制備石英玻璃砣的沉積爐的制作方法
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及石英玻璃砣制備技術領域，尤其涉及一種制備石英玻璃砣的沉積爐。
【背景技術】
[0002]高均勻合成石英玻璃是航天、核技術、激光、精密儀器等高科技領域的不可替代的關鍵基礎材料，光學不均勻嚴重影響光學系統的成像質量。
[0003]目前，合成石英玻璃砣的熔制方法主要有臥式沉積爐化學氣相沉積法和立式沉積爐化學氣相沉積法。由于臥式沉積爐化學氣相沉積法無法生產大尺寸、高重量的石英玻璃砣，且爐溫低、能耗大且效率低，已逐步被立式沉積爐化學氣相沉積所取代。現有立式沉積爐化學氣相沉積技術中，主要是通過將氫氣和氧氣在燃燒器中燃燒產生水蒸氣后與燃燒器下料管中氣態四氯化硅反應產生二氧化硅顆粒，二氧化硅顆粒直接沉積在基礎桿上形成石英玻璃蛇。在沉積石英玻璃蛇過程，通過尚溫恪融的石英玻璃蛇的尚心力和重力作用，被迫使中心的石英玻璃逐步向邊部擴散而生長成形，以便得到較大直徑的石英玻璃砣。而為了保證石英玻璃砣的穩定成形，必然要求沉積砣面存在一定的溫度梯度，否則如果中心與邊部溫度一致，玻璃液在高溫下會無限的流動，造成石英玻璃砣無法成形。因此，采用該方法沉積合成石英玻璃，不管設置多少個燃燒器，均要求沉積面的溫度梯度至少在200°C以上。
[0004]沉積面的溫度梯度會使石英玻璃砣的中心到邊部的結構存在較大差異，如石英玻璃的羥基含量沿中心到邊部逐漸降低，這導致了石英玻璃的折射率、密度等分布不均勻，進而影響石英玻璃的沉積面方向的結構均勻性。同時，采用該沉積爐制造石英玻璃砣的沉積機理是依靠離心力和重力作用被迫由中心逐步向邊部擴散而形成的，即整個沉積面為正態分布形態，導致石英玻璃砣的縱向分布出現層狀現象，嚴重影響了其縱向結構均勻性。因此，采用現有的沉積爐制造的石英玻璃砣都存在結構不均勻的現象，進而影響石英玻璃的一維和三維的光學均勻性、應力等性能，最終破壞航天、核技術、精密儀器等領域精密光學系統的成像質量。
【實用新型內容】
[0005]有鑒于此，本實用新型實施例提供一種制備石英玻璃砣的沉積爐，主要目的是減小沉積面的溫度梯度，提高石英玻璃砣組分分布的一致性，生產出徑向與軸向結構均勻的石英玻璃石它。
[0006]為達到上述目的，本實用新型主要提供如下技術方案:
[0007]—方面，本實用新型實施例提供了一種制備石英玻璃砣的沉積爐，包括:
[0008]爐體，所述爐體由爐頂、爐壁和爐底組成，所述爐頂、爐壁和爐底圍成爐膛；
[0009]燃燒器，設置于爐頂；
[0010]基礎桿，自所述爐底垂直伸入到所述爐膛內，所述基礎桿可相對于爐體在垂直方向上移動，所述基礎桿可以其軸線為旋轉軸轉動；
[0011]沉積基底，設于基礎桿的頂部，與基礎桿固定連接，所述沉積基底的直徑大于基礎桿的直徑，所述沉積基底為石英玻璃砣的沉積提供基礎；
[0012]輔助加熱裝置，在所述爐膛內圍繞沉積基底的外圍設置，用于提高石英玻璃沉積砣邊緣溫度。
[0013]作為優選，所述沉積基底為沉積池，所述沉積池由底面和側壁圍成。
[0014]作為優選，所述沉積池的側壁與底面的角度為90°?150°。
[0015]作為優選，所述沉積基底的材質為耐火材料，所述耐火材料為氧化鋁、氧化鋯或鋯石英。
[0016]作為優選，所述輔助加熱裝置為電阻絲加熱、高溫加熱棒或氫氧火焰燃燒器。
[0017]作為優選，所述輔助加熱裝置與沉積基底之間設置一圈爐襯，所述爐襯上具有多個導熱通孔，導熱通孔的直徑為2mm?20mm。
[0018]作為優選，所述爐襯采用碳化硅、氮化硅或氧化鋁制成。
[0019]作為優選，所述燃燒器與垂直線的夾角為0°?45°。
[0020]作為優選，所述燃燒器的個數不超過2個。
[0021]作為優選，燃燒器出口與沉積砣面之間的距離為200mm?400mm，沉積過程中燃燒器出口至沉積面的距離恒定。
[0022]作為優選，沉積爐的底部設置I?4個尾氣排風口，并采用強制排風裝置，使沉積爐膛內產生的尾氣有序排出，保證沉積爐膛內氣流場的穩定，以及使沉積爐膛內形成微正壓，防止外界空氣進入沉積爐膛內。
[0023]與現有技術相比，本實用新型的有益效果在于:
[0024]本實用新型實施例提供的制備石英玻璃砣的沉積爐采用輔助加熱裝置可以提高石英玻璃沉積砣邊緣的溫度，減小沉積面的溫度梯度，使沉積面中心至邊緣的溫度盡可能一致，進一步保證了石英玻璃中羥基等組分沿徑向與軸向分布均勻，從而提高石英玻璃的結構均勻性。并且輔助加熱裝置與燃燒器一起提高沉積溫度使二氧化硅在沉積過程中自由擴散，保證了石英玻璃中羥基等組分沿徑向與軸向分布均勻。從而提高石英玻璃的結構均勻性。本實用新型實施例中通過輔助加熱裝置提高石英玻璃沉積砣的沉積面的邊緣及整體的溫度，避免了采用多個燃燒器提高沉積面溫度造成爐膛內氣流紊亂，進而造成石英玻璃砣內形成氣泡、不均勻等嚴重質量缺陷的問題。
【附圖說明】
[0025]圖1為本發明實施例1的沉積爐的結構示意圖。
[0026]圖2為本發明實施例2的沉積爐的結構示意圖。
[0027]圖3為本發明實施例3的沉積爐的結構示意圖。
【具體實施方式】
[0028]下面結合具體實施例對本實用新型作進一步詳細描述，但不作為對本實用新型的限定。在下述說明中，不同的“一實施例”或“實施例”指的不一定是同一實施例。此外，一或多個實施例中的特定特征、結構、或特點可由任何合適形式組合。
[0029]圖1至圖3為本發明不同實施例的沉積爐的結構示意圖。如圖1至圖3所示，制備石英玻璃砣的沉積爐，包括:
[0030]爐體，爐體由爐頂5、爐壁7和爐底10組成，爐頂5、爐壁7和爐底10圍成爐膛11 ；[0031 ] 燃燒器4，設置于爐頂5 ；
[0032]基礎桿8，自爐底10垂直伸入到爐膛11內，基礎桿8可相對于爐體在垂直方向上移動，基礎桿可以其軸線為旋轉軸轉動；
[0033]沉積基底1，設于基礎桿8的頂部，與基礎桿固定連接，沉積基底I的直徑大于基礎桿8的直徑，沉積基底I為石英玻璃砣的沉積提供基礎；
[0034]輔助加熱裝置3，在爐膛11內圍繞沉積基底I的外圍設置，用于提高石英玻璃沉積砣邊緣溫度。
[0035]本實用新型實施例的制備石英玻璃砣的沉積爐采用輔助加熱裝置提高石英玻璃沉積砣邊緣的溫度，減小沉積面的溫度梯度，使沉積面中心至邊緣的溫度盡可能一致，同時提高了沉積面的整體溫度，進一步保證了石英玻璃中羥基等組分沿徑向與軸向分布均勻，從而提高石英玻璃的結構均勻性。并且輔助加熱裝置與最多兩個燃燒器一起提高沉積溫度使二氧化硅在沉積過程中自由擴散，保證了石英玻璃中羥基等組分沿徑向與軸向分布均勻。輔助加熱裝置3避免了現有技術中通過增加燃燒器4的數量增加沉積溫度而造成爐膛內氣流場的紊亂的問題。在沉積過程中各燃燒器間的氣流和火焰等相互干擾影響，擾亂爐膛內的氣流場。影響了石英玻璃砣的穩定沉積，并造成石英玻璃砣內形成氣泡、不均勻等嚴重質量缺陷，使制得的石英玻璃砣無法使用。本實用新型實施例通過輔助加熱裝置3提高沉積面的整體溫度及沉積面邊緣的溫度，使氣流場順暢，保證了石英玻璃砣的穩定沉積，進而提高其內在質量、減少缺陷的形成。
[0036]作為上述實施例的優選，沉積基底I為沉積池，沉積池由底面和側壁圍成。沉積池可以保證沉積過程二氧化硅自由流動，保證生成的石英玻璃砣的均勻一致。本實施例中，采用了沉積爐可以使沉積面的溫度提高到1300°C?1800°C，即溫度最低為1300°C，改變了現有技術中沉積面的邊緣的溫度必須低于1300°C的限制，本實施例中，沉積面的邊緣的溫度可提高至1600°C以上，保證沉積砣面的溫度分布均勻性、減少溫度梯度，保證了二氧化硅的自由擴散，提高了石英玻璃砣的均勻性。沉積池的側壁與底面的角度為90°?150°。如圖1所示的實施例中沉積池I的側壁與底面的角度為120° ;圖2所示的實施例中沉積池I的側壁與底面的角度為140° ;圖3所示的實施例中沉積池I的側壁與底面的角度為90°。有利于氣流場的穩定與順暢，以及保證石英玻璃砣可以在高溫下成形，避免沉積過程必須要求沉積砣面存在一定的溫度梯度的要求。沉積基底I的材質為耐火材料，沉積基底I的具體材料可選用氧化鋁、氧化鋯和鋯石英等。保證沉積池基底在高溫下的強度，實現制備過程中作為二氧化硅沉積基底的功能。
[0037]作為上述實施例的優選，輔助加熱裝置3的加熱方式可以是電阻絲加熱方式、高溫加熱棒加熱方式或氫氧火焰加熱方式等，具體采用的加熱裝置可以為高溫加熱棒(圖1所示實施例)、電阻絲加熱(圖2所示實施例)、高溫加熱棒或氫氧火焰燃燒器(圖3