優選為5質量％以上，更優選為7質量％以上。上限優選為30質量以下％，更優選為25質量％以下。在氟含有率在上述范圍內的情形時，在涂布膜的厚度的均勻性或省液性的方面有效果，溶解性也良好。氟系表面活性劑具體可列舉：日本專利特開2014-41318號公報的段落0060～段落0064(對應的國際公開WO2014/17669號手冊的段落0060～段落0064)等中記載的表面活性劑，將這些內容并入至本申請說明書中。氟系表面活性劑的市售品例如可列舉：美佳法(Megafac)F-171、美佳法(Megafac)F-172、美佳法(Megafac)F-173、美佳法(Megafac)F-176、美佳法(Megafac)F-177、美佳法(Megafac)F-141、美佳法(Megafac)F-142、美佳法(Megafac)F-143、美佳法(Megafac)F-144、美佳法(Megafac)R30、美佳法(Megafac)F-437、美佳法(Megafac)F-475、美佳法(Megafac)F-479、美佳法(Megafac)F-482、美佳法(Megafac)F-554、美佳法(Megafac)F-780、美佳法(Megafac)F-781F(以上為迪愛生(DIC)(股)制造)，弗拉德(Fluorad)FC430、弗拉德(Fluorad)FC431、弗拉德(Fluorad)FC171(以上為住友3M(股)制造)，沙福隆(Surflon)S-382、沙福隆(Surflon)SC-101、沙福隆(Surflon)SC-103、沙福隆(Surflon)SC-104、沙福隆(Surflon)SC-105、沙福隆(Surflon)SC1068、沙福隆(Surflon)SC-381、沙福隆(Surflon)SC-383、沙福隆(Surflon)S393、沙福隆(Surflon)KH-40(以上為旭硝子(股)制造)等。另外，還可例示下述化合物作為本發明中所用的氟系表面活性劑。[化36]所述化合物的重量平均分子量例如為14,000。非離子系表面活性劑具體可列舉日本專利特開號公報的段落0553(對應的美國專利申請公開第2012/0235099號說明書的[0679])等中記載的非離子系表面活性劑，將這些內容并入至本申請說明書中。陽離子系表面活性劑具體可列舉日本專利特開號公報的段落0554(對應的美國專利申請公開第2012/0235099號說明書的[0680])中記載的陽離子系表面活性劑，將這些內容并入至本申請說明書中。硅酮系表面活性劑例如可列舉日本專利特開號公報的段落0556(對應的美國專利申請公開第2012/0235099號說明書的[0682])等中記載的硅酮系表面活性劑，將這些內容并入至本申請說明書中。＜＜聚合禁止劑＞＞本發明的硬化性組合物為了在制造過程中或保存過程中抑制硬化性化合物的不需要的反應，也可含有少量的聚合禁止劑。聚合禁止劑可列舉：對苯二酚、對甲氧基苯酚、二-叔丁基對甲酚、聯苯三酚、叔丁基鄰苯二酚、苯醌、4,4'-硫代雙(3-甲基-6-叔丁基苯酚)、2,2'-亞甲基雙(4-甲基-6-叔丁基苯酚)、N-亞硝基苯基羥基胺亞鈰鹽等，優選為對甲氧基苯酚。在本發明的硬化性組合物含有聚合禁止劑的情形時，相對于本發明的硬化性組合物的總固體成分，聚合禁止劑的含量優選為0.01質量％～5質量％。＜＜有機溶劑＞＞本發明的硬化性組合物也可含有有機溶劑。有機溶劑可列舉所述組合物中說明的有機溶劑，優選范圍也相同。本發明的硬化性組合物中的溶劑的含量優選為本發明的硬化性組合物的總固體成分成為5質量％～90質量％的量，更優選為成為10質量％～80質量％的量，進而優選為成為20質量％～75質量％的量。＜＜其他色素＞＞本發明的硬化性組合物也可含有所述式(1)所表示的色素以外的色素(其他色素)。其他色素可列舉上文所述的組合物中說明的著色劑等。其他色素可根據硬化性組合物的用途而適當選擇。例如在使用本發明的硬化性組合物來形成僅可使特定波長以上的近紅外線透過的紅外線透過濾波器的情形時，優選為使用上文所述的著色劑，例如通過并用選自紅色著色劑、黃色著色劑、藍色著色劑及紫色著色劑中的兩種以上的著色劑(優選為紅色著色劑與黃色著色劑與藍色著色劑與紫色著色劑)，還可形成將波長400nm～900nm遮光、且可使波長900nm以上的近紅外線透過的紅外線透過濾波器。具體例優選為含有作為紅色顏料的C.I.顏料紅254、作為黃色顏料的C.I.顏料黃139、作為藍色顏料的C.I.顏料藍15：6及作為紫色顏料的C.I.顏料紫23。在著色劑是將紅色著色劑、黃色著色劑、藍色著色劑及紫色著色劑組合而成的情形時，優選為紅色著色劑相對于著色劑總量的質量比為0.1～0.4，黃色著色劑相對于著色劑總量的質量比為0.1～0.4，藍色著色劑相對于著色劑總量的質量比為0.2～0.6，紫色著色劑相對于著色劑總量的質量比為0.01～0.30。更優選為紅色著色劑相對于著色劑總量的質量比為0.2～0.4，黃色著色劑相對于著色劑總量的質量比為0.2～0.4，藍色著色劑相對于著色劑總量的質量比為0.2～0.5，紫色著色劑相對于著色劑總量的質量比為0.05～0.25。另外，關于式(1)所表示的色素與著色劑的比例，優選為相對于式(1)所表示的色素100質量份而以50質量份～500質量份的比例含有著色劑，更優選為100質量份～300質量份。＜＜其他成分＞＞本發明的硬化性組合物也可在不損及本發明的效果的范圍內，根據目的而適當選擇其他成分。關于可并用的其他成分，例如也可并用分散劑、增感劑、交聯劑(交聯劑水溶液)、乙酸酐、硅烷化合物、硬化促進劑、填料、塑化劑、密接促進劑及其他助劑類(例如導電性粒子、填充劑、消泡劑、阻燃劑、流平劑、剝離促進劑、抗氧化劑、香料、表面張力調整劑、鏈轉移劑等)。這些成分例如可參照日本專利特開號公報的段落編號0183～段落編號0228(對應的美國專利申請公開第2013/0034812號說明書的[0237]～[0309])、日本專利特開號公報的段落編號0101～段落編號0102、日本專利特開號公報的段落編號0103～段落編號0104、日本專利特開號公報的段落編號0107～段落編號0109、日本專利特開號公報的段落編號0159～段落編號0184等的記載，將這些內容并入至本申請說明書中。通過適當含有這些成分，可調整目標近紅外線截止濾波器的穩定性、膜物性等性質。＜硬化性組合物的制備＞本發明的硬化性組合物可通過將所述各成分混合而制備。另外，為了去除異物或減少缺陷等，優選為利用過濾器進行過濾。關于過濾器的種類、過濾方法，可列舉組合物中說明的過濾器的種類、過濾方法，優選范圍也相同。＜硬化性組合物的用途＞本發明的硬化性組合物可設定為液狀，故例如通過將本發明的硬化性組合物應用于基材等上并加以干燥，可容易地制造近紅外線截止濾波器等硬化膜。關于本發明的硬化性組合物的粘度，在通過涂布來形成硬化膜的情形時，所述粘度優選為1mPa·s～3000mPa·s。下限優選為10mPa·s以上，更優選為100mPa·s以上。上限優選為2000mPa·s以下，更優選為1500mPa·s以下。本發明的硬化性組合物的總固體成分是根據涂布方法而變更，例如優選為1質量％～50質量％。下限更優選為10質量％以上。上限更優選為30質量％以下。本發明的硬化性組合物的用途并無特別限定，例如可優選地用于固體攝像元件的受光側的近紅外線截止濾波器(例如對晶片級透鏡(waferlevellens)的近紅外線截止濾波器用等)、固體攝像元件的背面側(與受光側為相反側)的近紅外線截止濾波器等。尤其可優選地用作固體攝像元件的受光側的近紅外線截止濾波器。另外，可用于通過檢測波長700nm～1000nm的光而檢測物體的紅外線傳感器的紅外線傳感器中的近紅外線截止濾波器等。另外，除了所述式(1)所表示的色素以外還含有所述著色劑的硬化性組合物還可形成兼具近紅外線截止濾波器與彩色濾波器的功能的濾波器。另外，還可用于形成僅可使特定波長以上的近紅外線透過的紅外線透過濾波器。例如還可形成將波長400nm～900nm遮光、且可使波長900nm以上的近紅外線透過的紅外線透過濾波器。在所述情形時，優選為將遮蔽可見光的彩色有色顏料的組合、與本發明的式(1)所表示的色素并用。關于紅外線透過濾波器，膜的厚度方向上的光的透過率在波長400nm～830nm的范圍內的最大值優選為20％以下，更優選為10％以下。另外，膜的厚度方向上的光的透過率在波長1000nm～1300nm的范圍內的最小值優選為65％以上，更優選為70％以上。另外，波長400nm～830nm的范圍內的吸光度的最小值A、與波長1000nm～1300nm的范圍內的吸光度的最大值B的比即A/B優選為4.5以上，更優選為8以上。＜硬化膜、近紅外線截止濾波器＞繼而，對本發明的硬化膜及近紅外線截止濾波器加以說明。本發明的硬化膜及近紅外線截止濾波器是使上文所述的本發明的硬化性組合物硬化而成。本發明的硬化膜及近紅外線截止濾波器的膜厚可根據目的而適當調整。膜厚優選為20μm以下，更優選為10μm以下，進而優選為5μm以下。膜厚的下限優選為0.1μm以上，更優選為0.2μm以上，進而優選為0.3μm以上。本發明的近紅外線截止濾波器及硬化膜可用于具有吸收·截止近紅外線的功能的透鏡(數字照相機或移動電話或汽車照相機等照相機用鏡頭、f-θ透鏡、拾取透鏡等光學透鏡)及半導體受光元件用的光學濾波器、用于節能而阻斷熱線的近紅外線吸收膜或近紅外線吸收板、以選擇性地利用太陽光為目的的農業用涂劑、利用近紅外線的吸收熱的記錄媒體、電子設備用或照相用近紅外線濾波器、護眼鏡、太陽鏡、熱線遮斷膜、光學文字讀取記錄、機密文件防影印用、電子照相感光體、激光焊接等。另外，還可用于CCD照相機用噪聲截止濾波器、CMOS圖像傳感器用濾波器、紅外線傳感器用濾波器、紅外線透過濾波器等。＜硬化膜及近紅外線截止濾波器的制造方法＞本發明的硬化膜及近紅外線截止濾波器可經由應用本發明的硬化性組合物的步驟而制造。具體而言，可經由通過將本發明的硬化性組合物應用于支撐體上而形成膜的步驟、將膜干燥的步驟而制造。關于膜厚、層疊結構等，可根據目的而適當選擇。另外，也可進一步進行形成圖案的步驟。形成膜的步驟例如可通過以下方式實施：在支撐體上，對本發明的硬化性組合物使用滴注法(滴鑄)、旋涂機、狹縫旋涂機、狹縫涂布機、網版印刷、敷料器涂布等。在滴注法(滴鑄)的情形時，為了以既定的膜厚獲得均勻的膜，優選為在支撐體上形成以光致抗蝕劑作為隔離壁的硬化性組合物的滴加范圍。干燥后的膜的厚度并無特別限制，可根據目的而適當選擇。支撐體可為包含玻璃等的透明基板。另外，也可為固體攝像元件。另外，也可為設置于固體攝像元件的受光側的其他基板。另外，也可為設置于固體攝像元件的受光側的平坦化層等層。在將膜干燥的步驟中，干燥條件還視各成分、溶劑的種類、使用比例等而不同。例如優選為在60℃～150℃的溫度下干燥30秒鐘～15分鐘。將圖案作為形成步驟例如可列舉包括以下步驟的方法等：將本發明的硬化性組合物應用于支撐體上而形成膜狀的組合物層的步驟；對組合物層以圖案狀進行曝光的步驟；以及將未曝光部顯影去除而形成圖案的步驟。關于形成圖案的步驟，可利用光刻法來進行圖案形成，也可利用干式蝕刻法來形成圖案。硬化膜及近紅外線截止濾波器的制造方法中，也可包括其他步驟。其他步驟并無特別限制，可根據目的來適當選擇。例如可列舉基材的表面處理步驟、前加熱步驟(預烘烤步驟)、硬化處理步驟、后加熱步驟(后烘烤步驟)等。＜＜前加熱步驟·后加熱步驟＞＞前加熱步驟及后加熱步驟中的加熱溫度優選為80℃～200℃。上限優選為150℃以下。下限優選為90℃以上。前加熱步驟及后加熱步驟中的加熱時間優選為30秒～240秒。上限優選為180秒以下。下限優選為60秒以上。＜＜硬化處理步驟＞＞硬化處理步驟為視需要對所形成的所述膜進行硬化處理的步驟，通過進行所述處理，硬化膜及近紅外線截止濾波器的機械強度提高。硬化處理步驟并無特別限制，可根據目的而適當選擇。例如可優選地列舉全面曝光處理、全面加熱處理等。此處，本發明中所謂“曝光”是以如下含意使用：不僅包含各種波長的光，還包含電子束、X射線等放射線的照射。曝光優選為通過照射放射線來進行，曝光時可使用的放射線尤其可優選地使用電子束、KrF、ArF、g射線、h射線、i射線等紫外線或可見光。曝光方式可列舉步進曝光或利用高壓水銀燈的曝光等。曝光量優選為5mJ/cm2～3000mJ/cm2。上限優選為2000mJ/cm2以下，更優選為1000mJ/cm2以下。下限優選為10mJ/cm2以上，更優選為50mJ/cm2以上。關于曝光時的氧濃度，可適當選擇，除了在大氣下進行以外，例如可在氧濃度為19體積％以下的低氧環境下(例如15體積％、5體積％、實質上無氧)下曝光，也可在氧濃度超過21體積％的高氧環境下(例如22體積％、30體積％、50體積％)下曝光。另外，曝光照度可適當設定，通常可自1000W/m2～100000W/m2(例如5000W/m2、15000W/m2、35000W/m2)的范圍內選擇。氧濃度與曝光照度也可將適當條件組合，例如可設定為氧濃度10體積％且照度10000W/m2、氧濃度35體積％且照度20000W/m2等。全面曝光處理的方法例如可列舉對所形成的膜的整個面進行曝光的方法。在硬化性組合物含有聚合性化合物的情形時，通過全面曝光，聚合性化合物的硬化受到促進，膜的硬化進一步進行，機械強度、耐久性得到改良。進行全面曝光的裝置并無特別限制，可根據目的而適當選擇，例如可優選地列舉超高壓水銀燈等紫外線曝光機。另外，全面加熱處理的方法可列舉對所形成的所述膜的整個面進行加熱的方法。通過全面加熱，可提高圖案的膜強度。全面加熱的加熱溫度優選為100℃～260℃。下限優選為120℃以上，更優選為160℃以上。上限優選為240℃以下，更優選為220℃以下。若加熱溫度為所述范圍，則容易獲得強度優異的膜。全面加熱的加熱時間優選為1分鐘～180分鐘。下限優選為3分鐘以上。上限優選為120分鐘以下。進行全面加熱的裝置并無特別限制，可自公知的裝置中根據目的而適當選擇，例如可列舉干燥烘箱(dryoven)、熱板(hotplate)、紅外線(Infrared，IR)加熱器等。＜固體攝像元件、照相機模塊、紅外線傳感器＞本發明的固體攝像元件是使用本發明的硬化性組合物而成，或含有本發明的硬化膜。另外，本發明的照相機模塊具有固體攝像元件及本發明的近紅外線截止濾波器。另外，本發明的紅外線傳感器是使用本發明的硬化性組合物而成，或含有本發明的硬化膜。以下，使用圖1對本發明的紅外線傳感器的一實施形態加以說明。圖1所示的紅外線傳感器100中，圖中編號110為固體攝像元件。設置于固體攝像元件110上的攝像區域含有近紅外線截止濾波器111及彩色濾波器112。近紅外線截止濾波器111例如可使用本發明的硬化性組合物而形成。在紅外線透過濾波器113與固體攝像元件110之間設有區域114。在區域114中，配置有透過紅外線透過濾波器113的波長的光可透過的樹脂層(例如透明樹脂層等)。圖1所示的實施形態中，在區域114中配置有樹脂層，也可在區域114中形成有紅外線透過濾波器113。即，也可在固體攝像元件110上形成紅外線透過濾波器113。在彩色濾波器112及紅外線透過濾波器113的入射光hν側，配置有微透鏡115。以覆蓋微透鏡115的方式形成有平坦化層116。另外，在圖1所示的實施形態中，彩色濾波器112的膜厚與紅外線透過濾波器113的膜厚相同，但兩者的膜厚也可不同。另外，在圖1所示的實施形態中，將彩色濾波器112設置于較近紅外線截止濾波器111更靠入射光hν側，但也可調換近紅外線截止濾波器111與彩色濾波器112的順序，也可將近紅外線截止濾波器111設置于較彩色濾波器112更靠入射光hν側。另外，在圖1所示的實施形態中，近紅外線截止濾波器111與彩色濾波器112鄰接而層疊，但兩濾波器也可未必鄰接，也可在所述兩者之間設有其他層。另外，在圖1所示的實施形態中，將近紅外線截止濾波器111與彩色濾波器112設置成不同構件，但也可使彩色濾波器112中含有本發明的組合物，使彩色濾波器112具備作為近紅外線截止濾波器的功能。在所述情形時，可省略近紅外線截止濾波器111。＜＜近紅外線截止濾波器111＞＞近紅外線截止濾波器111是根據后述紅外發光二極管(LED)的發光波長而選擇其特性。例如可使用上文所述的本發明的硬化性組合物而形成。＜＜彩色濾波器112＞＞彩色濾波器112并無特別限定，可使用現有公知的像素形成用的彩色濾波器，例如可參照日本專利特開號公報的段落0214～段落0263的記載，將其內容并入至本申請說明書中。＜＜紅外線透過濾波器113＞＞紅外線透過濾波器113是根據后述紅外LED的發光波長而選擇其特性。例如以紅外LED的發光波長為830nm作為前提，進行以下說明。紅外線透過濾波器113優選為膜的厚度方向上的光透過率在波長400nm～650nm的范圍內的最大值為30％以下，更優選為20％以下，進而優選為10％以下，尤其優選為0.1％以下。所述透過率優選為在波長400nm～650nm的整個范圍內滿足所述條件。波長400nm～650nm的范圍內的最大值通常為0.1％以上。紅外線透過濾波器113優選為膜的厚度方向上的光透過率在波長800nm以上(優選為800nm～1300nm)的范圍內的最小值為70％以上，更優選為80％以上，進而優選為90％以上，尤其優選為99.9％以上。所述透過率優選為在波長800nm以上的一部分范圍內滿足所述條件，且優選為在與紅外LED的發光波長相對應的波長下滿足所述條件。波長900nm～1300nm的范圍內的光透過率的最小值通常為99.9％以下。紅外線透過濾波器113的膜厚優選為100μm以下，更優選為15μm以下，進而優選為5μm以下，尤其優選為1μm以下。下限值優選為0.1μm。若膜厚為所述范圍，則可制成滿足所述分光特性的膜。以下示出紅外線透過濾波器113的分光特性、膜厚等測定方法。膜厚是使用觸針式表面形狀測定器(愛發科(ULVAC)公司制造的德塔克(DEKTAK)150)對具有膜的干燥后的基板進行測定。膜的分光特性為使用紫外可見近紅外分光光度計(日立高新技術(HitachiHigh-technologies)公司制造的U-4100)的分光光度計(參照(ref.)為玻璃基板)在波長300nm～1300nm的范圍內測定透過率所得的值。所述光透過率的條件也可通過任意方法來達成，例如通過使組合物中含有兩種以上的顏料，并且調整各顏料的種類及含量，可適宜地達成所述光透過率的條件。紅外線透過濾波器113例如可使用含有上文所述的著色劑(優選為含有選自紅色著色劑、黃色著色劑、藍色著色劑及紫色著色劑中的兩種以上的著色劑的著色劑的組合物(紅外線透過組合物)來制作。相對于著色劑的總量，著色劑中的顏料的含量優選為95質量％以上，更優選為97質量％以上，進而優選為99質量％以上。相對于著色劑的總量，著色劑中的顏料的含量的上限為100質量％以下。著色劑的優選實施方式優選為含有選自紅色著色劑、黃色著色劑、藍色著色劑及紫色著色劑中的兩種以上的著色劑，更優選為含有紅色著色劑、黃色著色劑、藍色著色劑及紫色著色劑。優選具體例優選為含有作為紅色顏料的C.I.顏料紅254、作為黃色顏料的C.I.顏料黃139、作為藍色顏料的C.I.顏料藍15：6及作為紫色顏料的C.I.顏料紫23。在紅外線透過組合物所含有的著色劑是將紅色著色劑、黃色著色劑、藍色著色劑及紫色著色劑組合而成的情形時，優選為相對于著色劑總量，紅色著色劑的質量比為0.2～0.5，黃色著色劑的質量比為0.1～0.2，藍色著色劑的質量比為0.25～0.55，紫色著色劑的質量比為0.05～0.15。另外，優選為相對于著色劑總量，紅色著色劑的質量比為0.3～0.4，黃色著色劑的質量比為0.1～0.2，藍色著色劑的質量比為0.3～0.4，紫色著色劑的質量比為0.05～0.15。另外，紅外線透過濾波器113還可使用本發明的硬化性組合物而形成。即，通過將式(1)所表示的色素與選自紅色著色劑、黃色著色劑、藍色著色劑及紫色著色劑中的兩種以上的著色劑(優選為紅色著色劑與黃色著色劑與藍色著色劑與紫色著色劑)并用，還可形成將波長400nm～900nm遮光、且可使波長900nm以上的近紅外線透過的紅外線透過濾波器。所述紅外線透過濾波器的膜的厚度方向上的光的透過率在波長400nm～830nm的范圍內的最大值優選為20％以下，更優選為10％以下。另外，膜的厚度方向上的光的透過率在波長1000nm～1300nm的范圍內的最小值優選為65％以上，更優選為70％以上。另外，波長400nm～830nm的范圍內的吸光度的最小值A與波長1000nm～1300nm的范圍內的吸光度的最大值B的比即A/B優選為4.5以上，更優選為8以上。再者，所述情形時的紅外LED的發光波長為930nm～950nm。繼而，作為應用本發明的紅外線傳感器的例子，對攝像裝置加以說明。關于紅外線傳感器，存在運動傳感器(motionsensor)、近接傳感器、手勢傳感器(gesturesensor)等。圖2為攝像裝置的功能區塊圖。攝像裝置具有透鏡光學系統201、固體攝像元件210、信號處理部220、信號切換部230、控制部240、信號存儲部250、發光控制部260、發出紅外光的發光元件的紅外LED270、圖像輸出部280及圖像輸出部281。再者，固體攝像元件210可使用上文所述的紅外線傳感器100。另外，關于固體攝像元件210及透鏡光學系統201以外的構成，其全部或其一部分還可形成于同一半導體基板上。關于攝像裝置的各構成，可參照日本專利特開號公報的段落0032～段落0036，將其內容并入至本申請說明書中。在所述攝像裝置中，可組入具有固體攝像元件及上文所述的近紅外線吸收濾波器的照相機模塊。＜化合物＞繼而，對本發明的化合物加以說明。本發明的化合物為本發明的組合物的色素衍生物中說明的式(3)所表示的化合物，優選范圍也與上文所述的范圍相同。本發明的化合物例如可用于作為等離子體顯示面板(PlasmaDisplayPanel，PDP)或CCD用的紅外線截止濾波器或熱線遮蔽膜的光學濾波器用途、作為追記型光碟(可錄光碟(CompactDisc-Recorder，CD-R))或閃光熔融定影材料的光熱轉換材料用途、作為安全油墨或不可見條碼油墨的信息顯示材料等用途。[實施例]以下列舉實施例對本發明加以更具體說明。以下的實施例中所示的材料、使用量、比例、處理內容、處理順序等只要不偏離本發明的主旨，則可適當變更。因此，本發明的范圍不限定于以下所示的具體例。再者，只要無特別說明，則“％”及“份”為質量基準。＜化合物(A-1)的合成＞依照下述流程來合成例示化合物(A-1)。[化37]以4-(2-甲基丁氧基)苯甲腈作為原料，依照美國專利第5,969,154號說明書中記載的方法來合成(A-1-a)。1H-核磁共振(NuclearMagneticResonance，NMR)(DMSO/THF混合)：δ0.95(t,3H),1.02(d,3H),1.58(m,1H),1.87(m,1H),3.92(m,2H),7.66(d,2H),8.54(d,2H)將179質量份的(A-1-a)、162.5質量份的2-(2-苯并噻唑基)乙腈在1840質量份的甲苯中攪拌，滴加476.74質量份的氧氯化磷并加熱回流3.5小時。反應結束后，冷卻至內溫25℃，一面維持內溫30℃以下一面用90分鐘滴加1800質量份的甲醇。滴加結束后，在室溫下攪拌30分鐘。將析出的結晶過濾分離，以450質量份的甲醇清洗。在所得的結晶中添加2300質量份的甲醇，加熱回流30分鐘，放置冷卻至達到30℃，將結晶過濾分離。對所得的結晶在40℃下進行12小時送風干燥，由此獲得240質量份的(A-1-b)。1H-NMR(CDCl3):δ0.99(t,3H),1.07(d,3H),1.58(m,1H),1.93(m,1H),3.93(m,2H),7.15(d,2H),7.66(d,2H),8.54(d,2H)將119質量份的二苯基硼烷酸(borinicacid)2-氨基乙基酯、170質量份的(A-1-b)在2840質量份的甲苯中攪拌，在外設溫度40℃下用30分鐘滴加167質量份的四氯化鈦，攪拌30分鐘。升溫至外設溫度130℃并進行3小時加熱回流。放置冷卻至達到內溫30℃，一面維持內溫30℃以下一面滴加1620質量份的甲醇。滴加后攪拌30分鐘，將析出的結晶過濾分離，以150質量份的甲醇進行清洗。在所得的結晶中添加1500質量份的甲醇并在室溫下攪拌10分鐘，將結晶過濾分離，將所述操作進行2次。在所得的結晶中添加2000質量份的四氫呋喃(Tetrahydrofuran，THF)，加熱回流30分鐘，放置冷卻至達到30℃以下，將結晶過濾分離。對所得的結晶在40℃下進行12小時送風干燥，由此獲得234質量份的化合物(A-1)。通過基質輔助激光解吸電離-質譜(MatrixAssistedLaserDesorption/Ionization-MassSpectrmtry，MALDI-MS)觀測到分子量1100.5的波峰，鑒定為化合物(A-1)。(A-1)的λmax在氯仿中為780nm。＜化合物(A-2)的合成＞依照下述流程來合成例示化合物(A-2)。[化38]以4-(1-甲基庚氧基)苯甲腈作為原料，依照美國專利第5,969,154號說明書中記載的方法來合成(A-2-a)。1H-NMR(d-DMSO(二甲基亞砜)：甲醇鈉的28質量％甲醇溶液＝95：5(質量比)的混合液)：δ0.82(t,6H),1.15-1.70(m,26H),4.40(m,2H),6.78(d,4H),8.48(d,2H)將20.0質量份的(A-2-a)及15.4質量份的2-(2-苯并噻唑基)乙腈在230質量份的甲苯中攪拌，滴加45.0質量份的氧氯化磷并進行3.5小時加熱回流。反應結束后，冷卻至內溫25℃，一面維持內溫30℃以下一面用60分鐘滴加200質量份的甲醇。滴加結束后，在室溫下攪拌30分鐘。將析出的結晶過濾分離，以100質量份的甲醇進行清洗。在所得的結晶中添加200質量份的甲醇，進行30分鐘加熱回流，放置冷卻至達到30℃，將結晶過濾分離。對所得的結晶在40℃下進行12小時送風干燥，由此獲得8.8質量份的(A-2-b)。1H-NMR(CDCl3):δ0.90-1.90(m,32H),4.54(m,2H),7.12(d,4H),7.20-7.40(m,2H),7.43(t,2H),7.75(d,4H),7.81(t,4H)將3.9質量份的二苯基硼烷酸2-氨基乙基酯、及6.0質量份的(A-2-b)在60質量份的甲苯中攪拌，在外設溫度40℃下用10分鐘滴加10.6質量份的四氯化鈦，進行30分鐘攪拌。升溫至外設溫度130℃并加熱回流3小時。放置冷卻至達到內溫30℃，一面維持內溫30℃以下一面滴加40質量份的甲醇。滴加后攪拌30分鐘，將析出的結晶過濾分離，以35質量份的甲醇進行清洗。在所得的結晶中添加50質量份的甲醇并進行30分鐘加熱回流，放置冷卻至達到30℃，將結晶過濾分離，將所述操作進行2次。對所得的結晶在40℃下進行12小時送風干燥，由此獲得4.6質量份的化合物(A-2)。通過基質輔助激光解吸電離(MatrixAssistedLaserDesorption/Ionization，MALDI)-質譜(MassSpectrometry，MS)觀測到分子量1090.9的波峰，鑒定為化合物(A-2)。(A-2)的λmax在DMSO(二甲基亞砜)中為782nm。＜化合物(A-3)的合成＞依照下述流程來合成例示化合物(A-3)。[化39]將50.0質量份的2-氨基-6-甲氧基苯并噻唑、及93.4質量份的氫氧化鉀在200質量份的水中加熱回流24小時，冷卻至10℃以下。以反應液的pH值成為6的方式，一面維持10℃以下，一面添加6N鹽酸及乙酸。將析出的結晶過濾分離，以200質量份的水進行清洗。將所得的結晶總量與18.3質量份的丙二腈、19.3質量份的乙酸在172質量份的甲醇中在60℃下攪拌1小時，冷卻至10℃以下。將析出的結晶過濾分離，以200質量份的冷甲醇進行清洗。對所得的結晶在40℃下進行12小時送風干燥，由此獲得38.7質量份的(A-3-b)。1H-NMR(CDCl3):δ3.85(s,3H),4.22(s,2H),7.16(d,1H),7.38(s,1H),7.97(d,1H)以(A-1-a)及(A-3-b)作為原料，利用與(A-1-b)的合成相同的方法來合成(A-3-c)。1H-NMR(d-DMSO(二甲基亞砜)：甲醇鈉的28質量％甲醇溶液＝95：5(質量比)的混合液)：δ0.98(t,6H),1.12(d,6H),1.30(m,2H),1.63(m,2H),1.95(m,2H),3.89(m,4H),6.88(d,2H),6.98(d,4H),7.42(m,4H),7.67(s,2H),7.85(d,4H)以(A-3-c)作為原料，利用與(A-1)的合成相同的方法來合成(A-3)。通過MALDI-MS觀測到分子量1161.1的波峰，鑒定為化合物(A-3)。(A-3)的λmax在氯仿中為802nm。1H-NMR(CDCl3):δ1.00(t,6H),1.05(d,6H),1.33(m,2H),1.63(m,2H),1.95(m,2H),3.74(m,4H),6.46(s,8H),6.57(d,2H),6.85(d,2H),6.98(s,2H),7.20(m,12H),7.25(m,8H)＜化合物(A-4)～化合物(A-9)的合成＞[化40]利用與化合物(A-3)的合成相同的方法來合成化合物(A-4)～化合物(A-9)。根據MALDI-MS，分子量均與理論值相同，故鑒定為目標化合物。關于氯仿中的λmax，(A-4)為794nm，(A-5)為786nm，(A-6)為782nm，(A-7)為788nm，(A-8)為785nm，(A-9)為794nm。＜化合物(A-10)的合成＞依照下述流程來合成例示化合物(A-10)。[化41]將179質量份的(A-1-a)及7.1質量份的2-(2-喹喔啉基)乙腈在90.5質量份的甲苯中攪拌，滴加21.3質量份的氧氯化磷并進行3.5小時加熱回流。反應結束后，冷卻至內溫25℃，一面維持內溫30℃以下一面用60分鐘滴加80質量份的甲醇。滴加結束后，在室溫下攪拌30分鐘。將析出的結晶過濾分離，以80質量份的甲醇清洗。在所得的結晶中添加100質量份的甲醇，進行30分鐘加熱回流，放置冷卻至達到30℃，將結晶過濾分離。對所得的結晶在40℃下進行12小時送風干燥，由此獲得3.6質量份的(A-10-b)。1H-NMR(CDCl3):δ0.87(t,6H),0.99(d,6H),1.30-2.00(m,6H),3.99(m,4H),7.20(d,4H),7.60-7.80(m,10H),8.03(d,2H),9.10(s,2H),14.07(s,2H)將5.6質量份的二苯基硼烷酸2-氨基乙基酯及2.0質量份的(A-10-b)在40質量份的甲苯中攪拌，在外設溫度40℃下用10分鐘滴加7.8質量份的四氯化鈦，攪拌30分鐘。升溫至外設溫度130℃并進行1.5小時加熱回流。放置冷卻至達到內溫30℃，一面維持內溫30℃以下一面滴加40質量份的甲醇。滴加后攪拌30分鐘，將析出的結晶過濾分離，以80質量份的甲醇進行清洗。在所得的結晶中添加60質量份的甲醇并進行30分鐘加熱回流，放置冷卻至達到30℃，將結晶過濾分離，將所述操作進行2次。對所得的結晶在40℃下進行12小時送風干燥，由此獲得1.9質量份的化合物(A-10)。通過MALDI-MS觀測到分子量1090.9的波峰，鑒定為化合物(A-10)。(A-10)的λmax在氯仿中為862nm。1H-NMR(CDCl3):δ1.02(t,6H),1.10(d,6H),1.34(m,2H),1.57(m,2H),2.00(m,2H),3.85(m,4H),6.19(d,4H),6.59(d,4H),7.10-7.32(m,24H),7.72(d,2H),8.00(d,2H),9.06(s,2H)＜化合物(B-1)的合成＞在20.7質量份的30％發煙硫酸中，一面維持內溫5℃以下一面添加3質量份的化合物(A-1)，在25℃下攪拌2小時。將反應溶液一面攪拌一面添加至二異丙醚中，將析出的結晶過濾分離。以二異丙醚將所得的結晶懸浮清洗2次，使所得的結晶在40℃下干燥12小時，由此獲得化合物(B-1)。根據1H-NMR(CDCl3)鑒定為(B-1)。酸價測定(THF/水溶液，滴定液：0.1N的NaOH水溶液)的結果為186mgKOH/g，磺酸基的個數(m數)為1.8。(試驗例1)＜組合物(分散液)的制備＞利用涂料振蕩器將10質量份的進行了鹽研磨處理的表1記載的近紅外吸收性色素、3.0質量份的表1記載的色素衍生物、7.8質量份的表1記載的分散樹脂、109質量份的表1記載的溶劑及520質量份的直徑0.5mm的氧化鋯珠進行30分鐘分散處理后，使用日本頗爾(Pall)制造的DFA4201NXEY(0.45μm尼龍過濾器)進行過濾，通過過濾將珠分離，制作組合物(分散液)。＜硬化性組合物的制備＞將下述成分混合后，使用日本頗爾(Pall)制造的DFA4201NXEY(0.45μm尼龍過濾器)進行過濾，制作硬化性組合物。·所述獲得的分散液：13.5質量份·聚合性化合物：賽克羅馬(Cyclomer)P(ACA)230AA(大賽璐(Daicel)化學工業(股)制造)：25質量份·聚合性化合物：卡亞拉得(KAYARAD)DPHA(日本化藥(股)制造)：3.2質量份·光聚合引發劑：艷佳固(IRGACURE)OXE01(巴斯夫(BASF)公司制造)：2質量份·聚合禁止劑：對甲氧基苯酚：0.001質量份·表面活性劑：美佳法(Megafac)F-781F(迪愛生(DIC)公司制造，含氟聚合物型表面活性劑)：0.004質量份·有機溶劑：丙二醇單甲醚乙酸酯)：56質量份＜硬化膜的制作方法＞利用旋涂法將硬化性組合物涂布于玻璃基板上，其后在熱板上在100℃下加熱2分鐘，由此獲得硬化性組合物涂布層。使用i射線步進機或對準器，以100mJ/cm2的曝光量對所得的硬化性組合物涂布層進行曝光。對曝光后的涂布層進而在熱板上在230℃下進行5分鐘硬化處理，獲得約1.5μm的硬化膜。＜分散液的粘度＞使用E型粘度計測定25℃、1000rpm時的分散液的粘度，按下述基準進行評價。A：20mPa·s以下B：超過20mPa·s且為100mPa·s以下C：超過100mPa·s＜平均粒徑＞分別利用以下所示的方法來測定剛制造后的分散液所含的色素粒子的平均一次粒徑及平均二次粒徑，按下述基準進行評價。平均一次粒徑的測定方法：以丙二醇單甲醚乙酸酯將分散液稀釋，滴加至電顯用絲網上加以干燥后，進行透射電子顯微鏡(TransmissionElectronMicroscopy，TEM)觀察(TEM：日本電子1200EX，加速電壓：80kV，觀察倍率：×100K)，抽取100個粒子進行測定。-平均一次粒徑的評價基準-A：100nm以下B：超過100nm且為200nm以下C：超過200nm平均二次粒徑的測定方法：使用日機裝(股)制造的麥克奇酷帕(MICROTRACUPA)150以體積基準進行測定。-平均二次粒徑的評價基準-A：300nm以下B：超過300nm且為500nm以下C：超過500nm＜耐光性＞將硬化膜設置于搭載有超級氙氣燈(10萬勒克斯)的褪色試驗機中，在不使用紫外線截止濾波器的條件下，進行50小時的光照射。繼而，對照射后的硬化膜的透過光譜進行測定，對最大吸收波長的吸光度由下式算出其殘存率，按下述基準進行評價。殘存率(％)＝(照射后的吸光度)÷(照射前的吸光度)×100A：殘存率95％～100％B：殘存率超過80％且小于95％C：殘存率80％以下[表1]如由所述表1所表明，本發明的組合物(分散液)的粘度低，色素粒子的分散性良好。另外，使用本發明的硬化性組合物的硬化膜的耐光性優異。相對于此，比較例1、比較例2難以兼具粘度與耐光性。實施例1中，即便將顏料衍生物變更為B-2～B-21、B-31～B-46、B-49～B-56、B-58～B-60，也可獲得與實施例1相同的效果。所述表中記載的記號表示下述化合物。·近紅外線吸收色素A-1：下述結構[化42]D-1：下述結構[化43]·色素衍生物B-1、B-22～B-30、B-47、B-48、B-57：上文所述的化合物(B-1)、化合物(B-22)～化合物(B-30)、化合物(B-47)、化合物(B-48)、化合物(B-57)·分散樹脂C-1～C-5：下述結構再者，C-1為使用東亞合成公司制造的大分子單體AA-6作為原料而制造的樹脂，且x/y/z＝10/78/12(質量％)，Mw：19700。[化44]·溶劑PGMEA：丙二醇單甲醚乙酸酯[顏料分散液1-1、顏料分散液1-1的制備]使用直徑0.3mm的氧化鋯珠，利用珠磨機(帶有減壓機構的高壓分散機NANO-3000-10(日本BEE(股)制造))將下述組成的混合液混合、分散，直至近紅外線吸收色素成為下述表所示的平均粒徑為止，制備顏料分散液。在表中示出相應成分的使用量(單位：質量份)。顏料分散液中的近紅外線吸收色素的平均粒徑是使用日機裝(股)制造的麥克奇酷帕(MICROTRACUPA)150以體積基準進行測定。將測定結果示于下文中。[顏料分散液2-1、顏料分散液2-2的制備]使用直徑0.3mm的氧化鋯珠，利用珠磨機(帶有減壓機構的高壓分散機NANO-3000-10(日本BEE(股)制造))將下述組成的混合液混合、分散3小時，制備顏料分散液。在表中示出相應成分的使用量(單位：質量份)。[表2]表中的各成分的簡稱如下。[第2著色劑(在波長400nm～700nm的范圍內具有最大吸收的著色劑)]·PR254：C.I.顏料紅254·PB15：6：C.I.藍15：6·PY139：C.I.黃139·PV23：C.I.紫23[樹脂]·分散樹脂1：下述結構(Mw：19700，x/y/z＝10/78/12(質量％))[化45]·分散樹脂2：下述結構(Mw：11000)[化46]·分散樹脂3：下述結構(Mw：14000)[化47][有機溶劑]·PGMEA：丙二醇甲醚乙酸酯·ANONE：環己酮(實施例19、實施例20、比較例3)[著色組合物(硬化性組合物)的制備]將下述表的成分以下述表中記載的比例混合，制備著色組合物。在表中示出相應成分的使用量(單位：質量份)。[表3]實施例19實施例20比較例3顏料分散液1-132.33顏料分散液1-232.33顏料分散液2-129.5029.5029.50顏料分散液2-223.7923.7923.79聚合性化合物11.731.732.85堿可溶性樹脂11.331.335.40聚合引發劑10.850.850.85表面活性劑10.040.040.04聚合禁止劑10.0010.0010.001有機溶劑110.4310.4337.57表中的各成分的簡稱如下。·聚合性化合物1：卡亞拉得(KAYARAD)DPHA(日本化藥公司制造)·堿可溶性樹脂1：下述結構(Mw：11000)[化48]·聚合引發劑1：下述結構[化49]·表面活性劑1：美佳法(Megafac)F-781F(迪愛生(DIC)公司制造，含氟聚合物型表面活性劑)·聚合禁止劑1：對甲氧基苯酚(三立化學股份有限公司制造)·有機溶劑1：丙二醇甲醚乙酸酯[吸光度及分光特性]將著色組合物旋涂于玻璃基板上，以后烘烤后的膜厚成為3.0μm的方式涂布，在100℃下利用熱板干燥120秒鐘，干燥后，進而使用200℃的熱板進行300秒鐘的加熱處理(后烘烤)。對具有著色層的基板使用紫外可見近紅外分光光度計U-4100(日立高新技術(HitachiHightech)制造)(ref.玻璃基板)，在波長300nm～1300nm的范圍內測定光透過率、波長400nm～830nm的范圍內的吸光度的最小值A、波長1000nm～1300nm的范圍內的吸光度的最大值B。[彩色濾波器的制作]使用旋涂機，將實施例19、實施例20及比較例3的著色組合物以干燥后的膜厚成為1.0μm的方式涂布于硅晶片上，使用100℃的熱板進行120秒鐘的加熱處理(預烘烤)。繼而，使用i射線步進式曝光裝置FPA-3000i5+(佳能(Canon)(股)制造)，使用形成有1.4μm見方的正方形像素圖案的光掩模，自50mJ/cm2起以50mJ/cm2為單位上升至750mJ/cm2，確定解析所述正方形像素圖案的最適曝光量，以所述最適曝光量進行曝光。其后，將形成有經曝光的涂布膜的硅晶片載置于旋轉噴淋顯影機(DW-30型，化學電子(Chemitronics)(股)制造)的水平旋轉臺上，使用CD-2060(富士膠片電子材料(FujifilmElectronicsMaterials)(股)制造)在23℃下進行60秒鐘旋覆浸沒式顯影，在硅晶片上形成著色圖案。利用純水對形成有著色圖案的硅晶片進行淋洗處理，其后進行噴霧干燥。進而，使用200℃的熱板進行300秒鐘的加熱處理(后烘烤)，分別獲得作為實施例19、實施例20及比較例3的彩色濾波器的具有著色圖案的硅晶片。＜評價＞[耐熱性]利用熱板將彩色濾波器在260℃下加熱300秒。測定加熱前后的彩色濾波器對波長400nm～830nm的光的透過率(單位％)，評價透過率的變化。透過率的變化＝|(加熱后的透過率-加熱前的透過率)|＜評價基準＞3：加熱前后的透過率的變化率小于3％2：加熱前后的透過率的變化率為3％以上且小于5％1：加熱前后的透過率的變化率為5％以上[分光識別]依照公知的方法將所得的彩色濾波器作為近紅外線濾波器而組入至固體攝像元件中。對所得的固體攝像元件在低照度的環境下(0.001Lux)照射發光波長940nm的近紅外LED光源，進行圖像的擷取，對圖像性能進行比較評價。將評價基準示于以下。＜評價基準＞3：良好可在圖像上清晰識別被攝體。2：稍良好可在圖像上識別被攝體。1：不充分無法在圖像上識別被攝體。[表4]使用本發明的著色感組合物的實施例19、實施例20均在來源于可見光的噪聲少的狀態下，使發光波長940nm的近紅外線透過，分光識別良好。另一方面，比較例3中，來源于可見光的噪聲多，分光識別不充分。(試驗例2)＜組合物(分散液)的制備2＞利用涂料振蕩器將2.1質量份的進行了鹽研磨處理的近紅外吸收性色素(A-1)、4.3質量份的其他色素(PR254)、1.9質量份的色素衍生物(B-1)、6.6質量份的分散樹脂(C-3)、85質量份的溶劑(PGMEA)及400質量份的直徑0.5mm的氧化鋯珠進行30分鐘分散處理后，使用日本頗爾(Pall)制造的DFA4201NXEY(0.45μm尼龍過濾器)進行過濾，通過過濾將珠分離，制備實施例101的組合物(分散液)。關于其他實施例的組合物，也以下述表中所示的比例將各成分混合，在所述條件下制備組合物。在表中示出相應成分的使用量(單位：質量份)。[表5]所述表中記載的記號表示下述化合物。·PR254：C.I.顏料紅254·PB15：6：C.I.藍15：6·PY139：C.I.黃139·PV23：C.I.紫23·PGMEA：丙二醇甲醚乙酸酯·分散樹脂C-1、分散樹脂C-3、分散樹脂C-5：上文所述的分散樹脂C-1、分散樹脂C-3、分散樹脂C-5·分散樹脂C-6、分散樹脂C-7：下述結構[化50]＜分散樹脂(C-7)的合成＞依照下述流程來合成分散樹脂(C-7)。[化51]將36質量份的28％氨水、39質量份的1,8-萘二甲酸酐及200質量份的水在75℃下攪拌2小時后，冷卻至20℃，將析出的結晶過濾，以20質量份的水、20質量份的甲醇進行清洗。對所得的結晶在40℃下進行20小時送風干燥，由此獲得36.1質量份的(C-7-a)。將34.5質量份的(C-7-a)、40質量份的氯甲基苯乙烯(CMS-P，AGC清美化學(股)制造)、0.06質量份的硝基苯、29.3質量份的二氮雜雙環十一烯(DBU)及145質量份的N-甲基吡咯烷酮在50℃下攪拌4小時后，冷卻至30℃，添加272質量份的甲醇。在5℃下攪拌30分鐘后，將析出的結晶過濾，以150質量份的甲醇進行清洗。對所得的結晶在40℃下進行20小時送風干燥，由此獲得46.5質量份的(C-7-b)。將1757質量份的ε-己內酯、200質量份的2-乙基己醇及0.9質量份的氧化單丁基錫在90℃下攪拌5小時后，在110℃下攪拌10小時，獲得(C-7-c)。冷卻至80℃，添加0.6質量份的二丁基羥基甲苯(BHT)及242質量份的卡蘭茨(Karenz)MOI(昭和電工(股)制造)，在80℃下攪拌1小時。添加2200質量份的丙二醇單甲醚乙酸酯(PGMEA)，獲得(C-7-d)的50質量％溶液。將65質量份的(C-7-b)、700質量份的(C-7-d)的50質量％溶液、85質量份的甲基丙烯酸、478質量份的丙二醇單甲醚(PGME)及37.3質量份的十二烷硫醇在氮氣環境下在80℃下攪拌。添加2.1質量份的V-601(和光純藥工業(股)制造)并在80℃下攪拌2小時，將所述步驟反復進行3次后，在90℃下攪拌2小時，添加644質量份的PGMEA，獲得2023質量份的(C-7)的25質量％溶液。GPC測定(四氫呋喃(THF)溶液，標準聚苯乙烯換算)的結果為重量平均分子量8000，酸價測定(THF/水溶液，滴定液：0.1N的NaOH水溶液)的結果為105mgKOH/g。＜硬化性組合物的制備＞將下述成分混合后，使用日本頗爾(Pall)制造的DFA4201NXEY(0.45μm尼龍過濾器)進行過濾，制作硬化性組合物。·所述獲得的分散液：13.5質量份·聚合性化合物：賽克羅馬(Cyclomer)P(ACA)230AA(大賽璐(Daicel)化學工業(股)制造)：25質量份·聚合性化合物：卡亞拉得(KAYARAD)DPHA(日本化藥(股)制造)：3.2質量份·光聚合引發劑：艷佳固(IRGACURE)OXE01(巴斯夫(BASF)公司制造)：2質量份·聚合禁止劑：對甲氧基苯酚：0.001質量份·表面活性劑：美佳法(Megafac)F-781F(迪愛生(DIC)公司制造，含氟聚合物型表面活性劑)：0.004質量份·有機溶劑：丙二醇單甲醚乙酸酯)：56質量份依照試驗例1的硬化膜的制作方法來制造硬化膜。依照試驗例1的評價方法來評價分散液的粘度、剛制造后的分散液所含的色素粒子的平均一次粒徑及平均二次粒徑、硬化膜的耐光性。另外，利用以下方法來評價觸變性。另外，對實施例1的組合物的觸變性也進行評價。＜觸變性＞使用E型粘度計在25℃下測定20rpm及50rpm時的分散液的粘度，將粘度(20rpm)/粘度(50rpm)定義為觸變指數(TI值)并按下述基準進行評價。A：良好TI值為1以上且1.3以下B：稍良好TI值超過1.3且為1.5以下C：充分TI值超過1.5且為2以下D：不充分TI值超過2[表6]分散液粘度硬化膜耐光性平均一次粒徑平均二次粒徑TI值實施例101AAAAA實施例102AAAAA實施例103AAAAA實施例104AAAAA實施例105AAAAB實施例106AAAAB實施例107AAAAB實施例108AAAAA實施例109AAAAA實施例110AAAAA實施例111AAAAA實施例112AAAAB實施例113AAAAB實施例114AAAAB實施例115AAAAA實施例116AAAAA實施例1AAAAC如由所述結果所表明，本發明的組合物(分散液)的粘度低，且色素粒子的分散性良好。使用本發明的硬化性組合物的硬化膜的耐光性優異。另外得知，將式(1)所表示的色素與其他色素共分散而成的實施例101～實施例116與單獨進行式(1)所表示的色素的分散的實施例1相比，就觸變性的觀點而言更優異。實施例101中，即便將顏料衍生物變更為B-2～B-29、B-31～B-60，也可獲得與實施例101相同的效果。另外，實施例101中，即便將近紅外吸收色素與其他顏料中的近紅外吸收色素的比例變更為1質量％～80質量％，也可獲得與實施例101相同的效果。[顏料分散液3-1、顏料分散液3-2、顏料分散液3-3的制備]使用直徑0.3mm的氧化鋯珠，利用珠磨機(帶有減壓機構的高壓分散機NANO-3000-10(日本BEE(股)制造))將下述組成的混合液混合、分散，直至近紅外線吸收色素成為下述表所示的平均粒徑為止，制備顏料分散液。在表中示出相應成分的使用量(單位：質量份)。[表7](實施例117、實施例118)[硬化性組合物(著色組合物)的制備]將下述表的成分以下述表中記載的比例混合，制備著色組合物。在表中示出相應成分的使用量(單位：質量份)。[表8]實施例117實施例118顏料分散液3-149.77顏料分散液3-240.84顏料分散液3-395.04聚合性化合物11.961.84堿可溶性樹脂11.511.02聚合引發劑10.9410.883表面活性劑10.040.04聚合禁止劑10.0010.001有機溶劑14.941.18聚合性化合物1、堿可溶性樹脂1、聚合引發劑1、聚合禁止劑1、表面活性劑1及有機溶劑1為試驗例1的著色組合物的制備中說明的材料。使用實施例117及實施例118的著色組合物，利用與實施例19及實施例20相同的方法來制造彩色濾波器，利用與實施例19及實施例20相同的方法來進行耐熱性及分光識別的評價，結果實施例19、實施例20同樣地可獲得良好的結果。＜硬化性組合物(近紅外線吸收性組合物)的制備＞將下述成分混合，制備實施例201的近紅外線吸收性組合物。另外，在實施例201的近紅外線吸收性組合物中，將實施例101的分散液變更為實施例102～實施例116的分散液，制備實施例202～實施例216的近紅外線吸收性組合物。·實施例101的分散液：28.0質量份·聚合性化合物1：6.83質量份·堿可溶性樹脂1：6.73質量份·聚合引發劑1：1.96質量份·聚合禁止劑1：0.003質量份·表面活性劑1：0.04質量份·有機溶劑1：56.44質量份聚合性化合物1、堿可溶性樹脂1、聚合引發劑1、聚合禁止劑1、表面活性劑1及有機溶劑1為試驗例1的著色組合物的制備中說明的材料。＜硬化膜的制作＞利用旋涂法將近紅外線吸收性組合物涂布于玻璃基板上，其后使用熱板，在100℃下進行2分鐘硬化處理，在230℃下進行5分鐘硬化處理，獲得約2.0μm的硬化膜。＜近紅外線遮蔽性評價＞使用分光光度計U-4100(日立高新技術(HitachiHigh-technologies)公司制造)來測定所述制作的硬化膜的分光透過率。得知實施例201的硬化膜的波長500nm～600nm的最小透過率為85％，800nm～850nm的最大透過率為10％，1000nm～1300nm的最小透過率為90％以上。實施例202～實施例216中也可獲得同樣的光譜。得知根據本發明，在將硬化性組合物制成硬化膜時可維持高的近紅外線遮蔽性。(試驗例3)＜組合物(分散液)的制備＞利用涂料振蕩器將10質量份的進行了鹽研磨處理的下述表記載的近紅外吸收性色素、3.0質量份的下述表記載的色素衍生物、7.8質量份的下述表記載的分散樹脂、109質量份的下述表記載的溶劑、及520質量份的直徑0.5mm的氧化鋯珠進行30分鐘分散處理后，使用日本頗爾(Pall)制造的DFA4201NXEY(0.45μm尼龍過濾器)進行過濾，通過過濾將珠分離，制備組合物(分散液)。使用所得的組合物(分散液)，利用與試驗例1相同的方法制備硬化性組合物，依照試驗例1的硬化膜的制作方法來制造硬化膜。依照試驗例1的評價方法來評價分散液的粘度、剛制造后的分散液所含的色素粒子的平均一次粒徑及平均二次粒徑、硬化膜的耐光性。再者，以下的表中記載的記號表示下述化合物。A-1～A-10：上文所述的化合物B-1、B-30、B-57、B-58、B-60：上文所述的化合物B-61、B-62：下述結構C-3、C-4、C-5、C-7：上文所述的分散樹脂C-8：下述結構(重量平均分子量＝13800，酸價＝6mgKOH/g，胺價＝106mgKOH/g)[化52][表9]如由所述結果所表明，本發明的組合物(分散液)的粘度低，色素粒子的分散性良好。使用本發明的硬化性組合物的硬化膜的耐光性優異。＜硬化性組合物(近紅外線吸收性組合物)的制備＞將下述成分混合，制備實施例401的近紅外線吸收性組合物。另外，在實施例401的近紅外線吸收性組合物中，將實施例301的分散液變更為實施例302～實施例345的分散液，制備實施例402～實施例445的近紅外線吸收性組合物。·實施例301的分散液：28.0質量份·聚合性化合物1：6.83質量份·堿可溶性樹脂1：6.73質量份·聚合引發劑1：1.96質量份·聚合禁止劑1：0.003質量份·表面活性劑1：0.04質量份·有機溶劑1：56.44質量份聚合性化合物1、堿可溶性樹脂1、聚合引發劑1、聚合禁止劑1、表面活性劑1及有機溶劑1為試驗例1的著色組合物的制備中說明的材料。＜硬化膜的制作方法＞利用旋涂法將近紅外線吸收性組合物涂布于玻璃基板上，其后使用熱板，在100℃下進行2分鐘硬化處理，在230℃下進行5分鐘硬化處理，獲得約2.0μm的硬化膜。＜近紅外線遮蔽性評價＞使用分光光度計U-4100(日立高新技術(HitachiHigh-technologies)公司制造)來測定所述制作的硬化膜的分光透過率。得知實施例401～實施例441的硬化膜的波長500nm～600nm的最小透過率為85％，800nm～850nm的最大透過率為10％，1000nm～1300nm的最小透過率為90％以上。得知實施例442～實施例445的硬化膜的波長600nm～700nm的最小透過率為85％，900nm～950nm的最大透過率為10％，1100nm～1300nm的最小透過率為90％以上。得知根據本發明，可形成具有高的近紅外線遮蔽性的硬化膜。[符號的說明]110：固體攝像元件111：近紅外線截止濾波器112：彩色濾波器113：紅外線透過濾波器114：區域115：微透鏡116：平坦化層201：透鏡光學系統210：固體攝像元件220：信號處理部230：信號切換部240：控制部250：信號存儲部260：發光控制部280、281：圖像輸出部當前第1頁1 2 3