常溫多層ito柔性基材單鼓立式連續氣相沉積設備系統的制作方法
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及信息及信息應用領域，具體涉及一種常溫多層ΙΤ0柔性基材單鼓立式連續氣相沉積設備系統。
【背景技術】
[0002]ΙΤ0透明導電薄膜是一類既透明又導電的特殊功能性薄膜，具有禁帶寬、可見光譜區內光的透射率高和電阻率低等共同的光學和電性能，目前廣泛用于顯示器、各種光電電子器件、觸摸屏、防輻射、建筑的節能保溫、交通工具上的防霧除霜和太陽能等眾多領域。ΙΤ0透明導電薄膜的工業化生產通常采用物理氣相沉積法。
[0003]ΙΤ0透明導電薄膜的工業化生產通常采用物理氣相沉積法或者化學氣相沉積法制備。ΙΤ0透明導電薄膜為了滿足薄膜高的光學透過率和低的表面電阻的光電指標，在薄膜沉積時就必須使得所沉積的薄膜微觀結構達到一定的要求，這就決定了 ΙΤ0透明導電薄膜的沉積過程必須在較高的溫度下進行。
[0004]目前物理氣相沉積法制備ΙΤ0透明導電薄膜多在真空條件下，加溫到200°C —350°C左右。使得ΙΤ0透明導電薄膜目前多只能沉積在玻璃等可以耐一定溫度的基體上，而不能沉積在不耐高溫的透明塑料薄膜。過多的加熱不僅消耗大量的能源，增加成本，對生產設備也提出許多的苛刻的要求。同時，由于在薄膜制備時始終處于高溫的狀況下，也就極大的限制了 ΙΤ0透明導電薄膜沉積所用基體材料的選用范圍，使得很多價格合理的高透明材料不能作為ΙΤ0透明導電薄膜的基體應用，也就相應的提高了 ΙΤ0透明導電薄膜產品的成本和價格，而且更加限制了 ΙΤ0透明導電薄膜產品的應用范圍。
[0005]而且，在薄膜制備時始終處于高溫的狀況下，也會促使ΙΤ0透明導電薄膜沉積所用基體材料的變形，改變了 IT0透明導電薄膜沉積所用基體材料的某些物理和化學性能，降低了 ΙΤ0透明導電薄膜產品的成品率。高溫設備的操作也給生產安全帶來問題，會留下對生產一線人員生命保護和生產設備維護的不可預知的隱患。
[0006]目前，缺乏一種生產效率高的常溫多層ΙΤ0柔性基材單鼓立式連續氣相沉積設備系統。
【實用新型內容】
[0007]為了克服上述現有技術中的不足之處，本實用新型的目的是提供一種工作穩定性好的常溫多層ΙΤ0柔性基材單鼓立式連續氣相沉積設備系統。
[0008]為了實現上述技術目的，本實用新型采用的技術方案的如下:本實用新型提供了一種常溫多層ΙΤ0柔性基材單鼓立式連續氣相沉積設備系統，所述常溫多層ΙΤ0柔性基材單鼓立式連續氣相沉積設備系統包括薄膜真空沉積系統和自控卷繞系統；
[0009]所述薄膜真空沉積系統包括兩個分隔開的相互獨立的低真空度腔體和高真空度腔體，所述低真空度腔體與高真空度腔體之間設置有隔板；
[0010]所述薄膜真空沉積系統與所述自控卷繞系統之間設置有卷繞機隔板；[0011 ] 所述自控卷繞系統包括卷繞機底座和自動控制機構，所述卷繞機底座上設置有多層分開的放料機構、自控張緊機構、同步卷繞機構、立式單鼓機構和收料機構；
[0012]所述放料機構、自控張緊機構、同步卷繞機構、立式單鼓機構、收料機構均與自動控制機構相連接；
[0013]所述放料機構為放料輥和放料及分開系統，所述收料機構為收料復合機構和收料輥；所述低真空度腔體和低真空度腔體內均設置有各自獨立的相互分開的真空抽氣系統；所述放料及分開系統、立式單鼓機構、同步卷繞機構、收料復合機構上均設置有各自獨立的同步驅動系統；
[0014]所述低真空度腔體設置有可沿著水平軌道開合的第一移動門，所述高真空度腔體裝設有第二移動門，所述低真空腔體內設置有可視實時監控系統。
[0015]進一步地，所述立式單鼓機構上設置有立式單鼓，所述高真空度腔體內圍繞著立式單鼓周圍均布了多對立式中頻平面的非平衡陰極，每對非平衡陰極均設置有自隔氣的整體式的封閉屏蔽罩和各自獨立的供氣機構。
[0016]進一步地，所述自控卷繞系統內部設置有表面處理機構。
[0017]更進一步地，所述自控卷繞系統內部設置有對分開后各層ΙΤ0柔性基材的卷繞進程有實時同步的自動糾偏機構。
[0018]進一步地，所述自控卷繞系統的立式單鼓內還設置有薄膜沉積時的鼓表面的溫度控制機構。
[0019]進一步地，所述第二移動門通過鉸鏈與高真空度腔體鉸接連接。
[0020]有益效果:本實用新型結構簡單，使用方便，工作穩定性好，能夠在常溫下制備，生產效率高。薄膜真空沉積系統和自控卷繞系統不固定連接，完全分離，極大地減少了真空腔體的開孔和結構復雜性，使得卷繞機構約束少；各個組成部分協調一致，同步運行，工作穩定性好，能夠做到獨立張緊系統和獨立糾偏系統同步控制。實現了多層復合ΙΤ0柔性基材安裝和拆卸的自動化，減少了對膜層的損傷，提高了生產效率。
[0021]相對于現有技術，本實用新型具有如下優點:
[0022](1)非平衡陰極布置形式和自隔氣的整體式封閉屏蔽罩和各自獨立的供氣機構，主要是通過低氣壓等離子體的非均勻放電性形式，是在電磁場與等離子體之間通過歐姆加熱、隨機加熱和二次電子發射加熱等諸多電子加熱的機制，間接的微小范圍內局部暫時提高基體表面的瞬時溫度，來達到不對基體進行劇烈加熱而保證形成導電薄膜的材料可以最大可能的按要求沉積在基體的表面。
[0023](2)等離子體能在不對基體加熱的條件下，通過改善物理氣相沉積的工藝參數和采用更加合理的設備結構以及經過優化的磁場布置形式等多種技術和理論的綜合，促使形成導電薄膜的材料可以最大可能的按要求沉積在基體的表面。為薄膜在基體表面的生長提供必要而且足夠的活化能。實現了溫超大面積多層ΙΤ0柔性基材的工業化生產。
[0024](3)采用物理氣相沉積技術將透明導電氧化物導電玻璃薄膜在室溫的條件下沉積在PET、PEN、PC等多層復合的柔性透明塑料基體上，并作為柔性光電子基礎材料而廣泛用于柔性顯示器、各種柔性光電電子器件、柔性共形觸摸屏等領域。
【附圖說明】
[0025]圖1為本實用新型的結構示意圖；
[0026]1放料輥；2自控張緊系統；3表面處理機構；4立式單鼓機構及溫控系統；5自動糾偏機構；6收料復合機構；7收料輥；8卷繞機底座；9卷繞機隔板；10低真空度腔體；11隔板；12高真空度腔體；13非平衡陰極；14放料及分開系統；15第二移動門；16第一移動門。
【具體實施方式】
[0027]以下通過實施例進一步說明本實用新型。應該理解的是，這些實施例是本實用新型的闡釋和舉例，并不以任何形式限制本實用新型的范圍。
[0028]實施例1
[0029]本實用新型提供了一種常溫多層ΙΤ0柔性基材單鼓立式連續氣相沉積設備系統，所述常溫多層ΙΤ0柔性基材單鼓立式連續氣相沉積設備系統包括薄膜真空沉積系統和自控卷繞系統；
[0030]所述薄膜真空沉積系統包括兩個分隔開的相互獨立的低真空度腔體和高真空度腔體，所述低真空度腔體與高真空度腔體之間設置有隔板；
[0031]所述薄膜真空沉積系統與所述自控卷繞系統之間設置有卷繞機隔板；
[0032]所述自控卷繞系統包括卷繞機底座和自動控制機構，所述卷繞機底座上設置有多層分開的放料機構、自控張緊機構、同步卷繞機構、立式單鼓機構和收料機構；
[0033]所述放料機構、自控張緊機構、同步卷繞機構、立式單鼓機構、收料機構均與自動控制機構相連接。
[0034]所述放料機構為放料輥和放料及分開系統，所述收料機構為收料復合機構和收料輥；所述低真空度腔體和低真空度腔體內均設置有各自獨立的相互分開的真空抽氣系統；所述放料及分開系統、立式單鼓機構、同步卷繞機構、收料復合機構上均設置有各自獨立的同步驅動系統。
[0035]所述低真空度腔體設置有可沿著水平軌道開合的第一移動門；所述高真空度腔體裝設有第二移動