一種pecvd沉積系統的制作方法
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及PECVD領域，尤其涉及一種PECVD沉積系統。
【背景技術】
[0002]硅基異質結電池是一種利用晶體硅基板和非晶硅薄膜制成的混合型太陽能電池。在硅基異質結電池，正反兩面的疊層結構可以是對稱結構。鈍化層除摻雜層外，是完全對稱的結構。沉積的順序可以是i/n，也可以先沉積i/p層。PECVD系統是模塊化系統，將硅片制絨及清洗處理之后，硅片通過上料機構放置到載板上，進入預熱腔室，然后完成i，η (或Ρ)層沉積，之后通過具有冷卻功能的冷卻機構進入下料機構。硅片在下料機構通過彈夾機構進行翻轉后轉移到下一 PECVD系統進行另一面鈍化層的沉積。
[0003]其中，硅片進入PECVD系統反應時是通過放在載板上來實現，因此載板有些部分會有硅的沉積，而載板從大氣進入腔室，加熱到冷卻的這種循環很容易使在載板上的沉積硅剝落到各個腔室內，造成沉積鈍化膜質量的下降。
[0004]實際應用中，因為硅沉積的薄膜很薄，一般在5-50nm之間，因此，PECVD系統的各個腔室一般在200-500次沉積之后進行一次清洗，但是這樣的清洗頻率對于載板的清洗往往太低效。因此載板和各個腔室如果進行同步清洗，會嚴重影響整個系統的正常運行。
[0005]因此，需要開發一種更有效的清洗載板的沉積系統，克服現有加工設備上存在的不足。

【發明內容】

[0006]本實用新型的目的在于克服現有技術中存在的缺陷，提供一種PECVD沉積系統，其改善了沉積質量，也提高了設備稼動率和生產良率。
[0007]為實現上述目的，本實用新型采用以下技術方案:
[0008]一種PECVD沉積系統，其特征在于，包括:多個處理腔室及載板傳送裝置；所述多個處理腔室至少包括上料機構及下料機構；所述載板傳送裝置可循環的將載板從上料機構傳送進入其他的處理腔室，在多個處理腔室中傳送，并從下料機構傳送出處理腔室；所述載板傳送裝置上設有載板分送機構，載板進入載板分送機構后由其分送到載板清洗室內進行清洗或者留在載板傳送裝置上；載板清洗室將清洗好后的載板傳送到載板傳送裝置。
[0009]優選的，所述處理腔室包括預熱腔室:用于對PECVD基板進行預熱處理；沉積腔室:用于對預熱好的PECVD基板進行膜層的沉積；冷卻腔室:用于對沉積好的PECVD基板進行冷卻。
[0010]優選的，所述PECVD基板為硅片。
[0011]優選的，所述載板分送機構還設有載板入料口，載板通過載板入料口傳輸到載板傳送裝置上。
[0012]優選的，所述載板傳送裝置為載板傳送軌道。
[0013]本實用新型采用以上技術方案，通過設計載板分送機構，可以通過載板分送機構將沉積硅的載板輸入到清洗室內進行單獨清洗，同時載板分送機構也同時將清洗好的載板輸送到上料機構，保證了整個沉積系統的正常運行時間，使得沉積的鈍化膜質量不受載板上的硅剝落影響，提高了設備稼動率、生產效率和沉積質量。
【附圖說明】
[0014]圖1為本實用新型PECVD沉積系統實施例1的結構示意圖；
[0015]圖2為本實用新型PECVD沉積系統實施例2的結構示意圖。
【具體實施方式】
[0016]為了使本實用新型的目的、技術方案及優點更加清楚明白，以下結合附圖及實施例，對本實用新型進行進一步詳細說明。應當理解，此處所描述的具體實施例僅僅用以解釋本實用新型，并不用于限定本實用新型。
[0017]實施例1:
[0018]如圖1所示，本實用新型公開了一種PECVD沉積系統，其包括:多個處理腔室1及載板傳送裝置2 ;所述多個處理腔室1包括上料機構11、預熱腔室12:用于對基板進行預熱處理；沉積腔室13:用于對預熱好的基板進行膜層的沉積、冷卻腔室14:用于對沉積好的基板進行冷卻、下料機構15，所述載板傳送裝置2為可循環的傳送裝置，處理腔室1中上料機構11的進口與下料機構15的出口通過載板傳送裝置2相連接，載板由上料機構11的進口進入處理腔室，由上料機構11傳送至預熱腔室對基板進行預熱處理；由預熱腔室12傳送至沉積腔室13對預熱好的基板進行膜層的沉積；由沉積腔室13傳送至冷卻腔室14對沉積好膜層的基板進行冷卻；最后由冷卻腔室14傳送至下料機構15將沉積好的基板送出。所述載板傳送裝置2上設有載板分送機構21，載板3進入載板分送機構21，然后其中一部分載板31由載板分送機構21分送到載板清洗室4內進行清洗，一部分載板32由載板分送機構21分送到載板傳送裝置2上，載板傳送裝置2將載板32輸送到上料機構內11，以維持正常的整個沉積系統的正常運行，同時，所述載板分送機構21還設有載板入料口 22，清洗好的載板33通過載板入料口 22傳輸到載板傳送裝置2上，滿足沉積系統對載板的需求。其中，所述載板傳送裝置2為載板傳送軌道，所述PECVD基板為硅片。
[0019]實施例2:
[0020]如圖2所示，與實施例一不同的是，本實施例中，載板分送機構21設在上料機構11偵k并且設有多個沉積腔室13。
[0021 ] 本實用新型沉積系統中各個腔室的清洗頻率和載板清洗室的清洗頻率可以設定不一致，載板可通過載板分送機構由預先可設定清洗頻率輸出載板在腔室外進行清洗，提高系統正常運行時間。同時沉積的鈍化膜質量不受載板的硅剝落影響，提高了設備稼動率、生產效率和沉積質量。
[0022]以上所述僅為本實用新型的較佳實施例而已，并不用以限制本實用新型，凡在本實用新型的精神和原則之內所作的任何修改、等同替換和改進等，均應包含在本實用新型的保護范圍之內。
【主權項】
1.一種PECVD沉積系統，其特征在于，包括:多個處理腔室及載板傳送裝置；所述多個處理腔室至少包括上料機構及下料機構；所述載板傳送裝置可循環的將載板從上料機構傳送進入其他的處理腔室，在多個處理腔室中傳送，并從下料機構傳送出處理腔室；所述載板傳送裝置上設有載板分送機構，載板進入載板分送機構后由其分送到載板清洗室內進行清洗或者留在載板傳送裝置上；載板清洗室將清洗好后的載板傳送到載板傳送裝置。2.根據權利要求1所述的PECVD沉積系統，其特征在于，所述處理腔室包括預熱腔室:用于對PECVD基板進行預熱處理；沉積腔室:用于對預熱好的PECVD基板進行膜層的沉積；冷卻腔室:用于對沉積好的PECVD基板進行冷卻。3.根據權利要求2所述的PECVD沉積系統，其特征在于，所述PECVD基板為硅片。4.根據權利要求1所述的PECVD沉積系統，其特征在于，所述載板分送機構還設有載板入料口，載板通過載板入料口傳輸到載板傳送裝置上。5.根據權利要求1所述的PECVD沉積系統，其特征在于，所述載板傳送裝置為載板傳送軌道。
【專利摘要】本實用新型公開了一種PECVD沉積系統，其包括：多個處理腔室及載板傳送裝置；所述多個處理腔室至少包括上料機構及下料機構；所述載板傳送裝置可循環的將載板從上料機構傳送進入其他的處理腔室，在多個處理腔室中傳送，并從下料機構傳送出處理腔室；所述載板傳送裝置上設有載板分送機構，載板進入載板分送機構后由其分送到載板清洗室內進行清洗或者留在載板傳送裝置上；載板清洗室將清洗好后的載板傳送到載板傳送裝置。通過載板分送機構將沉積硅的載板輸入到清洗室內進行單獨清洗使得沉積的鈍化膜質量不受硅剝落影響，提高了生產效率和沉積質量。
【IPC分類】C23C16/44
【公開號】CN205077136
【申請號】CN201520686126
【發明人】楊與勝, 王樹林, 倪鵬玉, 李鵬飛, 陳劍雨
【申請人】鈞石(中國)能源有限公司
【公開日】2016年3月9日
【申請日】2015年9月7日