專利名稱：皮炎治療劑的制作方法
技術領域：
本發明涉及對治療特應性皮炎等皮炎有用的新的外用藥。
背景技術：
皮炎是皮膚對各種內在、外在原因的炎癥反應，該疾病包括特應性皮炎、接觸性皮炎、脂溢性皮炎、錢幣狀濕疹、自體敏感性濕疹等。這些皮炎在多數情況下伴隨有搔癢。另夕卜，在這些當中，特應性皮炎是癥狀消失及惡化不斷反復的頑固性的慢性炎癥性疾病，其發病和慢性化方面顯示出與嗜酸性中性粒細胞或淋巴細胞浸潤以及伴隨炎癥部位的各種細胞因子的產生的遲發型反應有關(非專利文獻I和2)。特應性皮炎的治療中，在發病 惡化因子的除去和皮膚養護的同時，可以根據癥狀使用藥物療法，但對于炎癥，主要使用類固醇類外用藥。另外，最近作為免疫抑制劑的一種的他克莫司(tacrolimus)被用于特應性皮炎治療。然而，從安全性和副作用的觀點出發，這些現有的藥劑未必令人滿意。因此，期望開發出不僅有效性高而且安全性高的皮炎治療劑。已知作為本發明的有效成分的化合物[I]具有選擇性磷酸二酯酶IV (PDE IV)抑制作用，作為哮喘等的預防 治療劑有用(專利文獻I和2)。然而，還沒有報道該化合物[I]可用作特應性皮炎等皮炎的治療劑。專利文獻1:歐洲專利第748805號(第2頁)專利文獻2 :歐洲專利第848000號(第2頁)非專利文獻I Iwamoto 等，J. Leukoc. Biol. , Vol. 52，pp. 572-578 (1992)非專利文獻2 Frigas 等，J. Allergy Clin. Tmmunol. , Vol. 77, pp. 527-537 (1986)

發明內容
發明要解決的問題本發明提供對特應性皮炎等皮炎的治療有用的新的外用藥。用于解決問題的手段本發明涉及一種外用皮炎治療劑，其以下式[I]所示的化合物或者其藥理上可允許的鹽為有效成分而形成，

權利要求
1.一種下式的化合物或其水合物，或者其藥理上可允許的鹽
2. 一種下式[I]的化合物或其藥理上可允許的鹽的制備方法
3.根據權利要求2所述的方法，其中所述化合物[II]中的Ra為低級烷基，所述化合物 [II]中的Rb為低級烷基和所述化合物[III-a]或[III-b]中的Z為叔丁基二甲基甲硅烷基。
4.根據權利要求3所述的方法，其中所述步驟(b)中的還原在硼氫化鈉的存在下進行。
5.一種光學活性四氫喹啉化合物，所述光學活性四氫喹啉化合物由下式表示
6.根據權利要求5所述的光學活性四氫喹啉化合物，其中Z為叔丁基二甲基甲硅烷基。
7.一種由下式表示的光學活性四氫喹啉化合物的制備方法
8.根據權利要求7所述的方法，其中Z為叔丁基二甲基甲硅烷基，R為芐氧羰基和所述 CBS催化劑為(R)-2-甲基-CBS-噁唑硼烷或(S)-2-甲基-CBS-噁唑硼烷。
全文摘要
本發明提供一種外用皮炎治療劑，其以下式[I]所示的化合物或者其藥理上可允許的鹽為有效成分而形成，式中，R1和R2表示低級烷氧基，＝Ｘ-表示式所示的基團或式＝N-所示的基團，環A表示具有選自羥基、氧基、低級烷氧基、二低級烷氨基苯基、哌啶子基低級烷氧基、嗎啉基低級烷氧基、低級環烷基氨基低級烷氨基、吡啶基以及嗎啉基中的1～4個取代基的飽和或不飽和二環式含氮雜環基，表示單鍵或雙鍵。
文檔編號C07D401/04GK103030628SQ20121049512
公開日2013年4月10日 申請日期2006年10月5日 優先權日2005年10月5日
發明者直塚敦子, 菊地松夫 申請人:田邊三菱制藥株式會社