一種真空鍍膜機用密封結構的制作方法
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及納米鍍膜設備技術領域，具體涉及一種真空鍍膜機用密封結構。
【背景技術】
[0002]納米鍍膜能在金、銀、媽、鈷、鈀等不同金屬表面形成2-10nm厚度左右的鍍層，從而使金屬表面具有良好的耐磨性、防水、導電性能、耐腐蝕、耐高溫、防氧化及改變表面張力等特性，從而提升材料性能，可以全面的改善產品品質。
[0003]真空鍍膜機的真空爐是在真空環境中對物品進行加熱爐子，其加熱方式比較多，如電阻加熱、感應加熱和微波加熱等。目前，真空爐的工件加熱方式是工件固定不動放在掛架上，這樣會造成工件加熱不均勻，變形會大，通常采用設置于真空爐下方的電機來驅動掛架旋轉，以解決工件加熱不均勻的問題，但其密封性較差，抽真空效果不好，生產效率低；且影響鍍膜效果，制得的成品良品率低。
【發明內容】
[0004]為了克服現有技術中存在的缺點和不足，本實用新型的目的在于提供一種生產效率高和成品良品率高的真空鍍膜機用密封結構。
[0005]本實用新型的目的通過下述技術方案實現:一種真空鍍膜機用密封結構，包括真空爐、設置于真空爐內的掛架、以及固定于真空爐下方的用于驅動掛架旋轉的電機，電機包括轉軸，真空爐的底部固定有底板，底板的中部開設有通孔，轉軸的頂部穿過通孔并與掛架的底部固定連接，轉軸與通孔的連接處設置有密封件，密封件由上到下依次設置有第一密封圈、第一軸承、支撐環、第二軸承和第二密封圈。
[0006]進一步的，所述第二密封圈的底部設置有第一消音圈。
[0007]進一步的，所述密封件的頂部固定有法蘭蓋。
[0008]進一步的，所述法蘭蓋與所述轉軸之間設置有第二消音圈。
[0009]進一步的，所述第一消音圈和第二消音圈均為丁基橡膠圈。
[0010]進一步的，所述電機的頂部固定有電機法蘭，電機法蘭與底板的底部固定連接。
[0011]進一步的，所述密封件的底部向外凸設有環形凸塊，所述通孔的底部開設有與環形凸塊相配合的環形凹槽，環形凸塊嵌入環形凹槽內，環形凸塊的底部與所述電機法蘭固定連接。
[0012]進一步的，所述環形凸塊與所述環形凹槽的連接處設置有第三密封圈。
[0013]本實用新型的有益效果在于:本實用新型的密封結構通過在電機轉軸與真空爐底板通孔的連接處設置密封件，密封件由上到下依次設置有第一密封圈、第一軸承、支撐環、第二軸承和第二密封圈，其密封效果好，使得真空爐抽真空效果好，生產效率高；且鍍膜效果好，制得的成品良品率尚。
【附圖說明】
[0014]圖1是本實用新型的局部剖視圖。
[0015]圖2是本實用新型所述密封件的局部剖視圖。
[0016]附圖標記為:1 一真空爐、11 一底板、2—掛架、3 —電機、31—轉軸、32 —電機法蘭、4 一密封件、40—第一消音圈、41一第一密封圈、42—第一軸承、43—支撐環、44 一第二軸承、45—第二密封圈、46—環形凸塊、47—第三密封圈、5—法蘭蓋、50—第二消音圈。
【具體實施方式】
[0017]為了便于本領域技術人員的理解，下面結合實施例及附圖1-2對本實用新型作進一步的說明，實施方式提及的內容并非對本實用新型的限定。
[0018]見圖1-2，一種真空鍍膜機用密封結構，包括真空爐1、設置于真空爐I內的掛架2、以及固定于真空爐I下方的用于驅動掛架2旋轉的電機3，電機3包括轉軸31，真空爐I的底部固定有底板11，底板11的中部開設有通孔，轉軸31的頂部穿過通孔并與掛架2的底部固定連接，轉軸31與通孔的連接處設置有密封件4，密封件4由上到下依次設置有第一密封圈41、第一軸承42、支撐環43、第二軸承44和第二密封圈45。
[0019]本實用新型的密封結構通過在電機3轉軸31與真空爐I底板11通孔的連接處設置密封件4，密封件4與轉軸31之間由上到下依次設置有第一密封圈41、第一軸承42、支撐環43、第二軸承44和第二密封圈45，其密封效果好，使得真空爐I抽真空效果好，生產效率尚；且鏈I旲效果好，制得的成品良品率尚。
[0020]本實施例中，所述第二密封圈45的底部設置有第一消音圈40。第一消音圈40的設置可以減少轉軸31轉動時產生的噪音。
[0021]本實施例中，所述密封件4的頂部固定有法蘭蓋5。法蘭蓋5的設置便于密封件4的密封。
[0022]本實施例中，所述法蘭蓋5與所述轉軸31之間設置有第二消音圈50。第二消音圈50的設置可以減少轉軸31轉動時產生的噪音。
[0023]本實施例中，所述第一消音圈40和第二消音圈50均為丁基橡膠圈。丁基橡膠圈的消音效果好，材料環保，成本低。
[0024]本實施例中，所述電機3的頂部固定有電機法蘭32，電機法蘭32與底板11的底部固定連接。電機法蘭32的設置便于電機3安裝在真空爐I的底板11上，安裝方便。
[0025]本實施例中，所述密封件4的底部向外凸設有環形凸塊46，所述通孔的底部開設有與環形凸塊46相配合的環形凹槽，環形凸塊46嵌入環形凹槽內，環形凸塊46的底部與所述電機法蘭32固定連接。環形凸塊46和環形凹槽的設置便于密封件4的固定，安裝牢固，密封性好。
[0026]本實施例中，所述環形凸塊46與所述環形凹槽的連接處設置有第三密封圈47。第三密封圈47的設置可以進一步提高密封效果，使得真空爐I抽真空效果好，生產效率高，制得的成品良品率尚。
[0027]上述實施例為本實用新型較佳的實現方案，除此之外，本實用新型還可以其它方式實現，在不脫離本實用新型構思的前提下任何顯而易見的替換均在本實用新型的保護范圍之內。
【主權項】
1.一種真空鍍膜機用密封結構，其特征在于:包括真空爐、設置于真空爐內的掛架、以及固定于真空爐下方的用于驅動掛架旋轉的電機，電機包括轉軸，真空爐的底部固定有底板，底板的中部開設有通孔，轉軸的頂部穿過通孔并與掛架的底部固定連接，轉軸與通孔的連接處設置有密封件，密封件由上到下依次設置有第一密封圈、第一軸承、支撐環、第二軸承和第二密封圈。2.根據權利要求1所述的一種真空鍍膜機用密封結構，其特征在于:所述第二密封圈的底部設置有第一消音圈。3.根據權利要求2所述的一種真空鍍膜機用密封結構，其特征在于:所述密封件的頂部固定有法蘭蓋。4.根據權利要求3所述的一種真空鍍膜機用密封結構，其特征在于:所述法蘭蓋與所述轉軸之間設置有第二消音圈。5.根據權利要求4所述的一種真空鍍膜機用密封結構，其特征在于:所述第一消音圈和第二消音圈均為丁基橡膠圈。6.根據權利要求1所述的一種真空鍍膜機用密封結構，其特征在于:所述電機的頂部固定有電機法蘭，電機法蘭與底板的底部固定連接。7.根據權利要求6所述的一種真空鍍膜機用密封結構，其特征在于:所述密封件的底部向外凸設有環形凸塊，所述通孔的底部開設有與環形凸塊相配合的環形凹槽，環形凸塊嵌入環形凹槽內，環形凸塊的底部與所述電機法蘭固定連接。8.根據權利要求7所述的一種真空鍍膜機用密封結構，其特征在于:所述環形凸塊與所述環形凹槽的連接處設置有第三密封圈。
【專利摘要】本實用新型涉及納米鍍膜設備技術領域，具體涉及一種真空鍍膜機用密封結構，包括真空爐、設置于真空爐內的掛架、以及固定于真空爐下方的用于驅動掛架旋轉的電機，電機包括轉軸，真空爐的底部固定有底板，底板的中部開設有通孔，轉軸的頂部穿過通孔并與掛架的底部固定連接，轉軸與通孔的連接處設置有密封件，密封件由上到下依次設置有第一密封圈、第一軸承、支撐環、第二軸承和第二密封圈。本實用新型的密封結構通過在轉軸與通孔的連接處設置密封件，密封件由上到下依次設置有第一密封圈、第一軸承、支撐環、第二軸承和第二密封圈，其密封效果好，使得真空爐抽真空效果好，生產效率高；且鍍膜效果好，制得的成品良品率高。
【IPC分類】C23C14/56
【公開號】CN204779794
【申請號】CN201520413779
【發明人】肖橋兵
【申請人】廣東易能納米科技有限公司
【公開日】2015年11月18日
【申請日】2015年6月16日