帶有膜層均勻分散裝置的光學電鍍爐的制作方法
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及一種電鍍爐，尤其涉及一種可以光學電鍍中電鍍層厚度不均勻的缺陷進行修正的光學電鍍爐。
【背景技術】
[0002]在電鍍生產的過程中，常會對一些塑料材質的配件進行表面的電鍍，電鍍的工作在電鍍爐內完成，電鍍爐的底部設有用于加熱電鍍材料使其揮發出去的加熱盤，電鍍爐的頂部固定有用于固定被電鍍產品的鍋形結構的電鍍傘，該電鍍傘呈倒扣的鍋形結構，該倒扣的鍋狀的電鍍傘上設有許多個卡扣孔，被電鍍的材料通過先與夾具固定后，夾具通過其上端所設置的卡鉤與電鍍傘相互卡固固定后，夾具和被電鍍材料一起固定在電鍍傘的下方，被電鍍材料的被電鍍面朝向電鍍爐的下方，開始電鍍時，電鍍材料放置于電鍍爐底部的加熱盤，然后將電鍍爐的艙門關閉，電熱盤升溫，位于電熱盤內的電鍍材料在電熱盤的作用下快速揮發，揮發的電鍍材料通常會直接上升到電鍍爐頂部，之后從電鍍爐的頂部開始向下緩慢的流動，直到最終充滿電鍍爐的內部的空間，這些揮發的氣體附著在被電鍍材料的外側，最終形成穩定的電鍍層，目前的這種電鍍工藝中，由于電熱盤上方的電鍍材料在電鍍過程中始終會處于揮發狀態，因此位于加熱盤上方電鍍材料揮發煙霧的濃度始終會最大，造成電鍍過程的不均勻，盡管在電鍍過程中電鍍傘一直在緩慢旋轉，電鍍完成后位于加熱盤正上方位置電鍍傘上的被電鍍產品的電鍍層，往往比其他位置所固定的被電鍍產品表面的電鍍層更厚，導致了產品電鍍層厚度的不均勻，造成最終的產品表面顏色不一致。
【實用新型內容】
[0003]本實用新型是為了解決上述的技術問題，提供一種可以減輕電鍍過程中電鍍層厚度不均勻狀況的帶有膜層均勻分散裝置的光學電鍍爐。
[0004]本實用新型采用如下的技術方案:該帶有膜層均勻分散裝置的電鍍爐，包括控制電鍍爐進行電鍍的中央控制單元、圓筒狀的電鍍爐爐體、設于電鍍爐爐體內上方頂部的電鍍傘、以及在電鍍爐爐體內一側的底部設置并與中央控制單元相互電連接的電熱盤，被電鍍的產品固定于電鍍爐爐體內電鍍傘的下方，且被電鍍產品的被電鍍面朝向下方設置，還包括用于旋轉的葉片、隔熱板和驅動用的電機，所述的電機隔著隔熱板在電鍍爐爐體外側與電鍍爐爐體密封性固定連接，上述電機的轉動軸穿過隔熱板和電鍍爐爐體上所設的軸孔伸入電鍍爐爐體內，所述的葉片與轉動軸相互固定，該葉片的軸流出風面朝向電熱盤，所述的電機與上述的中央控制單元相互。
[0005]在本實用新型的帶有膜層均勻分散裝置的光學電鍍爐中，所述的電機和中央控制單元之間還連接有電機調速器裝置。
[0006]在本實用新型的帶有膜層均勻分散裝置的光學電鍍爐中，所述的葉片的材質為表面拋光并電鍍有銅的鋼材。
[0007]有益的效果:由于采用了上述的技術方案，本實用新型的帶有膜層均勻分散裝置的光學電鍍爐，可以通過調整葉片旋轉的速度在電鍍的過程中對電熱盤內揮發的電鍍物質氣體進行吹散，使電鍍物質揮發物不能隨著熱流豎直地上升到電鍍傘的下表面，不會使電鍍傘下表面對應電熱盤的位置電鍍層最厚，從而避免電鍍后電鍍層不均勻問題，可以充分利用電鍍料，保證電鍍質量的穩定。
【附圖說明】
[0008]下面結合附圖和實施例對本實用新型作進一步說明。
[0009]圖1、為本實用新型的電鍍爐的結構示意圖。
【具體實施方式】
[0010]如圖1所示，為本實用新型的帶有膜層均勻分散裝置的光學電鍍爐的一種實施例的結構示意圖，該帶有膜層均勻分散裝置的光學電鍍爐，包括控制電鍍爐進行電鍍的中央控制單元、圓筒狀的電鍍爐爐體1、設于電鍍爐爐體內上方的電鍍傘2、以及在電鍍爐爐體I內一側的底部設置并與中央控制單元相互電連接的電熱盤10，被電鍍的產品固定于電鍍爐爐體內電鍍傘的下方，且被電鍍產品的被電鍍面朝向下方設置，還包括用于旋轉的葉片8、隔熱板3和驅動用的電機18，所述的電機隔著隔熱板在電鍍爐爐體外側與電鍍爐爐體密封性固定連接，上述電機的轉動軸穿過隔熱板和電鍍爐爐體上所設的軸孔伸入電鍍爐爐體內，所述的葉片與轉動軸相互固定，該葉片的軸流出風面朝向電熱盤，所述的電機與上述的中央控制單元相互。
[0011]更進一步地，所述的電機和中央控制單元之間還連接有電機調速器裝置。
[0012]更進一步地，所述的葉片的材質為表面拋光并電鍍有銅的鋼材。本實用新型的帶有膜層均勻分散裝置的光學電鍍爐，可以通過調整葉片旋轉的速度在電鍍的過程中對電熱盤內揮發的電鍍物質氣體進行吹散，使電鍍物質揮發物不能隨著熱流豎直地上升到電鍍傘的下表面，不會使電鍍傘下表面對應電熱盤的位置電鍍層最厚，從而避免電鍍后電鍍層不均勻問題，可以充分利用電鍍料，保證電鍍質量的穩定。
【主權項】
1.一種帶有膜層均勻分散裝置的光學電鍍爐，包括控制電鍍爐進行電鍍的中央控制單元、圓筒狀的電鍍爐爐體、設于電鍍爐爐體內上方頂部的電鍍傘、以及在電鍍爐爐體內一側的底部設置并與中央控制單元相互電連接的電熱盤，被電鍍的產品固定于電鍍爐爐體內電鍍傘的下方，且被電鍍產品的被電鍍面朝向下方設置，其特征在于:還包括用于旋轉的葉片、隔熱板和驅動用的電機，所述的電機隔著隔熱板在電鍍爐爐體外側與電鍍爐爐體密封性固定連接，上述電機的轉動軸穿過隔熱板和電鍍爐爐體上所設的軸孔伸入電鍍爐爐體內，所述的葉片與轉動軸相互固定，該葉片的軸流出風面朝向電熱盤，所述的電機與上述的中央控制單元相互。2.如權利要求1所述的帶有膜層均勻分散裝置的光學電鍍爐，其特征在于:所述的電機和中央控制單元之間還連接有電機調速器裝置。3.如權利要求1所述的帶有膜層均勻分散裝置的光學電鍍爐，其特征在于:所述的葉片的材質為表面拋光并電鍍有銅的鋼材。
【專利摘要】本實用新型涉及一種帶有膜層均勻分散裝置的光學電鍍爐，包括控制電鍍爐進行電鍍的中央控制單元、圓筒狀電鍍爐爐體、設于電鍍爐爐體內上方頂部的電鍍傘、以及在電鍍爐爐體內一側底部設置并與中央控制單元相互電連接的電熱盤，還包括用于旋轉的葉片、隔熱板和驅動用的電機。本實用新型的帶有膜層均勻分散裝置的光學電鍍爐，可以通過調整葉片旋轉的速度在電鍍的過程中對電熱盤內揮發的電鍍物質氣體進行吹散，使電鍍物質揮發物不能隨著熱流豎直地上升到電鍍傘的下表面，不會使電鍍傘下表面與電熱盤對應的位置電鍍層最厚，從而避免電鍍后電鍍層不均勻問題，可以充分利用所有的電鍍料，保證電鍍質量的穩定性。
【IPC分類】C23C14/24
【公開號】CN205170962
【申請號】CN201520492192
【發明人】伍冬瑞
【申請人】深圳市聯懋塑膠有限公司
【公開日】2016年4月20日
【申請日】2015年7月9日