一種泡生法避免熔體與坩堝粘連的裝置的制造方法
【專利摘要】本實用新型公開了一種泡生法避免熔體與坩堝粘連的裝置，它包括真空隔、熱場支撐、坩堝、坩堝支撐、保溫層、加熱體和提拉桿，熱場支撐位于真空隔內腔底部，熱場支撐上安裝有坩堝支撐，坩堝支撐上安裝有坩堝，加熱體安裝在坩堝支撐上，且坩堝位于加熱體的內腔內，保溫層將加熱體包覆，且在坩堝口上方的保溫層下表面上設置有隔熱環，隔熱環與坩堝內切且位于坩堝口上方，在頂部的保溫層內還設置有一籽晶桿，在隔熱環上開設有籽晶通過的通道，頂部的保溫層上表面與提拉桿連接，且提拉桿穿過真空隔的頂部。本實用新型的有益效果是：它具有保障晶體正常生長、增加坩堝使用壽命和節約成本的優點。
【專利說明】
一種泡生法避免熔體與坩堝粘連的裝置
技術領域
[0001]本實用新型涉及晶體生產裝置，特別是一種泡生法避免熔體與坩堝粘連的裝置。 【背景技術】
[0002]當前泡生法藍寶石晶體生長方式是最普遍的生長工藝，晶體質量較高，全球用于 LED襯底的藍寶石基板70%以上為泡生法或各種改良型泡生法生長。泡生法設備的價值比較高，一個坩堝一般都在40萬元左右，所以要盡可能的降低不良產品的比例和避免生長的失敗，同時盡可能的增加坩堝的使用壽命。在泡生法生長過程中因高溫(2050度以上)原料融化成液態熔體，在晶體生長過程中熔體液面逐步下降，整個熱場的溫度逐步下降，熱場上部低于熱場下部的溫度，部分熔體在晶體的生長過程中沒有形成晶體或跟隨熔體液面下降， 冷凝粘連在坩堝內壁，最壞的情況是熔體和坩堝粘連嚴重，晶體無法生長。當下一次使用坩堝時需要去除內壁的原料粘連殘留物，在去除粘連殘留物時會對坩堝造成損傷，減少坩堝壽命，浪費了原料。【實用新型內容】
[0003]本實用新型的目的在于克服現有技術的缺點，提供一種泡生法避免熔體與坩堝粘連的裝置。
[0004]本實用新型的目的通過以下技術方案來實現:一種泡生法避免熔體與坩堝粘連的裝置，它包括真空隔、熱場支撐、坩堝、坩堝支撐、保溫層、加熱體和提拉桿，所述的加熱體、 保溫層、坩堝、坩堝支撐和熱場支撐均位于真空隔內，所述的熱場支撐位于真空隔內腔底部，在熱場支撐上安裝有坩堝支撐，坩堝支撐上安裝有坩堝，所述的加熱體安裝在坩堝支撐上，且坩堝位于加熱體的內腔內，所述的保溫層將加熱體包覆，且在坩堝口上方的保溫層下表面上設置有隔熱環，所述的隔熱環與坩堝內切且位于坩堝口上方，在頂部的保溫層內還設置有一籽晶桿，在隔熱環上開設有籽晶通過的通道，所述的頂部的保溫層上表面與提拉桿連接，且提拉桿穿過真空隔的頂部。
[0005]所述的提拉桿上套裝有波紋管，且波紋管位于真空隔頂部上方。
[0006]本實用新型具有以下優點:本實用新型減少避免了泡生法生長過程中原料熔體與坩堝內壁的粘連，保障了晶體的正常生長，增加了坩堝的使用壽命，節約了原料，創造更多的經濟價值。【附圖說明】[00〇7]圖1為本實用新型的結構;意圖
[0008]圖中，1-波紋管，2-提拉桿，3-加熱體，4-籽晶桿，5-隔熱環，6-籽晶，7-生長中的晶體，8-坩堝，9-溶體，10-坩堝支撐，11-熱場支撐，12-真空隔，13-保溫層。【具體實施方式】
[0009]下面結合附圖對本實用新型做進一步的描述，本實用新型的保護范圍不局限于以下所述:
[0010]如圖1所示，一種泡生法避免熔體與坩堝粘連的裝置，它包括真空隔12、熱場支撐 11、坩堝8、坩堝支撐10、保溫層13、加熱體3和提拉桿2,所述的加熱體3、保溫層13、坩堝8、坩堝支撐10和熱場支撐11均位于真空隔12內，所述的熱場支撐11位于真空隔12內腔底部，在熱場支撐11上安裝有坩堝支撐10,坩堝支撐10上安裝有坩堝8,所述的加熱體3安裝在坩堝支撐10內，且坩堝8位于加熱體3的內腔內，所述的保溫層13將加熱體3包覆，且在坩堝口上方的保溫層13下表面上設置有隔熱環5,所述的隔熱環5與坩堝8內切且位于坩堝口上方，從而使得頂部的保溫層13與坩堝8之間具有一定的間隙，加熱體3產生的熱量從間隙中進入坩堝8內，從而使得坩堝8的中心和邊緣熱場相對均衡，而隔熱環5將會對進入到坩堝8內部的熱量進行引導，使得進入到坩堝8內的熱量經過隔熱環5的阻擋引流后集中在坩堝8的邊緣， 使得坩堝邊緣原料熔體有足夠的熱量隨著整個液面下降，從而避免了坩堝內壁的冷凝粘接，在頂部的保溫層13內還設置有一籽晶桿4,在隔熱環5上開設有籽晶6通過的通道，位于坩堝8底部的熔體9在加熱體3的加熱下，使得晶體生長，且在熔體9的上表面形成生長中的晶體7,而形成的籽晶6則與籽晶桿4接觸，所述的的頂部的保溫層13上表面與提拉桿2連接， 且提拉桿2穿過真空隔12的頂部，所述的提拉桿2上套裝有波紋管1，且波紋管1位于真空隔 12頂部上方。
[0011]本實用新型的工作原理如下:在坩堝8與頂部的保溫層13之間有一定間隔，熱量從間隔進入坩堝8內，坩堝8的中心和邊緣熱場相對均衡，而隔熱環5與坩堝8內腔內切且與坩堝口有一段距離，熱場的熱量經過隔熱環5的阻擋引流主要集中在坩堝8內壁邊緣部分，使坩堝8邊緣原料熔體有足夠的熱量隨整個液面下降，避免與坩堝8內壁的冷凝粘連，在坩堝8 下次使用時減少避免因處理內壁原料熔體粘連殘留物對坩堝的損傷，從而降低了勞動強度，延長了坩堝8的使用壽命。
【主權項】
1.一種泡生法避免熔體與坩堝粘連的裝置，其特征在于:它包括真空隔(12)、熱場支撐 (11)、坩堝(8)、坩堝支撐(10)、保溫層(13)、加熱體(3)和提拉桿(2)，所述的加熱體(3)、保 溫層(13)、坩堝(8)、坩堝支撐(10)和熱場支撐(11)均位于真空隔(12)內，所述的熱場支撐 (11)位于真空隔(12)內腔底部，在熱場支撐(11)上安裝有坩堝支撐(10)，坩堝支撐(10)上 安裝有坩堝(8)，所述的加熱體(3)安裝在坩堝支撐(10)上，且坩堝(8)位于加熱體(3)的內 腔內，所述的保溫層(13)將加熱體(3)包覆，且在坩堝口上方的保溫層(13)下表面上設置有 隔熱環(5)，所述的隔熱環(5)與坩堝(8)內切且位于坩堝口上方，在頂部的保溫層(13)內還 設置有一籽晶桿(4)，在隔熱環(5)上開設有籽晶(6)通過的通道，所述的頂部的保溫層(13) 上表面與提拉桿(2)連接，且提拉桿(2)穿過真空隔(12)的頂部。2.根據權利要求1所述的一種泡生法避免熔體與坩堝粘連的裝置，其特征在于:所述的 提拉桿(2)上套裝有波紋管(1)，且波紋管(1)位于真空隔(12)頂部上方。
【文檔編號】C30B17/00GK205603721SQ201620277577
【公開日】2016年9月28日
【申請日】2016年4月6日
【發明人】錢幼平, 陳宣澄, 婁澤亮
【申請人】四川鑫通新材料有限責任公司