蒸鍍機的噴嘴系統的制作方法
【技術領域】
[0001 ] 本申請涉及PVD(Physical Vapor Deposit1n)領域，尤其涉及一種蒸鍍機的噴嘴系統。
【背景技術】
[0002]真空鍍膜是一種由物理方法產生薄膜材料的技術。在真空室內蒸發材料的原子從加熱源離析出來打到被鍍物體的表面上。
[0003]蒸發鍍膜是通過加熱蒸發某種物質使其沉積在固體表面的一種真空鍍膜技術。蒸發材料如金屬、化合物等置于坩禍內或掛在熱絲上作為蒸發源。待鍍工件，如金屬、陶瓷、塑料等基片置于坩禍前方。待坩禍抽至高真空后，加熱坩禍使其中的蒸發材料進而從噴嘴噴出。蒸發材料的原子或分子以冷凝方式沉積在基片表面。
[0004]如圖1和圖2所述為一種蒸鍍機的噴嘴系統的示意圖。
[0005]線源21作為蒸發材料收納于坩禍12內。待坩禍12抽至高真空后，加熱器13加熱坩禍12使線源21蒸發進而從噴嘴11噴出，線源21的原子或分子以冷凝的方式沉積在待鍍工件表面。
[0006]在實現現有技術過程中，發明人發現現有技術中至少存在如下問題:
[0007]坩禍12局部加熱不均勻時，或者，由于噴嘴11設置的傾斜角度不合理時，導致噴嘴11內蒸發材料分布不均勻，容易導致噴嘴11堵塞。當碰嘴11堵塞時，需要先降低坩禍12的溫度以免燙傷操作人員。接著，需要破除坩禍12內的真空，否則由于坩禍12內外氣壓差，不易除去噴嘴11內的堵塞。破除真空時，有大量保持真空的氮氣逸出，因此，需要等待氮氣完全逸出后，才能采取去除堵塞的動作，否則容易導致操作人員窒息。去除堵塞后，需要抽取坩禍12內空氣，保持坩禍12內真空環境，然后，加熱使得坩禍12升溫以便蒸發材料蒸發從而開始工作。從坩禍12降溫、破除真空、去除堵塞、抽真空、坩禍12升溫完成整個堵塞去除的時間較長。
[0008]因此，需要提供一種解決噴嘴11堵塞處理時間長的技術問題的技術方案。
【實用新型內容】
[0009]本申請實施例提供一種解決噴嘴堵塞處理時間長的技術問題的蒸鍍機的噴嘴系統。
[0010]具體的，一種蒸鍍機的噴嘴系統，包括:
[0011 ]具有用于收容蒸鍍材料的容納腔的載具；
[0012]布設于載具周圍的用于加熱蒸鍍材料的蒸鍍加熱器；
[0013]安裝于載具并用于供蒸鍍材料從載具中噴出的噴嘴；
[0014]用于推出噴嘴內堵塞的推出裝置。
[0015]優選的，所述推出裝置包括:
[0016]用于在噴嘴內滑動的頂針；
[0017]用于帶動頂針往復的推桿；
[0018]用于為推桿提供動力的動力機構。
[0019]優選的，所述動力機構包括與推桿固定連接的活塞、供活塞運動的氣缸。
[0020]優選的，所述動力機構經過一個周期推動推桿往復運動；
[0021 ]推桿帶動頂針在噴嘴內滑動。
[0022]優選的，所述載具為坩禍；
[0023]所述樹禍包括樹禍主體和樹禍蓋；
[0024]所述噴嘴系統還包括氣壓傳感器；
[0025]氣壓傳感器安裝于坩禍蓋，用于當坩禍主體內的氣壓超過閾值時發出偵測信號。
[0026]優選的，所述噴嘴系統還包括邏輯控制器；
[0027]所述邏輯控制器用于接收坩禍主體內的氣壓超過閾值的偵測信號，并向推出裝置發出運動的控制信號。
[0028]優選的，所述氣壓傳感器的耐高溫指標高于400°C。
[0029]本申請實施例提供的蒸鍍機的噴嘴系統，至少具有如下有益效果:
[0030]當噴嘴發生堵塞時，推出裝置將噴嘴內堵塞推出，從而可以解決噴嘴堵塞處理時間長的技術問題。
【附圖說明】
[0031]此處所說明的附圖用來提供對本申請的進一步理解，構成本申請的一部分，本申請的示意性實施例及其說明用于解釋本申請，并不構成對本申請的不當限定。在附圖中:
[0032]圖1為本申請實施例改進前的噴嘴系統示意圖。
[0033]圖2為圖1的剖視圖。
[0034]圖3為本申請實施例提供的嗔嘴系統的嗔嘴的不意圖。
[0035]圖4為本申請實施例提供的噴嘴系統的整體示意圖。
【具體實施方式】
[0036]為使本申請的目的、技術方案和優點更加清楚，下面將結合本申請具體實施例及相應的附圖對本申請技術方案進行清楚、完整地描述。顯然，所描述的實施例僅是本申請一部分實施例，而不是全部的實施例。基于本申請中的實施例，本領域普通技術人員在沒有做出創造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本申請保護的范圍。
[0037]蒸鍍工藝是一種通過加熱蒸發某種物質使其沉積在固體表面的一種真空鍍膜技術。
[0038]蒸鍍機是一種執行該蒸鍍工藝的專用設備。蒸鍍機在執行該蒸鍍工藝時，抽取真空，然后加熱蒸發材料使蒸發材料升華或汽化從噴嘴內噴出到待鍍工件表面。
[0039]在生成過程中待鍍工件置于噴嘴正對的位置。蒸發材料從噴嘴內連續噴出對待鍍工件的加工質量有重大影響。
[0040]請參照圖1和圖2，正如【背景技術】中所指出的，線源21作為蒸發材料收納于坩禍12內。待坩禍12抽至高真空后，加熱器13加熱坩禍12使線源21蒸發進而從噴嘴11噴出，線源21的原子或分子以冷凝的方式沉積在待鍍工件表面。
[0041]在本申請實施例中，為了解決噴嘴堵塞的問題，發明人對原有的噴嘴系統進行了改進。
[0042]請參見圖3和圖4，噴嘴系統100包括具有用于收容蒸鍍材料的容納腔的載具1、布設于載具1周圍的用于加熱蒸鍍材料的蒸鍍加熱器2、安裝于載具1并用于供蒸鍍材料從載具1中噴出的噴嘴3、用于推出噴嘴3內堵塞的推出裝置4。
[0043]載具1具有用于收容蒸鍍材料的容納腔10。蒸鍍材料作為蒸發源在載具1的容納腔