一種vgf晶體爐支撐裝置的制造方法
【技術領域】
[0001 ]本實用新型涉及一種VGF晶體爐支撐裝置。
【背景技術】
[0002]垂直梯度凝固法(VGF)生長單晶的過程是將裝有物料的石英生長管垂直置于爐中，設定相應的溫度梯度，物料全熔后，從下部一端緩慢結晶并延續到上部一端的晶體生長方法。
[0003]在VGF晶體爐使用過程中，石英生長管被要求從晶體爐內取出、放入以及升降等操作，由于石英制品光滑易碎，對操作人員要求很高。操作人員徒手操作很難保證石英制品不被碰撞，這有可能損毀石英生長管的密封性及力學強度，造成晶體生長失敗。
【實用新型內容】
[0004]本實用新型的目的在于提供一種VGF晶體爐支撐裝置，在不改變VGF晶體爐結構及溫場的情況下能安全有效的操作石英生長管。
[0005]為實現上述目的，本實用新型采用以下技術方案:
[0006]—種VGF晶體爐支撐裝置，該支撐裝置為一金屬支架，由三根等長的支撐柱及連接在支撐柱兩端的相互平行的等邊三角形構成。
[0007]其中，所述三角形的外切圓直徑略小于晶體爐爐膛內徑且大于保溫筒的石英支撐管的外徑。
[0008]所述三根支撐柱的橫截面直徑均為2cm。
[0009]本實用新型的優點在于:
[0010]本實用新型的支撐裝置可以升降石英支撐管，有利于石英生長管的放入、取出、升降等操作，而不改變晶體爐的溫場等條件。本實用新型的支撐裝置使得石英生長管的操作簡單易行，安全性高，實用性強。
【附圖說明】
[0011]圖1為本實用新型的VGF晶體爐支撐裝置的立體圖。
[0012]圖2為石英生長管及其露出晶體爐的結構圖。
[0013]圖3為采用本實用新型的支撐裝置的保溫筒縱剖面和底部的示意圖。
[0014]圖4為石英生長管與晶體爐平齊的結構圖。
【具體實施方式】
[0015]以下結合附圖對本實用新型作進一步說明。
[0016]如圖1所示，本實用新型的VGF晶體爐支撐裝置為一金屬支架，由三根等長的支撐柱I及連接在支撐柱兩端的相互平行的等邊三角形2、3構成。支撐裝置的材質為不銹鋼。其中，三根不銹鋼支撐柱I的橫截面直徑均為2cm，支撐裝置可支撐50公斤重量，并能經受住500°C高溫。如圖2所示，不銹鋼三角形2、3外表面平滑，用于支撐晶體爐5內的保溫筒6。如圖3所示，不銹鋼三角形2、3的外切圓直徑略小于晶體爐5爐膛內徑且大于石英支撐管8的外徑，能夠有效支撐保溫筒內部的兩個圓形石英支撐管(圓形石英支撐管為保溫筒的支撐結構)。
[0017]該支撐裝置被使用于保溫筒底部，既能有效支撐保溫筒又能在晶體爐內升降，從而實現石英生長管4的升降。
[0018]采用該支撐裝置用于支撐VGF晶體爐的具體操作為:
[0019]將石英生長管裝進爐膛的操作:將保溫筒放置在支撐裝置上，讓支撐裝置對稱、有效的支撐住保溫筒6的兩根石英支撐管8，把保溫筒中的兩根熱電偶7的導線通過支撐柱之間的縫隙順出。將支撐裝置和保溫筒對稱放置于晶體爐膛正下方的升降平臺上，通過VGF晶體爐的升降平臺將支撐裝置升高到合適的位置，此位置保證在石英生長管被放置在爐膛內時石英生長管仍露出爐膛約15cm(如圖2所示)以方便操作人員雙手握持石英生長管。操作人員雙手握持石英生長管上部，豎直將其放入爐膛，將石英生長管底部緩慢插入保溫筒。通過VGF晶體爐的升降平臺緩慢下降，把石英生長管降至與晶體生長爐上端平齊(如圖4所示)，將石英生長管裝進爐膛的操作完畢。
[0020]將石英生長管從爐膛取出的操作:通過VGF晶體爐的升降平臺，將支撐裝置升高15cm，使石英生長管露出爐膛15cm(如圖2所示)，操作人員雙手握持石英生長管頂部，將其緩慢取出爐膛。
【主權項】
1.一種VGF晶體爐支撐裝置，其特征在于，該支撐裝置為一金屬支架，由三根等長的支撐柱及連接在支撐柱兩端的相互平行的等邊三角形構成。2.根據權利要求1所述的VGF晶體爐支撐裝置，其特征在于，所述三角形的外切圓直徑略小于晶體爐爐膛內徑且大于保溫筒的石英支撐管的外徑。3.根據權利要求1或2所述的VGF晶體爐支撐裝置，其特征在于，所述三根支撐柱的橫截面直徑均為2cm。
【專利摘要】本實用新型公開了一種VGF晶體爐支撐裝置，該支撐裝置為一金屬支架，由三根等長的支撐柱及連接在支撐柱兩端的相互平行的等邊三角形構成；其中所述三角形的外切圓直徑略小于晶體爐爐膛內徑且大于保溫筒的石英支撐管的外徑，所述三根支撐柱的橫截面直徑分別為2cm。本實用新型的支撐裝置可以升降石英生長管，有利于石英生長管的放入、取出、升降等操作，而不改變晶體爐的溫場等條件。本實用新型的支撐裝置使得石英生長管的操作簡單易行，安全性高，實用性強。
【IPC分類】C30B11/00
【公開號】CN205275774
【申請號】CN201521068346
【發明人】劉春雷, 于洪國, 龍彪, 時彬, 張海濤, 周曉霞, 岳云雷, 趙靜敏
【申請人】有研光電新材料有限責任公司
【公開日】2016年6月1日
【申請日】2015年12月21日